CN219247962U - 反射模块和包括反射模块的相机模块 - Google Patents

Abstract

本申请涉及反射模块和包括反射模块的相机模块。相机模块包括：第一透镜模块，包括沿着第一光轴设置的一个或多个透镜；以及反射模块，从第一透镜模块发射的光入射到反射模块中，其中，反射模块包括：壳体，具有内部空间；可旋转支架，在平行于第一光轴的第一方向上支撑在壳体中，并且配置为能够相对于壳体旋转；反射支架，在与第一方向不同的第二方向上支撑在可旋转支架中，并且配置为能够相对于可旋转支架旋转；反射构件，设置在反射支架上；以及第一球构件，形成可旋转支架的旋转轴，以及沿着第一光轴延伸的假想线穿过第一球构件。根据本申请的反射模块和相机模块具有即使在向其施加外部冲击的情况下也能够精确地检测运动对象的运动量的结构。

Description

反射模块和包括反射模块的相机模块

相关申请的交叉引用

本申请要求于2021年12月13日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0177868号韩国专利申请、于2022年7月1日在韩国知识产权局提交的第10-2022-0081402号韩国专利申请以及于2022年11月24日在韩国知识产权局提交的第10-2022-0159770号韩国专利申请的优先权权益，其全部公开内容出于所有目的通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及反射模块和包括反射模块的相机模块。

背景技术

在移动设备中提供的相机模块被制造成与传统相机相比具有改进的性能。特别地，根据使用移动设备拍摄图像的频率的增加，对能够提供高变焦放大率的相机模块的需求增加。

相机模块能够通过移动透镜模块来调整变焦放大率。为了实现高变焦放大率，必须充分确保入射到相机的光到图像传感器的移动距离，即总长度或总轨迹长度(TTL)。为了实现长的总轨迹长度，可以增加相机的总长度。然而，移动设备的尺寸日益减小，并且因此，在充分增加相机模块的长度方面存在空间限制。

因此，需要一种能够尽可能长地形成光路而不增加相机模块的总长度或者同时减小相机模块的总长度的结构。

此外，最近的相机模块包括可移动或可旋转的反射器，其能够折射或反射光以实现长的光路并执行光学图像稳定功能。为了使用反射器折射或反射光，需要精确地感测其位置，因为需要精细地调节反射器。为此，相机模块可以包括能够检测反射器的运动量的位置传感器。

然而，传统的相机模块存在的问题是，如果反射器的位置由于外部冲击等而仅少量偏离，则位置感测精度大大降低。

实用新型内容

提供本实用新型内容是为了以简化的形式介绍在以下具体实施方式中进一步描述的构思的选择。本实用新型内容不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。

在一个总的方面，相机模块包括：第一透镜模块，包括沿着第一光轴设置的一个或多个透镜；以及反射模块，从第一透镜模块发射的光入射到反射模块中，其中，所述反射模块可以包括：壳体，具有内部空间；可旋转支架，在平行于第一光轴的第一方向上支撑在壳体中，并且配置为可相对于壳体旋转；反射支架，在与第一方向不同的第二方向上支撑在可旋转支架中，并且配置为可相对于可旋转支架旋转；反射构件，设置在反射支架上；以及第一球构件，形成可旋转支架的旋转轴，并且沿着第一光轴延伸的假想线穿过第一球构件。

相机模块还可以包括一对磁体，该一对磁体配置成提供磁力以将反射支架支撑在可旋转支架中，其中，该一对磁体中的一个磁体可以设置在反射支架上，并且该一对磁体中的另一个磁体可以设置在旋转支架上，并且该一对磁体在第二方向上彼此面对。

相机模块还可以包括多个第二球构件，其设置在反射支架和可旋转支架之间并形成反射支架的旋转轴。

相机模块还可以包括形成在反射支架和可旋转支架中的任一个或两个中的多个容纳槽，其中，多个第二球构件可以分别在第二方向上设置在多个容纳槽中。

反射支架的旋转轴可以穿过多个第二球构件，并且反射构件可以设置在多个第二球构件之间。

相机模块还可以包括驱动磁体和驱动线圈，其配置成旋转反射支架，其中，驱动磁体可以设置在反射支架上并且驱动线圈可以设置在壳体上，或者驱动磁体可以设置在壳体上并且驱动线圈可以设置在反射支架上。

反射支架可以包括设置在可旋转支架和壳体之间的延伸部，驱动线圈可以设置在壳体上，并且驱动磁体可以设置在延伸部上，以在第二方向上面对驱动线圈。

相机模块还可以包括位置传感器，其设置在壳体上并且在第二方向上面对驱动磁体。

驱动磁体可以配置成使得驱动磁体的面对驱动线圈的表面具有在第一方向上布置的N极、中性区域和S极，并且位置传感器可以面对中性区域。

驱动磁体可以设置在所述一对磁体和驱动线圈之间。

相机模块还可以包括驱动磁体和驱动线圈，其配置为旋转可旋转支架；以及磁体，其配置成通过与驱动磁体相互作用来提供磁力，以将可旋转支架支撑在壳体中，其中，磁体和驱动磁体可以在第一方向上彼此面对，并且驱动线圈***在磁体和驱动磁体之间。

相机模块还可以包括在第一方向上面向驱动磁体的位置传感器。

相机模块还可以包括容纳槽，该容纳槽形成在壳体和可旋转支架中的任一个或两个中，并且以三个或更多个点支撑第一球构件。

相机模块还可以包括多个引导球构件，该多个引导球构件配置成引导可旋转支架的旋转，其中，所述多个引导球构件可以相对于第一球构件在垂直于第一方向的方向上移动。

相机模块还可包括设置在反射支架上并朝向第一透镜模块突出的阻尼器。

相机模块还可以包括第二透镜模块，从反射构件发射的光入射到第二透镜模块中，第二透镜模块包括沿着第二光轴设置的一个或多个透镜，其中，第二光轴可以平行于第二方向。

在另一个总的方面，相机模块包括具有不同光轴的第一透镜模块和第二透镜模块；以及设置在从第一透镜模块到第二透镜模块的光路上的反射模块，其中，反射模块可以包括：壳体，具有内部空间；可旋转支架，设置在壳体的内部空间中并配置成可绕第一旋转轴旋转；反射支架，配置成可绕垂直于第一旋转轴的第二旋转轴相对于可旋转支架旋转；以及反射构件，设置在反射支架上。

可旋转支架可以通过第一磁力在平行于第一旋转轴的第一方向上支撑在壳体中，并且反射支架可以通过第二磁力在垂直于第一方向的第二方向上支撑在可旋转支架中。

相机模块还可包括设置在可旋转支架上的第一驱动磁体；以及设置在壳体上的第一牵引轭，并且第一磁力可以通过第一驱动磁体和第一牵引轭产生。

反射模块还可包括配置成产生第二磁力的一对磁体，并且该一对磁体可配置成随着可旋转支架旋转而与可旋转支架一起旋转。

所述一对磁体可包括：第一磁体，设置在可旋转支架上；以及第二磁体，设置在反射支架上并且在第二方向上面向第一磁体。

反射模块还可包括第二驱动磁体和第二驱动线圈，其配置成旋转反射支架，并且第一磁体可设置在第二驱动磁体和第二磁体之间。

第一磁体可以是牵引磁体，并且第二磁体可以是第二牵引轭。

在另一个总的方面，反射模块包括：可旋转支架，配置为可绕第一轴旋转；反射支架，联接到可旋转支架并且配置为可围绕垂直于第一轴的第二轴旋转；反射构件，联接到反射支架；第一磁体，设置在反射支架上；以及第二磁体，设置在可旋转支架上，其中，第一磁体和第二磁体在平行于第三轴的方向上相互面对，并且第三轴垂直于第一轴和第二轴。

第一磁体可以设置在第二轴和第二磁体之间。

反射模块还可以包括：驱动磁体，设置在反射支架上；驱动线圈，配置为与驱动磁体相互作用；以及位置传感器，配置为检测驱动磁体的运动。

第一磁体、第二磁体、驱动磁体和位置传感器可设置在平行于第三轴的方向上。

反射模块还可以包括具有内部空间的壳体和在壳体中暴露内部空间的开口，其中，可旋转支架可以设置在壳体中；并且驱动线圈和位置传感器可通过壳体内的开口暴露于壳体的内部空间。

反射模块还可以包括第二轴穿过的球构件，其中，球构件可以设置在形成于可旋转支架中的第一容纳槽和形成于反射支架中的第二容纳槽之间，并且第一容纳槽和第二容纳槽可以在平行于第三轴的方向上彼此面对。

在另一个总的方面，相机模块包括：上述反射模块；第一透镜模块，具有平行于第一轴的第一光轴；以及第二透镜模块，具有平行于第三轴的第二光轴。

根据本申请的反射模块和相机模块具有即使在向其施加外部冲击的情况下也能够精确地检测运动对象的运动量的结构。

根据以下详细描述、所附附图和权利要求书，其它特征和方面将是显而易见的。

附图说明

图1是相机模块的立体图。

图2是相机模块的分解立体图。

图3示出了相机模块的第一透镜模块、反射模块和第二透镜模块之间的布置关系。

图4是示出第一透镜模块联接到相机模块的壳体的状态的参考图。

图5是第一透镜模块的仰视图。

图6是沿图1的线VI-VI'截取的剖视图。

图7是示出反射模块设置在壳体中的状态的立体图。

图8是反射模块的分解立体图。

图9是反射模块的可旋转支架和反射支架的分解立体图。

图10是沿图7的线X-X'截取的剖视图。

图11是沿图7的线XI-XI'截取的剖视图。

图12是第二透镜模块的分解立体图。

图13是示出第二透镜模块设置在壳体中的状态的参考图。

图14是用于解释第二透镜模块的支撑点和牵引磁体之间的位置关系的参考图。

图15是用于解释壳体与电路板的组合的参考图。

图16示出了强化构件设置在相机模块的壳体、反射模块和第二透镜模块中的状态。

在所有附图和详细描述中，相同的附图标记表示相同的元件。附图可能不是按比例绘制的，并且为了清楚、说明和方便，附图中的元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。

具体实施方式

提供以下详细描述以帮助读者全面理解本文所述的方法、装置和/或***。然而，在理解本申请的公开内容之后，本文描述的方法、装置和/或***的各种改变、修改和等同将是显而易见的。例如，本文描述的操作序列仅仅是示例，并且不限于本文阐述的那些，而是除了必须以特定顺序发生的操作之外，可以如理解本申请的公开之后显而易见的那样改变。此外，为了更加清晰和简洁，可以省略本领域中已知的特征的描述。

本文描述的特征可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文描述的示例。相反，本文描述的示例仅被提供来说明在理解本申请的公开内容之后将显而易见的实现本文描述的方法、装置和/或***的许多可能的方式中的一些。

在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为在另一个元件“上”，“连接到”或“联接到”另一个元件时，它可以直接在另一个元件“上”，“连接到”或“联接到”另一个元件，或者在它们之间可以存在一个或多个其它元件。相反，当元件被描述为“直接”在另一个元件“上”，“直接连接到”或“直接联接到”另一个元件时，在它们之间不能存在其它元件。

如本文所使用的，术语“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一个以及任何两个或更多个的任何组合。

尽管本文中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的术语来描述各种构件、部件、区域、层或部分，但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些术语的限制。相反，这些术语仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一构件、部件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本文描述的示例的教导的情况下，示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称为第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。

本文中可以使用诸如“之上”、“较上”、“之下”和“较下”的空间相对术语来描述如附图中所示的一个元件与另一个元件的关系。除了在附图中描绘的取向之外，这种空间相对术语旨在也包括设备在使用或操作中的不同取向。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为在另一个元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将在另一个元件“之下”或相对于另一个元件“较下”。因此，取决于设备的空间取向，术语“之上”包括之上和之下两种取向。设备也可以以其它方式取向(例如，旋转90度或在其它定向上)，并且本文使用的空间相关术语将被相应地解释。

本文所用的术语仅用于描述各种示例，而不用于限制本公开。冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。术语“包括”、“包含”和“具有”表示所陈述的特征、数字、操作、构件、元素和/或其组合的存在，但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元素和/或其组合的存在或添加。

图1是相机模块100的立体图。图2是相机模块100的分解立体图。图3示出了相机模块100的第一透镜模块2000、反射模块3000和第二透镜模块4000之间的布置关系。参考图1至图3，相机模块100可以包括壳体1100、反射模块3000、多个透镜模块2000和4000以及图像传感器5000。

相机模块100可以包括多个透镜模块2000和4000。多个透镜模块2000和4000可以包括具有不同光轴的第一透镜模块2000和第二透镜模块4000。从外部对象入射到相机模块100中的光可以通过第一透镜模块2000和第二透镜模块4000入射到图像传感器5000。

第一透镜模块2000的光轴O1(以下称为第一光轴O1)和第二透镜模块4000的光轴O2(以下称为第二光轴O2)可以彼此不平行。例如，第一透镜模块2000和第二透镜模块4000可以设置成使得第一光轴O1和第二光轴O2彼此相交。第一光轴O1和第二光轴O2可以基本上彼此垂直，但是第一光轴O1和第二光轴O2之间的角度不限于此。

包括在第一透镜模块2000或第二透镜模块4000中的透镜可以配置成可相对于图像传感器5000移动。例如，包括在第一透镜模块2000中的透镜2100可以配置成可沿着第一光轴O1移动。或者，包括在第二透镜模块4000中的透镜可配置成可沿第二光轴O2移动。当包括在透镜模块2000和4000的每一个中的透镜移动时，可以执行相机模块100的光学图像稳定(OIS)或自动聚焦(AF)功能。例如，相机模块100可以通过在第二光轴O2方向上移动第二透镜模块4000的透镜来执行自动聚焦功能。

包括在第一透镜模块2000或第二透镜模块4000中的至少一个透镜可以定位成固定到壳体1100。例如，在相机模块100中，包括在第一透镜模块2000中的透镜2100可以被固定到壳体1100，并且包括在第二透镜模块4000中的透镜可以配置为可在第二光轴O2方向上移动。

在相机模块100中，可以设置反射模块3000，用于将从第一透镜模块2000发射的光的传播方向改变为平行于第二光轴O2的方向。例如，参考图2，用于改变光传播路径的反射模块3000可以设置在第一透镜模块2000和第二透镜模块4000之间。也就是说，相机模块100可以包括设置在从第一透镜模块2000到第二透镜模块4000的光路中的反射模块3000。

反射模块3000可以容纳在壳体1100的内部空间中，以改变入射到反射模块3000的光的路径。反射模块3000可以被理解为包括用于改变光路的反射构件3100、支撑和驱动反射构件3100的部件以及容纳它们的壳体1100的至少一部分的概念。

反射模块3000的反射构件3100可配置为通过折射或反射光来改变光传播路径。例如，反射构件3100可以是折射或反射光以改变光路的棱镜或反射镜。

反射构件3100可以改变光传播路径，使得从第一透镜模块2000发射的光被导向第二透镜模块4000。例如，反射构件3100可以将沿着第一光轴O1入射的光的传播路径改变为基本上平行于第二光轴O2的方向。因此，如图3所示，从相机模块100的外部入射到第一透镜模块2000中的入射光L的传播路径可以在通过反射模块3000时改变，使得光入射到第二透镜模块4000中。入射光L可以在通过第二透镜模块4000的同时被适当地折射并入射到图像传感器5000上。

反射构件3100可配置为在壳体1100内可旋转或可移动。当反射构件3100旋转或移动时，可以适当地改变入射光L的路径。相机模块100可通过旋转或移动反射构件3100来执行光学图像稳定(OIS)功能。

反射构件3100可配置为可绕多个旋转轴在不同方向上旋转。例如，反射构件3100可以围绕平行于第一光轴O1的第一旋转轴R1旋转，并且反射构件3100也可以围绕垂直于第一光轴O1和第二光轴O2的第二旋转轴R2旋转。通过该旋转，反射构件3100可以将光传播路径改变到基本上平行于第二光轴O2的方向。

在下面的描述中，第一旋转轴R1可以被简称为“第一轴”，而第二旋转轴R2可以被简称为“第二轴”。也就是说，除非另外表示为“光轴”，否则“第一轴”和“第二轴”可以理解为反射模块3000的“第一旋转轴”和“第二旋转轴”。

此外，垂直于第一旋转轴R1和第二旋转轴R2的轴被定义为“第三轴”。例如，第二光轴O2可以基本上平行于第三轴。

相机模块100可以包括图像传感器5000，已经通过反射模块3000和多个透镜模块2000和4000的光入射到图像传感器5000中。图像传感器5000可以将入射光转换为图像信息。图像传感器5000可以设置成使得其光收集表面面向第二透镜模块4000的光发射表面，并且可以产生与从第二透镜模块4000入射的光相对应的电信号。

图像传感器5000可容纳在壳体1100内或设置在壳体1100外部。

用于过滤从第二透镜模块4000入射的光中的至少一些的滤光片单元6000可以设置在图像传感器5000的前面。滤光片单元6000可以包括能够阻挡具有特定波长的光的滤光片(例如，红外光阻挡滤光片)。或者，滤光片单元6000可以包括遮光构件(挡板)，用于阻挡从透镜模块入射的光中的至少一些。

尽管在图2中未示出，但是为了使光路更长，相机模块100还可以包括设置在透镜模块和图像传感器5000之间的另一个反射模块，以改变光路。

壳体1100可以具有用于容纳反射模块3000、多个透镜模块2000和4000以及图像传感器5000中的任何一个或任何两个或更多个的任何组合的内部空间。壳体1100可以由具有预定刚性的材料制成，以保护设置在其中的部件。壳体1100可以是其上侧开口的箱形构件。然而，壳体1100的材料和形状不限于此。

相机模块100可以包括覆盖壳体1100的上侧的屏蔽罩1200。屏蔽罩1200可以覆盖壳体1100的开口的上侧，以保护壳体1100内的部件免受外部环境的影响。

屏蔽罩1200可包括开口1210，其中，入射光穿过开口1210。例如，如图2所示，屏蔽罩1200可以包括设置在第一透镜模块2000和反射模块3000之间的开口1210。从第一透镜模块2000发射的光可以通过开口1210入射到第一透镜模块2000下方的反射模块3000中。

在根据示例性实施例的相机模块100中，多个透镜模块2000和4000中的一个可以设置在壳体1100的外部，并且多个透镜模块2000和4000中的另一个可以设置在壳体1100的内部。例如，如图2或图3所示，第一透镜模块2000可以联接到壳体1100的外侧并且位于反射模块3000之上，并且第二透镜模块4000可以设置在壳体1100内部。在这种情况下，包括在第一透镜模块2000中的透镜的光发射表面可以设置成面对包括在反射模块3000中的反射构件3100的光入射表面。

设置在壳体1100的外侧上的第一透镜模块2000和设置在壳体1100内部的第二透镜模块4000可以具有彼此相交的光轴O1和O2。反射模块3000可以设置在第一透镜模块2000和第二透镜模块4000之间，以将在第一光轴O1方向上传播的光的路径改变到第二光轴O2方向。通过将多个透镜模块2000和4000设置成具有彼此相交的光轴O1和O2，与多个透镜模块2000和4000沿同一光轴彼此平行设置的情况下的总长度相比，相机模块100的总长度可以减小。

在透镜模块中的一些设置在壳体1100外部的情况下，相机模块100还可以包括用于在结构上或光学上稳定设置在壳体1100外部的透镜模块的部件。例如，相机模块100还可以包括能够遮蔽彼此分离的第一透镜模块2000和壳体1100之间的空间的盖1300。

在图2和图3中，第二透镜模块4000和反射模块3000设置在一个壳体1100内，但这仅仅是一个示例。例如，透镜模块2000和4000以及反射模块3000可以分别设置在多个单独的壳体中，以形成单独的部分，然后可以将这些单独的部分组装在一起，以形成完整的相机模块100。图像传感器5000也可以与反射模块3000或透镜模块2000和4000分开地设置在壳体1100中。在这种情况下，各个部分可以分别被定义为透镜模块组件、反射模块组件和图像传感器组件。也就是说，相机模块100可以包括：包括反射模块3000的反射模块组件、包括一个或多个透镜模块2000和4000的透镜模块组件、以及图像传感器组件。

图4是示出第一透镜模块2000联接到相机模块100的壳体1100的状态的参考图。图5是第一透镜模块2000的仰视图。图6是沿图1的线VI-VI'截取的剖视图。由于将参考图4至图6描述的第一透镜模块2000和包括该第一透镜模块2000的相机模块100对应于上述参考图1至图3描述的第一透镜模块2000和相机模块100，因此可以省略任何重叠的描述。

第一透镜模块2000可以包括沿着第一光轴O1设置的一个或多个透镜2100和其中容纳透镜2100的第一透镜支架2200。从外部对象进入的光可以被第一透镜模块2000的透镜2100折射并入射到反射模块3000中。在相机模块100中，第一透镜模块2000可以设置在反射模块3000的前面。包括在第一透镜模块2000中的透镜2100的光发射表面可以面对反射构件3100。因此，第一透镜模块2000可以将从外部对象接收的光发射到反射模块3000。

第一透镜模块2000可以设置成使得第一光轴O1穿过反射模块3000的反射构件3100。

第一透镜模块2000可以设置在壳体1100的外部，其中，反射模块3000设置在壳体1100中。例如，参考图4，第一透镜模块2000可以联接到其中设置有反射模块3000的壳体1100的上侧。然而，与附图中所示的不同，第一透镜模块2000可以设置在壳体1100内的反射模块3000的前面，其中，反射模块3000设置在壳体1100内。

在根据示例性实施例的相机模块100中，由于第一透镜模块2000和第二透镜模块4000彼此间隔开，并且反射模块3000插在其间，因此需要关注的是，第一光轴O1和第二光轴O2可能不对准。此外，还需要注意的是，由于在相机模块100的制造和组装工艺期间产生的公差，第一透镜模块2000可能未组装在正确的位置。如果第一光轴O1和第二光轴O2未对准，或者如果第一透镜模块2000未设置在正确的位置，则存在相机模块100的分辨率可能劣化或者在通过相机模块100获取的图像信息中可能产生噪声的问题。因此，需要能够在制造工艺中不可避免地产生公差的情况下尽可能精确地将第一透镜模块2000组装在正确位置的结构。

为此，相机模块100可以包括多个引导突起1110和多个引导槽2220，用于将第一透镜模块2000引导到其组装位置。例如，如图4所示，用于将第一透镜模块2000引导到正确的组装位置的多个引导突起1110和多个引导槽2220分别设置在壳体1100和第一透镜模块2000的联接表面上并形成在其中。

多个引导突起1110和多个引导槽2220可以包括设置在壳体1100和第一透镜模块2000中的一个上的第一引导突起1111，以及设置在壳体1100和第一透镜模块2000中的另一个上的第一引导槽2221。

第一引导突起1111可以在垂直于连接表面的方向上突起。例如，如图4所示，朝向第一透镜模块2000突出的第一引导突起1111可以设置在壳体1100的上表面的一部分上以与第一透镜模块2000接触。

可以设置多个引导突起1110。例如，如图4所示，第一引导突起1111、第二引导突起1112和第三引导突起1113可以设置在壳体1100的上表面上。

多个引导突起1110可以具有不同的形状。例如，第一引导突起1111和第二引导突起1112可以具有半球形形状，并且第三引导突起1113可以具有包括平坦表面的矩形形状。然而，多个引导突起1110的特定形状不限于上面所述的形状。

多个引导突起1110***其中的多个引导槽2220可以形成在与其上设置有引导突起1110的构件接触的构件中。

在将第一透镜模块2000组装到壳体1100的工艺中，多个引导突起1110可以与多个引导槽2220接触，从而将第一透镜模块2000引导到正确的位置。

将参考图4和图5更详细地描述第一透镜模块2000和壳体1100之间的对准结构。

如图5的A部分所示，壳体1100的第一引导突起1111可以在三个点P1处与第一透镜模块2000的第一引导槽2221三点接触。因此，可以在三个方向(X轴方向、Y轴方向和Z轴方向)上限制第一引导槽2221相对于第一引导突起1111的相对位置。

此外，如图5的B部分所示，壳体1100的第二引导突起1112可以在两个点P2处与第一透镜模块2000的第二引导槽2222两点接触。因此，可以在两个方向(Y轴方向和Z轴方向)上限制第二引导槽2222相对于第二引导突起1112的位置，并且在至少一个方向(X轴方向)上具有自由度。

此外，如图5的C部分所示，壳体1100的第三引导突起1113可以在线或表面P3处与第一透镜模块2000的表面的一部分线接触或表面接触。因此，可以在一个方向(Z轴方向)上限制所述表面的所述一部分相对于第三引导突起1113的位置。

第一引导槽2221和第一引导突起1111可以相互接触，以不仅形成第一透镜模块2000的第一支撑点，而且为第一透镜模块2000提供参考位置。第二引导槽2222和第二引导突起1112可以相互接触，以不仅形成第一透镜模块2000的第二支撑点，而且限制第一透镜模块2000不在壳体1100上方的第一支撑点上旋转。此外，第三引导突起1113可以接触第一透镜模块2000的表面的一部分，以形成第一透镜模块2000的第三支撑点，从而引导第一透镜模块2000以稳定的方式最终安置在壳体1100上的正确位置。

第一透镜模块2000的联接结构可以在由第二引导突起1112形成的第二支撑点处在至少一个方向(例如，X轴方向)上具有自由度，并且可以在由第三引导突起1113形成的第三支撑点处在至少两个方向(例如，X轴方向和Y轴方向)上具有自由度。因此，即使存在多个引导突起1110和多个引导槽2220的制造公差，第一透镜模块2000也可以稳定地安置，而不会变形或抖动。

在如上所述将第一透镜模块2000安置在壳体1100上之后，可以执行完全固定第一透镜模块2000的位置的工艺。例如，在第一透镜模块2000在将粘合剂材料施加到联接表面上的状态下对准在正确位置处之后，联接表面上的粘合剂材料可以通过UV处理工艺固化。当粘合剂材料固化时，第一透镜模块2000可以牢固地固定到壳体1100。然而，这些工艺的顺序不限于上面描述的顺序。例如，对准第一透镜模块2000的工艺和固化粘合材料的工艺可以同时进行。

因为第一透镜模块2000设置在壳体1100的外部，所以屏蔽罩1200和第一透镜模块2000之间可能存在间隙g。例如，如图6所示，间隙g可以形成在第一透镜模块2000的第一透镜支架2200和屏蔽罩1200之间的边界部分中。为了防止不必要的外部光或异物通过该间隙g进入壳体1100，相机模块100还可以包括遮挡屏蔽罩1200和第一透镜模块2000之间的间隙g的盖1300。盖1300可以覆盖第一透镜模块2000和壳体1100之间的间隙g，以防止光的泄漏或异物的流入。盖1300可以钩在屏蔽罩1200或壳体1100上的接片上，但是特定的联接方法不限于此。

此外，盖1300可以覆盖第一透镜模块2000的至少一部分，以保护第一透镜模块2000免受外力，或者保护第一透镜模块2000和壳体1100的联接部分。

在下文中，将参考图7至11详细描述包括在相机模块100中的反射模块3000。图7是示出反射模块3000布置在壳体1100中的状态的立体图。图8是反射模块3000的分解立体图。图9是反射模块3000的可旋转支架3300和反射支架3200的分解立体图。图10是沿图7的线X-X'截取的剖视图。图11是沿图7的线XI-XI'截取的剖视图。由于将参考图7至图11描述的反射模块3000和包括该反射模块3000的相机模块100对应于上述参考图1至图6描述的反射模块3000和相机模块100，因此可以省略任何重叠的描述。

参考图7和图8，反射模块3000可以设置在壳体1100中，并且可以包括能够改变光路的反射构件3100。反射构件3100可以包括光入射表面3110和光发射表面3120，其中，光从第一透镜模块2000入射到光入射表面3110，并通过光发射表面3120发射。

反射构件3100可配置成可在壳体1100内移动。例如，反射构件3100可以围绕不同的旋转轴R1和R2旋转，如图2所示。需要关注的是，如果反射构件3100在沿不同方向旋转的同时与相机模块100的另一结构(例如，壳体1100或屏蔽罩1200的内壁)碰撞，则反射构件3100可能由于碰撞而损坏，并且可能由于不规则的碰撞声音而产生噪声。

为了防止这种问题，反射模块3000可以包括在不同方向上突出的第一阻尼器3510和第二阻尼器3520。例如，参考图8，反射模块3000可以包括在第一方向上突出的第一阻尼器3510和在不同于第一方向的第二方向上突出的第二阻尼器3520。反射模块3000的第一阻尼器3510和第二阻尼器3520可以包括能够吸收冲击能量的材料，从而减小当反射模块3000撞击壳体1100或屏蔽罩1200的内壁时产生的冲击或噪声(不规则的冲击声音)。

参考图8至图11，反射模块3000可以包括能够改变光路的反射构件3100、可移动地支撑反射构件3100的反射支架3200、以及可旋转支架3300。

反射构件3100可以折射或反射入射光以改变光传播路径。

反射构件3100可包括光通过其入射的光入射表面3110、光通过其反射的光反射表面3130、以及反射光通过其发射的光发射表面3120。例如，在第一方向(Z轴方向)上入射到光入射表面3110上的光可以在被光反射表面3130反射之后在第二方向(Y轴方向)上发射。第一方向(Z轴方向)可以基本上平行于第一透镜模块2000的第一光轴O1，第二方向(Y轴方向)可以基本上平行于第二透镜模块4000的第二光轴O2。

反射构件3100可以包括光阻挡单元3111，光阻挡单元3111遮挡不必要的光以减少耀斑现象。例如，如图8所示，用于阻挡不必要的光的光阻挡单元3111可以沿着反射构件3100的光入射表面3110的边缘设置。然而，光阻挡单元3111的位置不限于所示的位置，并且它可以设置在光发射表面3120上。此外，尽管在附图中未示出，但是能够执行与光阻挡单元3111类似的作用的光阻挡构件可以独立于光阻挡单元3111设置，以与反射构件3100间隔开。例如，光阻挡构件可以是设置在反射构件3100与透镜模块2000和4000中的每一个之间的挡板。

反射构件3100可以设置在反射支架3200中。反射支架3200可在支撑反射构件3100的同时旋转或移动。例如，反射支架3200可以围绕穿过至少两个球构件3430的第二旋转轴R2旋转，并且因此设置在反射支架3200中的反射构件3100也可以与反射支架3200一起旋转。

反射模块3000还可以包括可移动地或可旋转地支撑反射支架3200的可旋转支架3300。可旋转支架3300可以配置成不仅可旋转地支撑反射支架3200，而且可以相对于壳体1100旋转或移动。例如，反射支架3200可以通过至少两个球构件3430可旋转地支撑在可旋转支架3300中，所述球构件3430形成介于反射支架3200和可旋转支架3300之间的旋转轴。此外，可旋转支架3300可通过***可旋转支架3300和壳体1100之间的至少一个球构件3410支撑在壳体1100中，并因此可相对于壳体1100绕由至少一个球构件3410形成的另一旋转轴旋转。为了在以下描述中将旋转轴彼此区分，可旋转支架3300的旋转轴将被称为图2中所示的第一旋转轴R1，并且反射支架3200的旋转轴将被称为图2中所示的第二旋转轴R2。

在根据示例性实施例的反射模块3000中，第一旋转轴R1和第二旋转轴R2可以彼此不同。例如，第一旋转轴R1和第二旋转轴R2可以基本上彼此垂直。

第一旋转轴R1可以穿过反射构件3100的光入射表面3110和光反射表面3130。第二旋转轴R2可以基本上平行于反射构件3100的光反射表面3130。例如，第二旋转轴R2可以设置在光反射表面3130上，或者可以设置成以预定距离与光反射表面3130平行。

在反射模块3000中，第一旋转轴R1和第二旋转轴R2可以配置成在一个点处彼此相交。在这种情况下，第一旋转轴R1和第二旋转轴R2彼此相交的点可以设置在反射构件3100的光反射表面3130上，或者设置在光反射表面3130附近。

当反射模块3000处于中性位置时，反射构件3100的光入射表面3110可以基本上垂直于第一透镜模块2000的第一光轴O1，并且反射构件3100的光发射表面3120可以基本上垂直于第二透镜模块4000的第二光轴O2。在这种情况下，反射模块3000的第一旋转轴R1可以基本上与第一光轴O1一致，并且反射模块3000的第二旋转轴R2可以垂直于第一光轴O1和第二光轴O2。与第一旋转轴R1和第二旋转轴R2之间的交点类似，第一光轴O1和第二光轴O2之间的交点也可以设置在反射构件3100的光反射表面3130上，或者可以设置成以预定距离与光反射表面3130平行。

即使相机模块100在外力的作用下抖动并且光在与第一光轴O1不对准的方向上入射，反射构件3100也可以适当地旋转，以将光传播方向改变为基本上平行于第二光轴O2。

反射模块3000还可以包括支撑构件，该支撑构件将反射支架3200支撑在可旋转支架3300上。例如，支撑构件可以包括彼此面对设置的一对磁体3240和3340，以在它们之间产生磁吸力，并且反射支架3200可以借助在该一对磁体3240和3340之间产生的磁吸力而支撑在可旋转支架3300中。

该一对磁体3240和3340可以分别独立地设置在反射支架3200和可旋转支架3300上。例如，如图8和图9所示，该一对磁体3240和3340可以包括设置在反射支架3200上的牵引轭3240和设置在可旋转支架3300上的牵引磁体3340。在这种情况下，牵引磁体3340和牵引轭3240可以产生用于彼此牵引的磁吸力，并且反射支架3200可以借助磁吸力通过***反射支架3200和可旋转支架3300之间的球构件3430支撑在可旋转支架3300中。

然而，该一对磁体3240和3340的配置不限于上面所述的配置。例如，牵引磁体3340和牵引轭3240可以分别设置在反射支架3200和可旋转支架3300上。或者，该一对磁体3240和3340可以都是牵引磁体。

支撑构件不限于上述的磁体3240和3340，并且可以具有任何配置，只要反射支架3200可以可移动地支撑在可旋转支架3300中。

在示例性实施例中，反射模块3000可以包括分别驱动反射支架3200和可旋转支架3300的驱动单元3230和3330。例如，如图8所示，反射模块3000可以包括驱动可旋转支架3300的第一驱动单元3330和驱动反射支架3200的第二驱动单元3230。

第一驱动单元3330和第二驱动单元3230中的每一个可以包括驱动线圈和驱动磁体。例如，第一驱动单元3330可以通过彼此面对的第一驱动线圈3332和第一驱动磁体3331之间的电磁相互作用来旋转可旋转支架3300。此外，第二驱动单元3230可以通过彼此面对的第二驱动线圈3232和第二驱动磁体3231之间的电磁相互作用来旋转反射支架3200。

在相机模块100中，驱动磁体和驱动线圈可以分别设置在彼此相对移动的两个部件上。例如，第一驱动磁体3331可以设置在可旋转支架3300上，并且第一驱动线圈3332可以设置在壳体1100上。第二驱动磁体3231可以设置在反射支架3200上，并且第二驱动线圈3232可以设置在壳体1100上。

驱动单元3230和3330可以包括分别能够检测驱动磁体3231和3331的运动量的位置传感器3233和3333。例如，第一驱动单元3330可以包括面对第一驱动磁体3331的第一位置传感器3333。如图8所示，第一位置传感器3333可以设置在第一驱动线圈3332的旁边并与之平行，或者设置在第一驱动线圈3332的内部。类似地，第二驱动单元3230可以包括面向第二驱动磁体3231的第二位置传感器3233。如图8所示，第二位置传感器3233可以设置在第二驱动线圈3232的旁边并与之平行，或者设置在第二驱动线圈3232的内部。

在反射模块3000的中性位置，位置传感器3233和3333可以定位成分别面对驱动磁体3231和3331的中性区域3231a和3331a。驱动磁体3231和3331的中性区域3231a和3331a中的每一个可以是两个不同磁极(即，N极和S极)之间的边界区域。

驱动单元3230和3330还可以包括分别面向驱动磁体3231和3331的第一轭3334和第二轭3234。例如，如图8所示，第一轭3334可以面向第一驱动磁体3331地设置在第一驱动线圈3332的后表面上。第二轭3234可以面向第二驱动磁体3231地设置在第二驱动线圈3232的后表面上。第一轭3334和第二轭3234可用于集中驱动磁体的磁通量。

然而，反射模块3000的驱动单元3230和3330的配置不限于上述的配置，并且只要反射支架3200和可旋转支架3300能够移动，反射模块3000的驱动单元3230和3330可以具有任何配置。

在下文中，将更详细地描述包括在反射模块3000中的可旋转支架3300。

反射模块3000可包括可相对于壳体1100旋转的可旋转支架3300。可旋转支架3300可以相对于壳体1100旋转，同时可旋转地支撑反射支架3200和反射构件3100。例如，可旋转支架3300可设置成可围绕第一旋转轴R1旋转，并且因此，反射支架3200和反射构件3100也可连同可旋转支架3300一起围绕第一旋转轴R1旋转。

可旋转地支撑可旋转支架3300的多个球构件3410和3420可以设置在可旋转支架3300和壳体1100之间。

多个球构件3410和3420可以包括形成可旋转支架3300的旋转轴(以下称为第一旋转轴R1)的第一球构件3410，以及帮助可旋转支架3300稳定旋转的引导球构件3420。

第一球构件3410可形成第一旋转轴R1，同时在其位置相对于壳体1100固定的状态下原位旋转。因此，第一旋转轴R1可以穿过第一球构件3410。

第一旋转轴R1可以基本上与面对反射模块3000的第一透镜模块2000的第一光轴O1一致。因此，沿着第一光轴O1延伸的假想线可以穿过第一球构件3410。

第一球构件3410可以容纳在壳体1100的第一容纳槽1120中。为了固定第一球构件3410的位置，第一容纳槽1120可配置成在三个或更多个点处支撑第一球构件3410。例如，第一容纳槽1120可以是具有至少三个倾斜表面的槽，并且第一球构件3410可以被支撑成与倾斜表面中的每个点接触。因此，第一球构件3410可在第一容纳槽1120中由至少三个点支撑。此外，面对第一容纳槽1120并具有与第一容纳槽1120相同形状的槽3321可以形成在可旋转支架3300中。因此，第一球构件3410可以形成第一旋转轴R1，同时在可旋转支架3300和壳体1100之间的夹心状态下在原位旋转。

可以设置一个或多个引导球构件3420。例如，如图8和图9所示，反射模块3000可以包括与第一球构件3410间隔开的两个引导球构件3420。引导球构件3420可以相对于壳体1100或可旋转支架3300以滚动方式移动，并且可以支撑可旋转支架3300以使其可旋转，同时保持可旋转支架3300的底表面和壳体1100的底表面之间的预定间隔。

引导球构件3420可以容纳在形成于壳体1100中的引导槽1130(以下称为第三引导槽)中。引导球构件3420可以在第三引导槽1130中以两个点或一个点被支撑。引导球构件3420可以沿着第三引导槽1130移动。第三引导槽1130可设置成在第一旋转轴R1的圆周方向上延伸。或者，第三引导槽1130可设置成在围绕第一旋转轴R1的圆周的切线方向上延伸。

容纳引导球构件3420的另一个引导槽3322(以下称为第四引导槽)可以形成在可旋转支架3300的下表面上。因此，引导球构件3420可以在可旋转支架3300的第四引导槽3322和壳体1100的第三引导槽1130之间的夹心状态下以滚动方式移动，同时支撑可旋转支架3300。

用于旋转可旋转支架3300的驱动力可以由第一驱动单元3330产生。例如，第一驱动单元3330可以包括设置在可旋转支架3300中的第一驱动磁体3331、设置在壳体1100中的第一驱动线圈3332、以及第一轭3334，并且驱动力可以由第一驱动磁体3331和第一驱动线圈3332之间的电磁相互作用产生。

第一驱动磁体3331和第一驱动线圈3332可以设置成在第一方向(Z轴方向)上彼此面对。第一方向(Z轴方向)可以是基本上平行于第一旋转轴R1的方向，第一旋转轴R1是可旋转支架3300的旋转轴。

第一驱动线圈3332可以设置在壳体1100的底表面上。多个第一驱动线圈3332可以设置成在第一旋转轴R1的圆周方向上彼此间隔开，或者第一驱动线圈3332可以配置为具有在第一旋转轴R1的圆周方向上延伸的部分的集成线圈。第一驱动线圈3332可以设置在第一球构件3410和引导球构件3420之间。

第一驱动磁体3331可以设置在可旋转支架3300的下表面上，以面对第一驱动线圈3332。第一驱动磁体3331可配置成使得不同的磁极沿着可旋转支架3300的旋转方向顺序地布置。例如，第一驱动磁体3331可以配置成使得其面对第一驱动线圈3332的表面具有沿着可旋转支架3300的旋转方向顺序布置的N极、中性区域和S极。

第一驱动单元3330可以包括检测第一驱动磁体3331的位置的第一位置传感器3333。第一位置传感器3333可以是设置在第一驱动线圈3332内部或外部的磁传感器。例如，第一位置传感器3333可以包括霍尔传感器。第一位置传感器3333可以通过检测第一驱动磁体3331的通过第一位置传感器3333的磁通量的变化来检测第一驱动磁体3331的运动量。

当可旋转支架3300处于中性位置时，第一位置传感器3333可以设置成面对第一驱动磁体3331的中性区域3331a。也就是说，第一位置传感器3333可以设置为面对第一驱动磁体3331的N极和S极之间的边界区域，从而有效地检测第一驱动磁体3331的位移。

多个第一位置传感器3333可以布置成通过将由第一位置传感器3333检测到的信号彼此进行比较来更精确地检测第一驱动磁体3331的位置变化。

第一驱动单元3330可以包括面对第一驱动磁体3331的第一轭3334。例如，如图8所示，第一轭3334可以设置在第一线圈的后表面上，以在第一方向(Z轴方向)上面对第一驱动磁体3331。

第一轭3334可以由磁性材料制成。因此，第一轭3334不仅可用于集中由第一驱动磁体3331产生的磁力线，而且还可用于通过与第一驱动磁体3331相互作用而产生磁吸力。在下文中，在第一驱动磁体3331和第一轭3334之间产生的磁力被定义为第一磁力。

由于第一轭3334和第一驱动磁体3331设置成在第一方向(Z轴方向)上彼此面对，所以第一轭3334可以在第一方向(Z轴方向)上吸引第一驱动磁体3331。也就是说，第一轭3334可以用作牵引轭。可旋转支架3300可以通过在第一轭3334和第一驱动磁体3331之间产生的第一磁力在第一方向(Z轴方向)上支撑在壳体1100中。

然而，可旋转支架3300的支撑结构不限于上述结构。例如，在另一个实施例中，反射模块3000还可以包括单独的磁体(未示出)，该磁体通过与第一轭3334一起产生磁吸力来支撑可旋转支架3300。

反射模块3000可包括可相对于可旋转支架3300旋转的反射支架3200。反射构件3100可固定到反射支架3200以相对于可旋转支架3300与反射支架3200一起旋转。例如，反射支架3200可设置成可围绕基本上垂直于第一旋转轴R1的第二旋转轴R2旋转，并且因此反射支架3200和反射构件3100也可连同可旋转支架3300一起围绕第二旋转轴R2旋转。

引导反射支架3200旋转的多个球构件3430可以设置在反射支架3200和可旋转支架3300之间。例如，如图8所示，形成第二旋转轴R2的多个第二球构件3430可以设置在反射支架3200和可旋转支架3300之间，该第二旋转轴R2是反射支架3200的旋转轴。

多个第二球构件3430可以设置成在垂直于第一旋转轴R1的方向上彼此间隔开。

多个第二球构件3430可以设置成在垂直于第一透镜模块2000的第一光轴O1和第二透镜模块4000的第二光轴O2的方向上彼此间隔开。

多个第二球构件3430可形成第二旋转轴R2，同时在它们的位置相对于反射支架3200或可旋转支架3300固定的状态下在原位旋转。第二旋转轴R2可以穿过多个第二球构件3430。

反射构件3100可以设置在第二球构件3430之间。在这种情况下，从反射构件3100的光反射表面3130延伸的平面可以穿过第二球构件3430。然而，反射构件3100的布置不限于上述布置。例如，反射构件3100可以设置成使得光反射表面3130面向第二球构件3430中的至少一个。

可旋转支架3300和反射支架3200可以分别包括能够容纳第二球构件3430的容纳槽3310和3220。例如，可旋转支架3300可以包括设置在其面对反射支架3200的表面中的第二容纳槽3310，以容纳第二球构件3430的一部分，并且反射支架3200可以包括设置在其面对可旋转支架3300的表面中的第三容纳槽3220，以容纳第二球构件3430的另一部分。可旋转支架3300的第二容纳槽3310和反射支架3200的第三容纳槽3220可以设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对。多个第二容纳槽3310和多个第三容纳槽3220可以设置成与第二球构件3430的数量相对应。

在示例性实施例中，为了精确地对准反射支架3200和可旋转支架3300的相对位置，多个第二容纳槽3310和多个第三容纳槽3220中的至少一个可配置成以三个或更多个点支撑第二球构件3430。例如，多个第二容纳槽3310中的至少一个可以是具有至少三个倾斜表面的槽，而另一个可以是具有至少两个倾斜表面的槽。第二球构件3430可被支撑成与倾斜表面中的每个点接触。因此，第二球构件3430可以在具有三个倾斜表面的第二容纳槽3310中由至少三个点支撑，并且可以在具有两个倾斜表面的第二容纳槽3310中由两个点支撑。根据该支撑结构，第二球构件3430在多个第二容纳槽3310中的任何一个中具有在一个方向上的自由度，使得能够克服由制造公差引起的缺陷。

用于旋转反射支架3200的驱动力可以由第二驱动单元3230产生。例如，第二驱动单元3230可以包括设置在反射支架3200和壳体1100中的一个上的第二驱动磁体3231和设置在反射支架3200和壳体1100中的另一个上的第二驱动线圈3232，并且驱动力可以通过第二驱动磁体3231和第二驱动线圈3232之间的电磁相互作用产生。然而，第二驱动磁体3231和第二驱动线圈3232的布置不限于上面所述的布置。例如，第二驱动磁体3231可以设置在壳体1100上，并且第二驱动线圈3232可以设置在反射支架3200上。可替换地，第二驱动磁体3231可以设置在反射支架3200上，并且第二驱动线圈3232可以设置在可旋转支架3300上。

第二驱动磁体3231和第二驱动线圈3232可以设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对。第二方向(Y轴方向)可以基本上平行于第二光轴O2，第二光轴O2是第二透镜模块4000的光轴。或者，第二方向(Y轴方向)可以基本上垂直于第一旋转轴R1，第一旋转轴R1是可旋转支架3300的旋转轴。

在第二驱动磁体3231中，可以沿着反射支架3200的旋转方向顺序地布置不同的磁极。例如，第二驱动磁体3231可以被磁化成沿着反射支架3200的旋转方向依次具有N极、中性区域和S极。

第二驱动线圈3232可以设置在壳体1100的侧壁上以面对第二驱动磁体3231。第二轭3234可以设置在第二驱动线圈3232的后表面上，使得由第二驱动磁体3231产生的磁力线更强地穿过第二驱动线圈3232。第二轭3234可以由磁性材料制成，以集中由第二驱动磁体3231产生的磁力线。

第二驱动单元3230可以包括检测第二驱动磁体3231的位置的第二位置传感器3233。例如，反射模块3000可以包括第二位置传感器3233，其设置在第二驱动线圈3232的内部或外部以面对第二驱动磁体3231。

第二位置传感器3233可以是磁传感器。例如，第二位置传感器3233可以包括霍尔传感器。第二位置传感器3233可以通过检测第二驱动磁体3231的穿过第二位置传感器3233的磁通量的变化来检测第二驱动磁体3231的运动量。当反射支架3200处于中性位置时，第二位置传感器3233可以设置成面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a。也就是说，第二位置传感器3233可以设置为面对第二驱动磁体3231的N极和S极之间的边界区域，从而有效地检测第二驱动磁体3231的位移。

多个第二位置传感器3233可以设置成通过将由第二位置传感器3233检测到的信号彼此进行比较来更精确地检测第二驱动磁体3231的位置变化。在设置多个第二位置传感器3233的情况下，至少两个第二位置传感器3233可以在垂直于第二旋转轴R2的方向上彼此平行地设置。

反射支架3200可以借助于由一对磁体3240和3340产生的磁力(以下称为第二磁力)支撑在可旋转支架3300中。该一对磁体3240和3340可以包括固定到反射支架3200的第一磁体3240和固定到可旋转支架3300并与第一磁体3240磁性相互作用的第二磁体3340。

在示例性实施例中，第一磁体3240可以是设置在反射支架3200上的牵引轭，而第二磁体3340可以是设置在可旋转支架3300上的牵引磁体。借助于牵引磁体3340和牵引轭3240之间的磁吸力，反射支架3200可以支撑在可旋转支架3300中，其中第二球构件3430插在反射支架3200和可旋转支架3300之间。在这种情况下，牵引磁体3340可以是与第二驱动单元3230的第二驱动磁体3231不同的单独磁体。例如，如图9或图10所示，牵引磁体3340可以与设置在反射支架3200上的第二驱动磁体3231分开地设置在可旋转支架3300上。通过如上所述分别提供第二驱动磁体3231和牵引磁体3340，可以形成更精确和稳定的支撑结构。

在反射模块3000中，牵引磁体3340和牵引轭3240可以设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对。第二方向(Y轴方向)可以是垂直于第一方向(Z轴方向)的方向，其中，第一方向(Z轴方向)为可旋转支架3300的第一驱动磁体3331和第一驱动线圈3332彼此面对的方向。由于牵引磁体3340和牵引轭3240被设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对，因此反射支架3200可以借助于第二磁力在第二方向(Y轴方向)上被支撑在可旋转支架3300中。

参考图10，第二驱动磁体3231和牵引磁体3340可以设置成彼此间隔开。反射支架3200可以具有在可旋转支架3300和壳体1100之间延伸的延伸部3210，并且第二驱动磁体3231可以设置在延伸部3210上。因此，通过避开可旋转支架3300的牵引磁体3340，第二驱动磁体3231可以尽可能靠近第二驱动线圈3232设置。此外，根据这种结构，第二驱动磁体3231可以在第二方向(Y轴方向)上直接面对第二驱动线圈3232，同时，牵引磁体3340和牵引轭3240也可以在第二方向(Y轴方向)上直接面对彼此。

第二驱动磁体3231可以设置在牵引磁体3340和第二驱动线圈3232之间。例如，如图10所示，第二驱动磁体3231可以设置在反射支架3200的延伸部3210上的面向壳体1100的部分中。

然而，反射支架3200的支撑结构不限于上述结构。例如，在另一个实施例中，牵引磁体3340和牵引轭3240可以设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对，并且第二驱动磁体3231可以设置在反射支架3200的侧表面上，以在第三方向(X轴方向)上面对设置在壳体1100上的第二驱动线圈3232。在这种情况下，第三方向(X轴方向)可以是垂直于第一方向(Z轴方向)和第二方向(Y轴方向)两者的方向。此外，第三方向(X轴方向)可以基本上平行于反射支架3200的第二旋转轴R2。

当包括在反射模块3000中的反射构件3100、反射支架3200或可旋转支架3300移动时，存在与邻近反射模块3000的其它构件(例如，第一透镜模块2000和第二透镜模块4000)碰撞的风险。特别地，存在以下问题，即，当包括在透镜模块2000和4000中的透镜和反射构件3100彼此碰撞时，脆弱的光学元件可能被损坏。因此，需要能够防止这种问题的结构。

在示例性实施例中，反射模块3000可以包括阻尼器3510和3520，其能够减小在与相机模块100的另一部件碰撞时产生的冲击能量或噪声。例如，反射模块3000可以包括分别在第一方向(Z轴方向)和第二方向(Y轴方向)上从反射支架3200突出的第一阻尼器3510和第二阻尼器3520。

第一阻尼器3510可以从反射支架3200向第一透镜模块2000突出。当反射支架3200绕第二旋转轴R2旋转时，第一阻尼器3510可能与壳体1100上方的屏蔽罩1200碰撞。

当反射支架3200处于中性位置时，第一阻尼器3510和屏蔽罩1200之间的距离可以小于反射构件3100和第一透镜模块2000之间的距离。因此，当反射支架3200旋转时，第一阻尼器3510可以在反射构件3100与第一透镜模块2000碰撞之前与屏蔽罩1200碰撞。

第二阻尼器3520可以从反射支架3200向第二透镜模块4000突出。当反射支架3200绕第一旋转轴R1旋转时，第二阻尼器3520可以在反射构件3100之前与壳体1100碰撞以吸收冲击能量。

当从外部对相机模块100施加冲击时，在反射模块3000中可能出现凹痕。例如，存在以下问题，即，当外部冲击被传递到球构件和容纳槽或引导槽之间的接触表面时，容纳槽或引导槽可能变形，并且因此，可旋转支架3300和壳体1100的相对位置或反射支架3200和可旋转支架3300的相对位置可能改变。

存在凹痕可能成为精确控制反射模块3000旋转的障碍的问题。例如，存在以下问题，即，在设计为使得在反射支架3200处于中性位置时第二位置传感器3233面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a的反射模块3000中，如果反射支架3200和第二驱动磁体3231的位置被凹痕改变，并且第二位置传感器3233面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a之外的部分(例如，N极或S极)，则第二位置传感器3233的感测精度可能降低。

因此，需要即使出现凹痕也能够精确地感测反射支架3200或可旋转支架3300的旋转量的结构。

在示例性实施例中，反射模块3000可以配置成使得即使可旋转支架3300的位置由于凹痕而改变，第一位置传感器3333也面向第一驱动磁体3331的中性区域3331a。

参考图8或图10，反射模块3000的第一位置传感器3333、第一驱动磁体3331和第一轭3334可以沿着第一方向(Z轴方向)彼此平行地设置。例如，当可旋转支架3300处于中性位置时，第一位置传感器3333可以设置成在第一方向(Z轴方向)上面对第一驱动磁体3331的中性区域3331a，并且第一驱动磁体3331和第一轭3334也可以设置成在第一方向(Z轴方向)上彼此面对。也就是说，第一位置传感器3333和第一驱动磁体3331彼此面对的方向可以与可旋转支架3300借助于第一磁力支撑在壳体1100中的方向相同。

当第一容纳槽1120由于凹痕的出现而被压下时，可旋转支架3300还可借助于第一驱动磁体3331和第一轭3334之间的磁吸力(即，第一磁力)而在第一方向(Z轴方向)上朝壳体1100被牵引。在这种情况下，尽管第一位置传感器3333和第一驱动磁体3331之间在第一方向(Z轴方向)上的距离减小，但是第一位置传感器3333仍然可以面对第一驱动磁体3331的中性区域3331a。因此，即使出现凹痕，第一位置传感器3333仍然面对第一驱动磁体3331的中性区域3331a，使得能够根据N极或S极的运动精确地检测第一驱动磁体3331的经过第一位置传感器3333的磁通量的变化，并精确地测量可旋转支架3300的运动量。

在示例性实施例中，反射模块3000可以配置成使得即使反射支架3200和可旋转支架3300的相对位置由于凹痕而改变，第二位置传感器3233也设置成面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a。

参考图8、图9和图11，反射模块3000的第二位置传感器3233、第二驱动磁体3231和一对磁体3240和3340可以在第二方向(Y轴方向)上彼此平行地设置。例如，当反射支架3200处于中性位置时，第二位置传感器3233可以设置成在第二方向(Y轴方向)上面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a，并且分别设置在反射支架3200和可旋转支架3300上的一对磁体3240和3340也可以设置成在第二方向(Y轴方向)上彼此面对。也就是说，第二位置传感器3233和第二驱动磁体3231彼此面对的方向可以与反射支架3200借助于第二磁力支撑在可旋转支架3300中的方向相同。

当第二容纳槽3310或第三容纳槽3220的形状由于凹痕的出现而变形时，反射支架3200还可以借助于一对磁体3240和3340之间的磁吸力(即，第二磁力)在第二方向(Y轴方向)上朝向可旋转支架3300被牵引，并且因此，反射支架3200的第二驱动磁体3231可以在第二方向(Y轴方向)上更靠近设置在壳体1100上的第二位置传感器3233。

尽管第二位置传感器3233和第二驱动磁体3231之间在第二方向(Y轴方向)上的距离减小，但是第二位置传感器3233仍然可以面向第二驱动磁体3231的中性区域3231a。因此，即使出现凹痕，第二位置传感器3233仍然面对第二驱动磁体3231的中性区域3231a，使得能够根据N极或S极的运动精确地检测第二驱动磁体3231的通过第二位置传感器3233的磁通量的变化，并精确地测量反射支架3200的运动量。

在下文中，将参考图12至图15描述包括在相机模块100中的第二透镜模块4000。图12是第二透镜模块4000的分解立体图。图13是示出第二透镜模块4000设置在壳体1100中的状态的参考图。图14是用于解释第二透镜模块4000的支撑点和牵引磁体之间的位置关系的参考图。图15是用于解释壳体1100与电路板的组合的参考图。由于将参考图12至图15描述的第二透镜模块4000和包括第二透镜模块4000的相机模块100对应于上述参考图1至图11描述的第二透镜模块4000和相机模块100，因此可以省略任何重叠的描述。

相机模块100可以包括第二透镜模块4000，从反射模块3000发射的光通过该第二透镜模块4000。第二透镜模块4000可以包括沿着第二光轴O2设置的一个或多个透镜4100。从反射模块3000发射的光可以被第二透镜模块4000的一个或多个透镜4100折射并入射到第二透镜模块4000后面的图像传感器5000上。

参考图12，第二透镜模块4000可以包括一个或多个透镜4100、支撑一个或多个透镜4100的第二透镜支架4200、以及产生能够相对于壳体1100移动第二透镜支架4200的驱动力的第三驱动单元4300。第二透镜模块4000的一个或多个透镜4100可以通过第三驱动单元4300在平行于第二光轴O2的方向上移动。然而，第二透镜模块4000的配置不限于附图中所示的配置。例如，第二透镜模块4000可以包括多个子透镜模块，每个子透镜模块容纳一个或多个透镜，并且子透镜模块可以配置为可在平行于第二光轴O2的方向上彼此独立地移动。

第三驱动单元4300可以包括彼此面对的第三驱动磁体4310和第三驱动线圈4320，以及检测第三驱动磁体4310的运动量的第三位置传感器4330。

参考图12，第三驱动磁体4310可以设置在第二透镜模块4000的第二透镜支架4200上，并且第三驱动线圈4320可以设置在壳体1100上。第三驱动线圈4320和第三驱动磁体4310可以在垂直于第二光轴O2的方向上彼此面对。通过第三驱动线圈4320和第三驱动磁体4310之间的电磁相互作用，第二透镜支架4200可以在平行于第二光轴O2的方向上移动。

第三驱动磁体4310的面对第三驱动线圈4320的表面可以配置成使得不同的磁极沿着第二透镜模块4000的移动方向顺序地布置。

第三位置传感器4330可以设置在第三驱动线圈4320的内部或外部，以面对第三驱动磁体4310。第三位置传感器4330可以是磁传感器。例如，第三位置传感器4330可以包括霍尔传感器。

可以设置多个第三位置传感器4330。例如，如图12所示，多个第三位置传感器4330可以沿着第二透镜模块4000的移动方向彼此平行地设置。根据该位置传感器布置结构，即使第三驱动磁体4310在壳体1100内以长行程范围移动，也可以精确地检测第三驱动磁体4310的位置。

第二透镜模块4000可以包括设置在第二透镜支架4200和壳体1100之间的多个球构件4600。例如，如图12和图13所示，三个球构件4610、4620和4630可以设置在第二透镜支架4200和壳体1100之间，从而使得第二透镜支架4200能够在壳体1100内平滑地移动。

多个球构件4600可包括设置成彼此间隔开的第三球构件4610、第四球构件4620和第五球构件4630。多个球构件4600可以沿着形成在第二透镜支架4200中的引导槽4230(以下称为第五引导槽)和形成在壳体1100的底表面上的引导槽1140(以下称为第六引导槽)以滚动方式移动。

为了防止当第二透镜模块4000在移动时与壳体1100的内表面碰撞时发生冲击和噪声，可以在第二透镜支架4200上设置多个阻尼器4220。

第二透镜模块4000还可以包括防止耀斑现象的光阻挡构件4400。光阻挡构件4400可以是设置在第二透镜支架4200的面对图像传感器5000的表面上的框架状构件，并且可以阻挡通过第二透镜模块4000的光中的不必要的光，以防止耀斑现象。

第五引导槽4230和第六引导槽1140可以分别设置在第二透镜支架4200中和壳体1100的底表面中，使得第二透镜模块4000可以在第二光轴O2方向上稳定地移动。

第五引导槽4230和第六引导槽1140可以沿着第二光轴O2方向延伸，并且可以配置成分别容纳多个球构件4600，使得多个球构件4600可以滚动方式移动。

第五引导槽4230和第六引导槽1140可以具有V形横截面或U形横截面，但是其具体的横截面形状不限于此。

第二透镜支架4200可具有向后延伸的延伸部4210，并且第五引导槽4230可延伸至延伸部4210以形成第二透镜模块4000的长行程。

第二透镜模块4000可以借助于由一对磁体4510和4520产生的磁力在垂直于第二光轴O2的方向上被支撑。

参考图13，第三磁体4510可以设置在第二透镜支架4200的下表面上，并且面对第三磁体4510的第四磁体4520可以设置在壳体1100上。第三磁体4510和第四磁体4520中的一个可以是牵引磁体，而另一个可以是牵引轭。

借助于在第三磁体4510和第四磁体4520之间产生的磁吸力(以下称为第三磁力)，第二透镜支架4200可以在非常靠近壳体1100的底表面定位的同时移动，并且多个球构件4600插在第二透镜支架4200和壳体1100之间。

为了稳定地支撑第二透镜支架4200，第三磁体4510可以设置在由多个球构件4600形成的支撑区域T内。例如，第二透镜支架4200可以具有分别由三个球构件4610,4620和4630形成的三个支撑点，并且因此，可以形成三角形支撑区域T，其中三个支撑点是其顶点。

如果在支撑区域T内形成第三磁力作用的点，则第二透镜支架4200可以稳定地支撑在壳体1100中。然而，如果第三磁体4510位于支撑区域T之外，则第三磁力作用的点超出支撑区域T，并且第二透镜支架4200可能倾斜，或者多个球构件4600中的至少一些球构件4600可能从引导槽1140和4230脱出。

为了防止这种问题，第三磁体4510可以设置在由多个球构件4600形成的支撑区域T内。因此，第三磁力作用的点可以位于支撑区域T内，使得第二透镜支架4200稳定地支撑在壳体1100中。

当第二透镜支架4200在第二光轴O2方向上移动时，多个球构件4600可以以滚动方式移动预定距离，因此，支撑区域T可以连续地改变。例如，在图14中，当三个球构件4610、4620和4630移动时，由三个支撑点形成的三角形的形状可能改变。如果第三磁体4510位于靠近第五球构件4630的位置，则根据支撑区域T的变化，第三磁力作用的点可能在支撑区域T之外。

因此，第三磁体4510可以靠近第三球构件4610或第四球构件4620设置，使得即使支撑区域T的范围改变，第三磁力作用的点也可以稳定地位于支撑区域T内。也就是说，第三磁体4510和第三球构件4610之间的距离，或者第三磁体4510和第四球构件4620之间的距离可以小于第三磁体4510和第五球构件4630之间的距离。因此，即使第二透镜支架4200以长行程移动，第三磁力作用的点也可以稳定地位于支撑区域T内，从而将第二透镜支架4200稳定地支撑在壳体1100内。

在相机模块100中，用于移动反射构件3100和第二透镜支架4200的驱动线圈3232、3332和4320可以设置在电路板7000上并暴露于壳体1100的内部空间。例如，参考图15，第一驱动线圈3332、第二驱动线圈3232和第三驱动线圈4320可以设置在电路板7000上，并且可以通过壳体1100的开口1151、1152和1153暴露于壳体1100的内部空间。

如图15所示，第一驱动线圈3332、第二驱动线圈3232和第三驱动线圈4320全部可以设置在相同的电路板7000上，但是第一驱动线圈3332、第二驱动线圈3232和第三驱动线圈4320的设置不限于此。第一驱动线圈3332、第二驱动线圈3232和第三驱动线圈4320可以分别设置在不同的电路板上，并暴露于壳体1100的内部空间。

在下文中，将参考图16描述根据示例性实施例的包括在相机模块中的强化构件。

图16示出了强化构件设置在相机模块100的壳体1100、反射模块3000和第二透镜模块4000中的状态。由于参考图16描述的壳体1100、反射模块3000和第二透镜模块4000以及包括它们的相机模块100对应于上述参考图1至15描述的壳体1100、反射模块3000、第二透镜模块4000和相机模块100的所有特征，因此可以省略任何重叠的描述。

当冲击被施加到相机模块100时，冲击可以被传递到球构件和接触球构件的接触表面，这可能引起接触表面的形状的变形。例如，反射模块3000和壳体1100可以设置成彼此面对，并且第一球构件3410和引导球构件3420***在它们之间。在这种情况下，冲击可集中在第一球构件3410或引导球构件3420与壳体1100之间，或第一球构件3410或引导球构件3420与反射模块3000之间的狭窄接触表面上，从而引起接触表面的凹痕或变形。

为了防止这种凹痕，相机模块100还可以包括设置在与第一球构件3410、引导球构件3420、第三球构件4610、第四球构件4620和第五球构件4630接触的部分处的多个强化构件1120a、1130a、1140a、3321a、3322a和4230a。

例如，在相机模块100中，具有优良机械刚度的强化构件1120a、1130a、3321a和3322a可以设置在其中容纳第一引导球构件3410和引导球构件3420的壳体1100的第一容纳槽1120和第三引导槽1130，以及可旋转支架3300的槽3321和第四引导槽3322中。

因此，如图16的局部放大图所示，引导球构件3420的上端和下端可以与强化构件1130a和3322a接触。

强化构件1120a、1130a、3321a和3322a可设置在可旋转支架3300或壳体1100的可与第一引导球构件3410和引导球构件3420接触的部分中的至少一些部分上。例如，强化构件1120a、1130a、3321a和3322a可以设置在壳体1100的容纳第一球构件3410的第一容纳槽1120、可旋转支架3300的容纳第一球构件3410的槽3321、壳体1100的容纳引导球构件3420的第三引导槽1130、以及可旋转支架3300的容纳引导球构件3420的第四引导槽3322中。

强化构件1140a可以设置在壳体1100的容纳用于引导第二透镜模块4000的运动的第三球构件4610、第四球构件4620、和第五球构件4630的第六引导槽1140中，并且强化构件4230a可以设置在第二透镜模块4000的容纳第三球构件4610、第四球构件4620和第五球构件4630的第五引导槽4230中。

此外，虽然在图16中未示出，但强化构件也可以设置在可旋转支架3300和图8至图11中的反射支架3200的接触第二球构件3430的部分。

在包括在相机模块100中的强化构件1120a、1130a、1140a、3321a、3322a和4230a中，接触第一球构件3410、引导球构件3420、第三球构件4610、第四球构件4620和第五球构件4630中的对应球构件的表面可以具有不同的形状。例如，强化构件1120a和3321a可以具有在不同方向上倾斜的表面，使得第一球构件3410可以容易旋转而不改变其位置，而强化构件1130a和3322a可以具有平坦表面，使得引导球构件3420可以容易滚动。然而，强化构件1120a、1130a、3321a和3322a的具体形状不限于上面所述的形状。

强化构件可以由具有比其上设置有强化构件的结构中的材料更高的刚度的材料制成。例如，可旋转支架3300、壳体1100和第二透镜模块4000可以由塑料材料制成，并且设置在可旋转支架3300、壳体1100和第二透镜模块4000上的强化构件1120a、1130a、1140a、3321a、3322a和4230a可以由具有比塑料更高刚度的材料，例如，诸如不锈钢的非磁性金属材料，制成。因此，可以防止可旋转支架3300、壳体1100和第二透镜模块4000的接触第一球构件3410、引导球构件3420、第三球构件4610、第四球构件4620和第五球构件4630的部分由于施加到相机模块100的冲击而变形或损坏。

强化构件可与其上设置有强化构件的结构一体地形成。例如，设置在壳体1100的第三引导槽1130中的强化构件1130a可以通过***注射成型与壳体1100一体地形成。在壳体1100由塑料材料制成的情况下，可以在制造期间在通过在强化构件1130a固定在模具中的状态下将树脂材料注射到模具中来将强化构件与壳体1100集成在一起。

然而，如何附接强化构件不限于上述的***注射成型。例如，可以使用粘合剂或任何其它合适的附接方法将强化构件固定到壳体1100、可旋转支架3300、反射支架3200和第二透镜模块4000。

根据示例性实施例，通过将强化构件放置在相机模块100中接触球构件的部分处，即使当冲击被施加到相机模块100时，也可以显著减少接触球构件的表面的凹痕或变形。

因此，尽管有外部冲击，可旋转支架3300和第二透镜模块4000也可以相对于壳体1100稳定地移动，并且反射支架3200可以相对于可旋转支架3300稳定地移动，并且图8中的位置传感器3233和3333检测部件相对于彼此移动的位置的感测精度可以始终保持恒定。

如上所述，根据本公开中的示例性实施例，通过将透镜模块设置在反射模块的前面和后面，可以提供具有更多透镜模块而不增加其总长度的相机模块。

此外，根据本公开中的示例性实施例，可以提供反射模块和相机模块，其具有即使在向其施加外部冲击的情况下也能够精确地检测运动对象的运动量的结构。

虽然本公开包括特定的示例，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不脱离权利要求及其等同的精神和范围的情况下，可以在这些示例中进行形式和细节上的各种改变。本文所描述的示例仅被认为是描述性的，而不是为了限制的目的。每个示例中的特征或方面的描述被认为可应用于其它示例中的类似特征或方面。如果所描述的技术以不同的顺序执行，和/或如果所描述的***、体系结构、设备或电路中的组件以不同的方式组合，和/或由其它组件或其等同物替换或补充，则也可以获得合适的结果。因此，本公开的范围不是由详细描述来限定，而是由权利要求及其等同来限定，并且在权利要求及其等同的范围内的所有变化将被解释为包括在本公开中。

Claims (30)

1.一种相机模块，其特征在于，所述相机模块包括：

第一透镜模块，包括沿着第一光轴设置的一个或多个透镜；以及

反射模块，从所述第一透镜模块发射的光入射到所述反射模块中，

其中，所述反射模块包括：

壳体，具有内部空间；

可旋转支架，在平行于所述第一光轴的第一方向上支撑在所述壳体中，并且配置为能够相对于所述壳体旋转；

反射支架，在与所述第一方向不同的第二方向上支撑在所述可旋转支架中，并且配置为能够相对于所述可旋转支架旋转；

反射构件，设置在所述反射支架上；以及

第一球构件，形成所述可旋转支架的旋转轴，以及

沿着所述第一光轴延伸的假想线穿过所述第一球构件。

2.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括一对磁体，所述一对磁体配置为提供磁力以将所述反射支架支撑在所述可旋转支架中，

其中，所述一对磁体中的一个磁体设置在所述反射支架上，并且所述一对磁体中的另一个磁体设置在所述旋转支架上，以及

所述一对磁体在所述第二方向上彼此面对。

3.根据权利要求2所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括多个第二球构件，所述多个第二球构件设置在所述反射支架和所述可旋转支架之间并形成所述反射支架的旋转轴。

4.根据权利要求3所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括形成在所述反射支架和所述可旋转支架中的任一个或两个中的多个容纳槽，

其中，所述多个第二球构件分别在所述第二方向上设置在所述多个容纳槽中。

5.根据权利要求3所述的相机模块，其特征在于，所述反射支架的所述旋转轴穿过所述多个第二球构件，以及

所述反射构件设置在多个第二球构件之间。

6.根据权利要求2所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括驱动磁体和驱动线圈，所述驱动磁体和所述驱动线圈配置为旋转所述反射支架，

其中，所述驱动磁体设置在所述反射支架上并且所述驱动线圈设置在所述壳体上，或者所述驱动磁体设置在所述壳体上并且所述驱动线圈设置在所述反射支架上。

7.根据权利要求6所述的相机模块，其特征在于，所述反射支架包括设置在所述可旋转支架和所述壳体之间的延伸部，

所述驱动线圈设置在所述壳体上，以及

所述驱动磁体设置在所述延伸部上，以在所述第二方向上面对所述驱动线圈。

8.根据权利要求7所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括位置传感器，所述位置传感器设置在所述壳体上并且在所述第二方向上面对所述驱动磁体。

9.根据权利要求8所述的相机模块，其特征在于，所述驱动磁体配置为使得所述驱动磁体的面对所述驱动线圈的表面具有在所述第一方向上布置的N极、中性区域和S极，以及

所述位置传感器面对所述中性区域。

10.根据权利要求6所述的相机模块，其特征在于，所述驱动磁体设置在所述一对磁体和所述驱动线圈之间。

11.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括：

驱动磁体和驱动线圈，配置为旋转所述可旋转支架；以及

磁体，配置成通过与所述驱动磁体相互作用来提供磁力，以将所述可旋转支架支撑在所述壳体中；

其中，所述磁体和所述驱动磁体在所述第一方向上彼此面对，并且所述驱动线圈***所述磁体和所述驱动磁体之间。

12.根据权利要求11所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括在所述第一方向上面对所述驱动磁体的位置传感器。

13.根据权利要求11所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括容纳槽，所述容纳槽形成在所述壳体和所述可旋转支架中的任一个或两个中，并且以三个或更多个点支撑所述第一球构件。

14.根据权利要求11所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括多个引导球构件，所述引导球构件配置成引导所述可旋转支架的旋转，

其中，所述多个引导球构件能够相对于所述第一球构件在垂直于所述第一方向的方向上移动。

15.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括阻尼器，所述阻尼器设置在所述反射支架上并朝向所述第一透镜模块突出。

16.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括第二透镜模块，从所述反射构件发射的光入射到所述第二透镜模块中，所述第二透镜模块包括沿着第二光轴设置的一个或多个透镜，

其中，所述第二光轴平行于所述第二方向。

17.一种相机模块，其特征在于，所述相机模块包括：

第一透镜模块和第二透镜模块，具有不同的光轴；以及

反射模块，设置在从所述第一透镜模块到所述第二透镜模块的光路上，

其中，所述反射模块包括：

壳体，具有内部空间；

可旋转支架，设置在所述壳体的所述内部空间中并配置成能够绕第一旋转轴旋转；

反射支架，配置为能够围绕垂直于所述第一旋转轴的第二旋转轴相对于所述可旋转支架旋转，以及

反射构件，设置在所述反射支架上。

18.根据权利要求17所述的相机模块，其特征在于，所述可旋转支架通过第一磁力在平行于所述第一旋转轴的第一方向上支撑在所述壳体中，以及

所述反射支架通过第二磁力在垂直于所述第一方向的第二方向上支撑在所述可旋转支架中。

19.根据权利要求18所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括：

第一驱动磁体，设置在所述可旋转支架上；以及

第一牵引轭，设置在所述壳体上，以及

所述第一磁力由所述第一驱动磁体和所述第一牵引轭产生。

20.根据权利要求18所述的相机模块，其特征在于，所述反射模块还包括配置为产生所述第二磁力的一对磁体，以及

所述一对磁体配置成随着所述可旋转支架旋转而与所述可旋转支架一起旋转。

21.根据权利要求20所述的相机模块，其特征在于，所述一对磁体包括：

第一磁体，设置在所述可旋转支架上；以及

第二磁体，设置在所述反射支架上并且在所述第二方向上面向所述第一磁体。

22.根据权利要求21所述的相机模块，其特征在于，所述反射模块还包括第二驱动磁体和第二驱动线圈，所述第二驱动磁体和所述第二驱动线圈配置成旋转所述反射支架，以及

所述第一磁体设置在所述第二驱动磁体和所述第二磁体之间。

23.根据权利要求22所述的相机模块，其特征在于，所述第一磁体是牵引磁体，并且所述第二磁体是第二牵引轭。

24.一种反射模块，其特征在于，所述反射模块包括：

可旋转支架，配置为能够绕第一轴旋转；

反射支架，联接到所述可旋转支架并且配置成能够围绕垂直于所述第一轴的第二轴旋转；

反射构件，联接到所述反射支架；

第一磁体，设置在所述反射支架上；以及

第二磁体，设置在所述可旋转支架上，

其中，所述第一磁体和所述第二磁体在平行于第三轴的方向上彼此面对，以及

所述第三轴垂直于所述第一轴和所述第二轴。

25.根据权利要求24所述的反射模块，其特征在于，所述第一磁体设置在所述第二轴和所述第二磁体之间。

26.根据权利要求24所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块还包括：

驱动磁体，设置在所述反射支架上；

驱动线圈，配置成与所述驱动磁体相互作用；以及

位置传感器，配置成检测所述驱动磁体的运动。

27.根据权利要求26所述的反射模块，其特征在于，所述第一磁体、所述第二磁体、所述驱动磁体和所述位置传感器设置在平行于所述第三轴的方向上。

28.根据权利要求26所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块还包括壳体，所述壳体具有内部空间和在所述壳体中暴露所述内部空间的开口，

其中，所述可旋转支架设置在所述壳体中；以及

所述驱动线圈和所述位置传感器通过所述壳体中的所述开口暴露于所述壳体的所述内部空间。

29.根据权利要求24所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块还包括所述第二轴穿过的球构件，

其中，所述球构件设置在形成于所述可旋转支架中的第一容纳槽与形成于所述反射支架中的第二容纳槽之间，以及

所述第一容纳槽和所述第二容纳槽在平行于所述第三轴的方向上相互面对。

30.一种相机模块，其特征在于，所述相机模块包括：

根据权利要求24所述的反射模块；

第一透镜模块，具有平行于所述第一轴的第一光轴；以及

第二透镜模块，具有平行于所述第三轴的第二光轴。

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