CN220021057U - 一种水槽液面流向改善装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种水槽液面流向改善装置，包括两个对称地设置在水槽底部的第一喷淋组件和设置在水槽上方的第二喷淋组件，第二喷淋头通过固定支架固定在水槽上方，每个喷淋组件均包括喷淋管和设置在喷淋管上的多个间隔均匀的喷淋头，第一喷淋组件和第二喷淋组件的喷淋管均沿晶圆的轴向设置，两个第一喷淋组件的喷淋头相对设置，第二喷淋组件的喷淋头设置向水槽的液面方向喷吹以将水槽的表面中心液体吹向水槽表面边缘。本装置通过设置多个喷淋组件配合使水槽内形成液体循环流动，将浮于液体表面的污染液体喷吹至水槽边缘，防止晶圆二次污染。

Description

一种水槽液面流向改善装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗设备技术领域，尤其涉及一种水槽液面流向改善装置。

背景技术

随着电子产品的日益普及和更新，半导体的制造工艺也得到了飞速的发展。在半导体的制造过程中，酸槽清洗工艺贯穿在整个流程中，发挥着很大的作用。

目前在蚀刻后的晶圆清洗制程都是槽体式的清洗设备，其中使用酸槽清洗后再使用超纯水清洗，然而晶圆从酸槽中取出再放入水槽后容易将酸液带入水槽内，或在清洗后也会残留大量酸液在水槽内，通常浮于水面，在晶圆抓出槽时粘附在晶圆表面，造成整批性的交叉污染。现有技术中在水槽内设置动力装置改善水流，但是在实际制程中仍然容易在晶圆表面产生线条状污染，影响产品品质。

因此，现有技术中仍然存在对水槽液面流向改善装置的需求。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例的目的在于提出一种水槽液面流向改善装置，本装置通过设置多个喷淋组件配合使水槽内形成液体循环流动，将浮于液体表面的污染液体喷吹至水槽边缘，防止晶圆二次污染。

基于上述目的，本实用新型实施例的提供了一种水槽液面流向改善装置，水槽用于晶圆清洗，装置包括两个对称地设置在水槽底部的第一喷淋组件和设置在水槽上方的第二喷淋组件，第二喷淋头通过固定支架固定在水槽上方，每个喷淋组件均包括喷淋管和设置在喷淋管上的多个间隔均匀的喷淋头，第一喷淋组件和第二喷淋组件的喷淋管均沿晶圆的轴向设置，两个第一喷淋组件的喷淋头相对设置，第二喷淋组件的喷淋头设置向水槽的液面方向喷吹以将水槽的表面中心液体吹向水槽表面边缘。

在一些实施方式中，两个第一喷淋组件的喷淋管分别与两个相对的水槽侧壁抵接。

在一些实施方式中，两个第一喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为0～25°。

在一些实施方式中，第二喷淋组件设置于水槽的中心上方处，第二喷淋组件的喷淋头的喷吹范围为0～120°。

在一些实施方式中，第二喷淋组件设置于水槽的任意一个侧壁上方处，第二喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为10～45°。

在一些实施方式中，第二喷淋组件设置于水槽上方0～10cm处。

本实用新型至少具有以下有益技术效果：

本实用新型提供了一种水槽液面流向改善装置，包括三组喷淋组件，每个喷淋组件上都间隔地设置有多个喷头，其中两个喷淋管对称地设置在水槽底部的靠近水槽壁的位置，两个喷淋管的喷头相对设置，另一个喷淋管设置在水槽上方，其喷头的喷淋方向设置为将水槽表面的液体由中心吹向任意一侧，本装置的喷淋组件配合使水槽内形成液体循环流动，将浮于液体表面的污染液体喷吹至水槽边缘，防止晶圆二次污染。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的实施例。

图1为本实用新型提供的晶圆表面污染的实施例的示意图；

图2为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的第一实施例的主视图；

图3为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的第一实施例的俯视图；

图4为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的第二实施例的示意图。

附图标记说明：

1、水槽；2、第一喷淋组件；3、第二喷淋组件；4、喷淋管；5、喷淋头。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本实用新型实施例进一步详细说明。

除非另有定义，本文所使用的所有技术和科学术语与属于本实用新型技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文在说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型，例如，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。

本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含；本实用新型的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图说明中，当元件被称为“固定于”或“安装于”或“设置于”或“连接于”另一个元件上，它可以是直接或间接位于该另一个元件上。例如，当一个元件被称为“连接于”另一个元件上，它可以是直接或间接连接到该另一个元件上。

此外，在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本实用新型的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

目前在蚀刻后的晶圆清洗制程都是槽体式的清洗设备，使用酸槽清洗后再使用超纯水清洗，然而晶圆从酸槽中取出再放入水槽后容易将酸液带入水槽内，由于水槽内的液体流动方向，酸液通常累积在水槽中心表面，导致在水槽内液体表面最中心部位形成条状酸液污染物聚集，在晶圆取出过程中，由于溶液表面张力作用，容易粘粘在晶圆表面形成条状污染，影响产品品质，如图1所示即为本实用新型提供的晶圆表面污染的实施例的示意图。

因此，本实用新型提供了一种槽液面流向改善装置，如图2～4所示为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的示意图，该水槽用于晶圆清洗，如图2所示为该装置的主视图，在实际清洗过程中，晶圆表面沿该主视图平面放置于水槽内，本实用新型的装置具体包括：

包括两个对称地设置在水槽1底部的第一喷淋组件2和设置在水槽上方的第二喷淋组件3，第二喷淋头3通过固定支架(图中未示出)固定在水槽1上方，每个喷淋组件均包括喷淋管和设置在喷淋管4上的多个间隔均匀的喷淋头5，第一喷淋组件和第二喷淋组件的喷淋管4均沿晶圆的轴向设置，两个第一喷淋组件2的喷淋头5相对设置，第二喷淋组件3的喷淋头5设置向水槽的液面方向喷吹以将水槽的表面中心液体吹向水槽表面边缘。

进一步地，第二喷淋组件设置于水槽上方0～10cm处。

若仅设置在水槽底部的两个喷淋组件，在喷淋过程中，水槽内的液体形成底部相向流动，顶部相背流动的流向，然而这样的设置导致在水槽内液体表面最中心部位形成条状酸液污染物聚集，在晶圆取出过程中容易粘粘在晶圆表面形成条状污染。因此，本装置在水槽上方同样设置一个喷淋组件，该喷淋组件的喷淋方向设置为将水槽表面的液体由中心吹向任意一侧，即其主要作用为将水槽表面的中心污染物吹向水槽的边缘位置，以防止对晶圆造成二次污染。

下面为根据本实用新型具体实施例作出的进一步解释。

实施例1

如图2～3所示为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的第一实施例的主视图和俯视图，其中，两个第一喷淋组件2对称地设置在水槽1底部，两个第一喷淋组件2的喷淋管4分别与两个相对的水槽1侧壁抵接，两个第一喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为0～25°。第二喷淋组件3设置于水槽的1任意一个侧壁上方处，本实施例的的喷淋组件设置于水槽右侧壁的上方，距离水槽10cm处，第二喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为10～45°。

喷淋组件包括喷淋管4和喷淋头5，如图3所述，本实施例中在喷淋管4上均匀间隔地设置了7个喷淋头5。

实施例2

如图4所示为本实用新型提供的水槽液面流向改善装置的第二实施例的主视图，该实施例与实施例1的区别在于第二喷淋组件的设置位置，在本实施例中，第二喷淋组件设置于水槽的中心上方处，第二喷淋组件的喷淋头的喷吹范围为0～120°，即同样可以实现将水槽表面的中心污染物吹向水槽的边缘位置，以防止对晶圆造成二次污染，其它设置均与实施例1相同，因此不再赘述。

以上是本实用新型公开的示例性实施例，但是应当注意，在不背离权利要求限定的本实用新型实施例公开的范围的前提下，可以进行多种改变和修改。此外，尽管本实用新型实施例公开的元素可以以个体形式描述或要求，但除非明确限制为单数，也可以理解为多个。

应当理解的是，在本文中使用的，除非上下文清楚地支持例外情况，单数形式“一个”旨在也包括复数形式。还应当理解的是，在本文中使用的“和/或”是指包括一个或者一个以上相关联地列出的项目的任意和所有可能组合。

上述本实用新型实施例公开实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。

所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本实用新型实施例公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本实用新型实施例的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，并存在如上的本实用新型实施例的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。因此，凡在本实用新型实施例的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型实施例的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种水槽液面流向改善装置，水槽用于晶圆清洗，其特征在于，包括两个对称地设置在所述水槽底部的第一喷淋组件和设置在所述水槽上方的第二喷淋组件，所述第二喷淋组件通过固定支架固定在所述水槽上方，每个喷淋组件均包括喷淋管和设置在所述喷淋管上的多个间隔均匀的喷淋头，所述第一喷淋组件和所述第二喷淋组件的喷淋管均沿晶圆的轴向设置，所述两个第一喷淋组件的所述喷淋头相对设置，所述第二喷淋组件的喷淋头设置向所述水槽的液面方向喷吹以将所述水槽的表面中心液体吹向水槽表面边缘。

2.根据权利要求1所述的水槽液面流向改善装置，其特征在于，所述两个第一喷淋组件的喷淋管分别与两个相对的水槽侧壁抵接。

3.根据权利要求1所述的水槽液面流向改善装置，其特征在于，所述两个第一喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为0～25°。

4.根据权利要求1所述的水槽液面流向改善装置，其特征在于，所述第二喷淋组件设置于所述水槽的中心上方处，所述第二喷淋组件的喷淋头的喷吹范围为0～120°。

5.根据权利要求1所述的水槽液面流向改善装置，其特征在于，所述第二喷淋组件设置于所述水槽的任意一个侧壁上方处，所述第二喷淋组件的喷淋头的喷吹方向与水平面夹角为10～45°。

6.根据权利要求1所述的水槽液面流向改善装置，其特征在于，所述第二喷淋组件设置于所述水槽上方0～10cm处。