CN219811478U - 一种静电吸附盘清洁结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种静电吸附盘清洁结构，属于清洁结构技术领域，包括第一环板，所述第一环板的上端设置有环形滑轨，所述环形滑轨的上端设置有滑块，所述滑块的上端设置有第二环板，所述第二环板的外壁上设置有齿圈，本实用新型通过电动机带动齿轮转动，从而带动齿圈转动，通过滑块、环形滑轨配合，使得带动第二环板转动，从而带动活动板围绕静电吸附盘并在其上方转动，使得清扫刷对其清理，供气装置供气通过主管，通气管向外喷气，将其杂质离子清除出静电吸附盘，效果良好，无需人工清理，清理效率高效，方便实用，当静电吸附盘使用时，将活动板移动到一侧即可，无需进行安装拆卸，使用方便快捷；通过半环形框板便于收集清理。

Description

一种静电吸附盘清洁结构

技术领域

本实用新型属于清洁结构技术领域，具体涉及一种静电吸附盘清洁结构。

背景技术

在晶圆的刻蚀、物理气相沉积和化学气相沉积等工艺步骤中，通常需要采用静电吸附装置来固定和支撑晶圆，静电吸附装置一般包括基座以及设置在基座上用于吸附晶圆的静电吸附盘，静电吸附装置利用静电吸附原理将待加工的晶圆吸附在静电吸附盘表面，避免了晶圆在进行工艺处理过程中发生移位或者错位；

但是，现有的静电吸附装置中的静电吸附盘表面常常会聚集一些杂质粒子，而现有的静电吸附装置仅仅用于吸附晶圆，对于静电吸附盘表面的杂质粒子无任何去除措施，这不仅会导致静电吸附机台产生错误报警，影响晶圆处理工序的正常进行，而且还有可能造成晶圆表面的损伤，目前，对静电吸附装置中静电吸附盘表面杂质粒子的清除，依靠工作人员定期开腔、人工维护，费时费力，清理效率慢。

实用新型内容

本实用新型提供了一种静电吸附盘清洁结构，以解决上述背景技术中提到的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种静电吸附盘清洁结构，包括第一环板，所述第一环板的上端设置有环形滑轨，所述环形滑轨的上端设置有滑块，所述滑块的上端设置有第二环板，所述第二环板的外壁上设置有齿圈，所述齿圈的一侧啮合连接有齿轮，所述齿轮的下端连接有电动机输出端，所述电动机固定在第一环板外壁上，所述第二环板的外部设置有圆形基座，所述圆形基座的上端设置有静电吸附盘，所述静电吸附盘的上方设置有活动板，所述活动板的上端设置有供气装置，所述供气装置的输气口端连通有主管，所述主管设置在活动板内部，所述主管的下端均匀连通有通气管，所述通气管设置倾斜，且朝向第一环板方向，所述主管的下端均匀设置有清扫刷，所述活动板靠近第二环板的一侧下端设置有转动轴，所述转动轴转动连接在第二环板上端。

进一步，所述转动轴的内部设置有固定孔，所述固定孔贯穿转动轴与活动板并延伸进第二环板内部，所述活动板的外侧连接有挂绳，所述挂绳的下端连接有卡块。

进一步，所述卡块的横截面为十字形状。

进一步，所述第一环板的内部两侧固定有固定板一端，所述固定板另一端固定在圆形基座外壁上。

进一步，所述第一环板、圆形基座与固定板组成两半环形槽，所述半环形槽内均设置有半环形框板，所述半环形框板的底部抵接有转动块，所述转动块设置有多组，所述转动块分别转动连接在第一环板、固定板、圆形基座上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过电动机带动齿轮转动，从而带动齿圈转动，通过滑块、环形滑轨配合，使得带动第二环板转动，从而带动活动板围绕静电吸附盘并在其上方转动，使得清扫刷对其清理，供气装置供气通过主管，通气管向外喷气，将其杂质离子清除出静电吸附盘，效果良好，无需人工清理，清理效率高效，方便实用，当静电吸附盘使用时，将活动板移动到一侧即可，无需进行安装拆卸，使用方便快捷；通过半环形框板便于收集清理。

附图说明

图1为本实用新型一种静电吸附盘清洁结构的结构示意图。

图2为本实用新型第一环板、第二环板的内部结构示意图。

图3为本实用新型的局部剖视图。

图4为本实用新型所述第一环板、圆形基座、固定板、半环形框板、转动块的连接结构示意图。

图中：1、第一环板；2、滑块；3、第二环板；4、供气装置；5、齿圈；6、活动板；7、转动轴；8、挂绳；9、卡块；10、齿轮；11、电动机；12、转动块；13、固定板；14、静电吸附盘；15、圆形基座；16、主管；17、通气管；18、清扫刷；19、固定孔；20、环形滑轨；21、半环形框板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供以下技术方案：

实施例一

一种静电吸附盘清洁结构，包括第一环板1，第一环板1的上端设置有环形滑轨20，环形滑轨20的上端设置有滑块2，滑块2的上端设置有第二环板3，第二环板3的外壁上设置有齿圈5，齿圈5的一侧啮合连接有齿轮10，齿轮10的下端连接有电动机11输出端，电动机11固定在第一环板1外壁上，第二环板3的外部设置有圆形基座15，圆形基座15的上端设置有静电吸附盘14，静电吸附盘14的上方设置有活动板6，活动板6的上端设置有供气装置4，供气装置4为气泵或气罐，供气装置4的输气口端连通有主管16，主管16设置在活动板6内部，主管16的下端均匀连通有通气管17，通气管17设置倾斜，且朝向第一环板1方向，主管16的下端均匀设置有清扫刷18，活动板6靠近第二环板3的一侧下端设置有转动轴7，转动轴7转动连接在第二环板3上端。

本实施例中，为了便于固定活动板6，转动轴7的内部设置有固定孔19，固定孔19贯穿转动轴7与活动板6并延伸进第二环板3内部，活动板6的外侧连接有挂绳8，挂绳8的下端连接有卡块9，卡块9与固定孔19相匹配，为了卡块9***固定孔19中，转动轴7不易移动，卡块9的横截面为十字形状。

本实施例是这样实施的：

本实用新型在使用时，当需要清理静电吸附盘14时，转动活动板6使之转动到静电吸附盘14上方，为防止活动板6移动，将卡块9***到固定孔19中进行固定，打开电动机11以及供气装置4，供气装置4供气通过主管14，最终通过通气管17出气，电动机11带动齿轮10转动，从而带动齿圈5转动，通过滑块2、环形滑轨20配合，使得带动第二环板3转动，从而带动活动板6围绕静电吸附盘14并在其上方转动，使得清扫刷18对其清理，通气管17向外喷气，将其杂质离子清除出静电吸附盘14，效果良好，无需人工清理，清理效率高效，方便实用，当静电吸附盘14使用时，将活动板6移动到一侧即可，无需进行安装拆卸，使用方便快捷。

实施例二

作为实施例一的优化方案，第一环板1的内部两侧固定有固定板13一端，固定板13另一端固定在圆形基座15外壁上，第一环板1、圆形基座15与固定板13组成两半环形槽，半环形槽内均设置有半环形框板21，半环形框板21的底部抵接有转动块12，转动块12设置有多组，转动块12分别转动连接在第一环板1、固定板13、圆形基座15上。

本实施例是这样实施的：

本实用新型在使用时，当通气管17喷气的杂质离子进入到半环形框板21内，当需要清理时，转动转动块12，即可打开半环形框板21，取下半环形框板21，进行清理，便于收集清理。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种静电吸附盘清洁结构，包括第一环板(1)，其特征在于：所述第一环板(1)的上端设置有环形滑轨(20)，所述环形滑轨(20)的上端设置有滑块(2)，所述滑块(2)的上端设置有第二环板(3)，所述第二环板(3)的外壁上设置有齿圈(5)，所述齿圈(5)的一侧啮合连接有齿轮(10)，所述齿轮(10)的下端连接有电动机(11)输出端，所述电动机(11)固定在第一环板(1)外壁上，所述第二环板(3)的外部设置有圆形基座(15)，所述圆形基座(15)的上端设置有静电吸附盘(14)，所述静电吸附盘(14)的上方设置有活动板(6)，所述活动板(6)的上端设置有供气装置(4)，所述供气装置(4)的输气口端连通有主管(16)，所述主管(16)设置在活动板(6)内部，所述主管(16)的下端均匀连通有通气管(17)，所述通气管(17)设置倾斜，且朝向第一环板(1)方向，所述主管(16)的下端均匀设置有清扫刷(18)，所述活动板(6)靠近第二环板(3)的一侧下端设置有转动轴(7)，所述转动轴(7)转动连接在第二环板(3)上端。

2.根据权利要求1所述的一种静电吸附盘清洁结构，其特征在于：所述转动轴(7)的内部设置有固定孔(19)，所述固定孔(19)贯穿转动轴(7)与活动板(6)并延伸进第二环板(3)内部，所述活动板(6)的外侧连接有挂绳(8)，所述挂绳(8)的下端连接有卡块(9)。

3.根据权利要求2所述的一种静电吸附盘清洁结构，其特征在于：所述卡块(9)的横截面为十字形状。

4.根据权利要求1所述的一种静电吸附盘清洁结构，其特征在于：所述第一环板(1)的内部两侧固定有固定板(13)一端，所述固定板(13)另一端固定在圆形基座(15)外壁上。

5.根据权利要求4所述的一种静电吸附盘清洁结构，其特征在于：所述第一环板(1)、圆形基座(15)与固定板(13)组成两半环形槽，所述半环形槽内均设置有半环形框板(21)，所述半环形框板(21)的底部抵接有转动块(12)，所述转动块(12)设置有多组，所述转动块(12)分别转动连接在第一环板(1)、固定板(13)、圆形基座(15)上。