CN219070146U - 清洁***的基站和清洁*** - Google Patents
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Abstract
本公开涉及清洁***的基站和清洁***;基站的污水箱具有污水腔、污水槽、第一污水通道,且污水箱被构造为安装在基座上后污水槽和基座的清洗槽连通,第一污水通道与污水槽连通后向下延伸至与污水腔连通。基站还包括污水检测元件,污水检测元件设置在基座上且被配置为检测流经第一污水通道的污水。由于泡沫的比重小于污水的比重,泡沫和污水在污水槽将会分离,而污水会进入第一污水通道并在自重下沿第一污水通道流入污水腔内。由于泡沫和污水在污水槽内分离,避免了泡沫对污水检测精度的影响,从而可以提高污水检测元件的检测精度。也就是说,本公开的基站可以以有效避免污水检测元件误判,有效检出污水混浊程度,节约了水资源并提高用户体验。
Description
技术领域
本公开涉及清洁技术领域,更准确地说,本公开涉及一种清洁***的基站和清洁***。
背景技术
扫地机器人等清洁设备的基站在用户家里清洁抹布过程中,泡沫与污垢会干扰污水检测元件信号准确性,导致抹布重复清洗或同一区域重复无效拖地,存在拖地清洁效率低下的问题。
实用新型内容
本公开为了解决现有技术中存在的问题,提供了一种清洁***的基站和清洁***。
第一方面,清洁设备的基站包括:
基座,所述基座设置有清洗槽;
污水箱,所述污水箱具有污水腔、污水槽、第一污水通道,所述污水箱被构造为安装在所述基座上后所述污水槽和所述清洗槽连通,所述第一污水通道与所述污水槽连通后向下延伸至与所述污水腔连通;
污水检测元件,设置在所述基座上且被配置为检测流经所述第一污水通道的污水。
在一个实施例中,所述污水槽的进水口位于所述第一污水通道的上方,所述清洗槽和所述污水槽通过所述进水口连通。
在一个实施例中,所述污水槽的槽底部具有向上延伸的进水管,所述进水口开设在所述进水管的侧壁上,且所述进水口的开口邻近所述第一污水通道。
在一个实施例中,所述进水管上具有止挡面以及由所述止挡面的边缘向下延伸并向邻近所述第一污水通道倾斜的导流面,且所述止挡面位于所述进水口的下方。
在一个实施例中,所述进水口的孔径大于所述第一污水通道的孔径。
在一个实施例中,所述进水口的孔径为6-15mm。
在一个实施例中,所述第一污水通道的孔径为3-12mm。
在一个实施例中,所述污水腔的顶部位于所述污水槽的顶部的上方。
在一个实施例中,所述污水箱的污水腔的腔壁上具有第一导流槽;
所述污水箱还包括隔板,所述隔板以可拆卸地方式设置在所述污水箱上且被构造为隔开所述污水腔和所述第一导流槽,所述隔板和所述第一导流槽合围形成所述第一污水通道。
在一个实施例中,所述隔板与所述污水箱的内壁合围形成所述污水槽。
在一个实施例中,所述污水箱的箱体外壳具有向所述污水腔侧凹陷的第二导流槽;且,
所述污水箱被构造为安装在所述基座上后所述第二导流槽和所述基座合围形成第二污水通道,所述清洗槽和所述污水槽通过所述第二污水通道连通,且所述污水槽位于所述清洗槽上方。
在一个实施例中,所述污水箱还具有与所述污水腔连通的吸气口,以及与所述吸气口连通的真空发生元件,所述真空发生元件被配置为使所述污水腔内形成负压腔;
所述污水箱还包括水位检测元件以及盖板,所述盖板被构造为基于所述水位检测元件检测到所述污水腔内水位达到预设阈值时关闭所述吸气口。
在一个实施例中,所述第一污水通道的内侧通道壁设置有防污涂层。
在一个实施例中,所述第一污水通道凸起设置在所述污水箱的箱体外壁上,所述污水检测元件夹抱在所述第一污水通道上。
第二方面,本公开的清洁***包括清洁设备以及与所述清洁设备配合的基站,其特征在于,所述基站为如上任一实施例所述的基站。
本公开的清洁***及其基站的有益效果之一是,本公开的基站的污水箱具有污水腔、污水槽、第一污水通道,且污水箱被构造为安装在基座上后污水槽和基座的清洗槽连通,第一污水通道与污水槽连通后向下延伸至与污水腔连通。基站还包括污水检测元件,污水检测元件设置在基座上且被配置为检测流经第一污水通道的污水。
本公开的基站的清洗槽中的混合有泡沫的污水进入污水箱的污水槽后,由于泡沫的比重小于污水的比重,泡沫和污水在污水槽将会分离,而污水会进入第一污水通道并在自重下沿第一污水通道流入污水腔内。与此同时,污水检测元件检测污水通道流经第一污水通道的污水,由于泡沫和污水在污水槽内分离,避免了泡沫对污水检测精度的影响,从而可以提高污水检测元件的检测精度。也就是说,本公开的基站可以以有效避免污水检测元件误判,有效检出污水混浊程度,节约了水资源并提高用户体验。
通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述,本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例,并且连同其说明一起用于解释本公开的原理。
图1是一个实施例中本公开的基站的立体结构示意图;
图2是图1所示基站的局部结构示意图;
图3是一个实施例中本公开的基站的局部剖视结构示意图;
图4是一个实施例中本公开的污水箱的立体结构示意图;
图5是图4所示污水箱的侧视结构示意图;
图6是图4所示污水箱的俯视结构示意图;
图7是图4所示污水箱的剖视结构示意图。
图1至图7中各组件名称和附图标记之间的一一对应关系如下:
1、基座;10、容纳腔;100、清洗槽;1000、排水口;1001、喷水口;101、清洁组件;11、斜坡;2、集尘桶;3、清水箱;4、污水箱;40、污水腔;41、污水槽;411、进水管;4110、进水口;4111、止挡面;4112、导流面;42、第一污水通道;420、第一导流槽;421、隔板;43、第二污水通道;44、吸气口;45、水位检测元件;46、盖板;5、污水检测元件。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本公开的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
下面结合附图对本公开的具体实施方式进行描述。
在本文中,“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等仅用于表示相关部分之间的相对位置关系,而非限定这些相关部分的绝对位置。
在本文中,“第一”、“第二”等仅用于彼此的区分,而非表示重要程度及顺序、以及互为存在的前提等。
在本文中,“相等”、“相同”等并非严格的数学和/或几何学意义上的限制,还包含本领域技术人员可以理解的且制造或使用等允许的误差。
本公开提供了一种清洁***的基站和清洁***,该清洁***包括清洁设备以及用于与清洁设备配合的基站,其中,清洁设备为扫地机器人、洗地机等设备,基站可以为这些清洁设备提供充电、自动清洗清洁设备的抹布、自动排污等功能。
参见图1和图2,本公开的清洁***的基站包括基座1以及以可拆卸地方式安装在基座1的预设位置上的集尘桶2、清水箱3和污水箱4;基座1内还设有容纳扫地机器人进入的容置腔10,所述容置腔10包括清洗槽100,所述清洗槽100内设有排水口1000和若干喷水口1001,所述喷水口1001位于所述清洗槽100的内侧壁上,所述清洗槽100的外侧壁对应所述容置腔10的开口部位设有斜坡11,所述斜坡11从所述清洗槽100的顶面向地面延伸,扫地机器人沿所述斜坡11爬行至所述清洗槽100内,当扫地机器人进入所述清洗槽100内时,所述集尘桶2通过管道伸入所述容置腔10内以对接扫地机器人的抽尘口,所述清水箱2与所述喷水口1001相接,所述污水箱3与所述排水口1000相接,保证设备的正常运作。
所述清洗槽100内还设有若干清洗组件101,所述清洗组件101与扫地机器人的拖布相接触,在清洗过程中,通过所述清洗组件101与拖布之间的摩擦,实现对污渍的有效去除,从而减轻了用户自行清理扫地机器人拖布的负担,提升了用户的使用体验。
参见图3,在一个实施例中,本公开的基站的污水箱4具有污水腔40、污水槽41、第一污水通道42,且污水箱4被构造为安装在基座1上后污水槽41和基座1的清洗槽100连通,第一污水通道42与污水槽41连通后向下延伸至与污水腔40连通。
基站1还包括污水检测元件5,污水检测元件5设置在基座1上且被配置为检测流经第一污水通道42的污水。为了便于更好地理解基站的具体结构及其工作原理,请一并参见图4至图7,图4是一个实施例中本公开的污水箱的立体结构示意图,图5是图4所示污水箱的侧视结构示意图,图6是图4所示污水箱的俯视结构示意图,图7是图4所示污水箱的剖视结构示意图。
本公开的基站的清洗槽100中的混合有泡沫的污水进入污水箱4的污水槽41后,由于泡沫的比重小于污水的比重,泡沫和污水在污水槽41将会分离,而污水会进入第一污水通道42并在自重下沿第一污水通道41流入污水腔40内。与此同时,污水检测元件5检测污水通道流经第一污水通道42的污水,由于泡沫和污水在污水槽41内分离,避免了泡沫对污水检测精度的影响,从而可以提高污水检测元件5的检测精度。也就是说,本公开的基站可以以有效避免污水检测元件误判,有效检出污水混浊程度,节约了水资源并提高用户体验。
在一个实施例中,本公开的污水检测元件5为光信号污水检测元件,光信号检测元件发射的光信号穿透污水箱4的箱体外壳射入第一污水通道42内,当第一污水通道42内有污水流过时,光信号受阻,基于此可以获取污水中污染物的含量。当然,本文在此仅是示例性的介绍了一种污水检测元件5,本领域技术人员基于实际应用场景可以选取合适的可以检测污水的检测元件即可,本文在此不做限定。
参见图3和图6,本公开的污水箱4的第一污水通道42凸起设置在污水箱4的箱体外壁上,污水检测元件5夹抱在第一污水通道42上。
详细地,污水检测元件5具有U字型安装夹,污水检测元件5通过U字型安装夹抱在第一污水通道42上。
如此设置,污水检测元件5和第一污水通道42的相对位置关系确定,可以明确得知污水检测元件5的采集点位,此外污水检测元件5由基座1和污水箱4双重定位,保证了其安装可靠性和牢固性。
继续参见图3,本公开的污水箱4的箱体外壳具有向污水腔40侧凹陷的第二导流槽,且污水箱4构造为安装在基座1上后第二导流槽和基座1合围形成第二污水通道43,基座1的清洗槽100和污水箱4的污水槽41通过第二污水通道43连通,且污水槽41位于清洗槽100上方。
显然,本公开的基站借助污水箱4和基座1的结构特点两者配合构成连通清洗槽100和污水槽41的第二污水通道43,使基站整体结构紧凑。此外,由于污水箱4是可拆卸地安装在基座1上的预设位置,将污水箱4拆除后第二污水通道43被拆分为两个独立的部分,且,构成第二污水通道43的两部分均为敞开式结构,从而用户可以方便地清洗第二污水通道43的通道壁上附着的污渍,进而可以改善用户的使用体验。当然,在一个实施例中,清洗槽100和污水槽4也可以通过独立配置的外部水管连通。
此外,污水槽41位于清洗槽100上方,如此设置,污水槽41内的污水再通过第一污水通道42在自重下从污水槽41流入污水腔40内。
继续参见图3,本公开的污水槽41的进水口4110位于第一污水通道42的上方,清洗槽100和污水槽41通过进水口4110连通,也就是说,清洗槽100内混合有泡沫的污水经由进水口4110进入污水槽41内。
由于气泡、泡沫的比重小于污水比重,进水口4110位于第一污水通道42的上方,通过进水口4110进入污水槽41内的污水可以在自重下先于泡沫流入第一污水通道42内,可以更好地实现污水和泡沫的分离,从而进一步地降低泡沫对污水检测元件5检测精度的影响,进而提高污水检测元件的检测精度。
详细地,污水槽41的槽底部具有向上延伸的进水管411,进水口4110开设在进水管411的侧壁上,且进水口4110的开口邻近第一污水通道42。
如此设置,经由进水口4110进入污水槽41内的污水可以快速的流到第一污水通道42内,从而可以避免污水内杂质沉积在污水槽41内而使进入第一污水通道42内污水内杂质含量与流入污水槽41内污水杂质含量不一致致使污水检测元件5的检测结果失真,进而可以进一步地提高污水检测元件5检测结果的精准性。
更为详细地,进水管411上具有止挡面4111以及由止挡面4111的边缘向下延伸并向邻近第一污水通道42倾斜的导流面4112,且止挡面4111位于进水口4110的下方。
如此设置,经由进水口4110进入污水槽41的混合有泡沫的污水的泡沫被止挡面4111阻挡,实现污水和泡沫的分离,然后污水在自重下沿着导流面4112快速流向第一污水通道42,降低污水在污水槽41内流动时其内杂质在污水槽41沉积的几率,从而可以进一步地提高污水检测元件5检测结果的精准性。
继续参见图3,本公开的污水腔40的顶部位于污水槽41的顶部上方。
如此设置,当污水槽41内充满污水时,部分污水可以从污水槽41的顶部流入污水腔40内,从而可以避免污水外溢。
在一个实施例中,本公开的污水箱4的进水口4110的孔径大于第一污水通道42的孔径。
如此设置,本公开的基站可以保证进入污水槽41的污水量大于从第一污水通道42流出的污水量,污水槽41内积聚的污水保证了污水液位在污水检测元件5安装位置上方并保持足够时间。同时实现气液分离,让污水检测元件5检测污水时不受泡沫与气泡的影响。
详细地,本公开的污水箱4的进水口4110的孔径为6-15mm,而第一污水通道42的孔径为3-12mm。当然,本文在此仅是示例性地说明了污水箱的进水口4110、第一污水通道42的孔径范围,但并不仅限于此。
结合图3和图4,污水箱4的污水腔40的腔壁上具有第一导流槽420,污水箱4还包括隔板421,隔板421以可拆卸地方式设置在污水箱4上且被构造为隔开污水腔40和第一导流槽420,隔板421和第一导流槽420合围形成第一污水通道42。此外,隔板421上开设有连通孔或者隔板421和污水腔40的底部之间具有间隙,以供污水从第一污水通道42流入污水腔40内。
详细地,污水箱4上开设有滑槽,隔板421通过滑槽也拆卸地方式安装在污水箱4上,结构简单其便于拆装。当然,隔板421也可以通过螺栓等紧固件以可拆卸地方式连接在污水箱4。
如此设置,当清洗污水箱4时,将隔板421拆除,第一污水通道42被拆分为两个独立的部分,且,构成第一污水通道42的两部分均为敞开式结构,从而用户可以方便地清洗第一污水通道42的通道壁上附着的污渍,进而可以改善用户的使用体验。
继续结合图3和图4,本公开的隔板421与污水箱4的内壁合围形成污水槽41。
也就是说,本公开的隔板421构成了污水槽41的部分结构,当当清洗污水箱4时,将隔板421拆除,污水槽41被拆分为两个独立的部分,且,构成污水槽41的两部分均为敞开式结构,从而用户可以方便地清洗污水槽41的通道壁上附着的污渍,进而可以改善用户的使用体验。
此外,第一污水通道42、第二污水通道43的内侧通道壁可以通过设置防污涂层的方式,以减小污染物附着,从而减小维护频率,提升用户体验。在一个实施例中,该防污涂层可以为纳米涂层。
如前文所述,本公开的基站将基座1的清洗槽100内的污水导入污水箱4的污水槽41内,再在自重下从与污水槽41连通的第一污水通道42流入污水腔40内,驱动污水流动的驱动元件可以为水泵,也就是说,水泵通过水管连通基座1的清洗槽100和污水箱4污水槽41的进水口4110,启动水泵即可将清洗槽100内污水泵入污水槽41内。
但是,由于清洗槽100内污水含有各种杂质,极易在水泵、水管内堆积污垢,从而需要用户频繁清洗或更换水泵,存在维护成本高的问题。
为此,本公开的污水箱4还具有与污水腔40连通的吸气口44,以及与吸气口44连通的真空发生元件,比如真空泵,真空泵被配置为通过吸气口44抽取污水腔40内的空气以使污水腔40内形成负压腔,此时由于污水腔40内外压差清洗槽100内污水就会被吸入污水槽41,再经由第一污水通道42流入污水腔40内。
此外,如果污水腔40达到满箱后,如果真空泵一直处于工作状态,污水腔40内污水将会从污水箱4内溢出,轻则会造成基座污染,重则会损坏基站正常工作。
为此,继续参见图4和图6,本公开的污水箱还包括水位检测元件45以及盖板46,盖板46被构造为基于水位检测元件45检测到污水腔40内水位达到预设阈值时关闭吸气口44。
如此设置,当水位检测元件45检测到污水腔40水位达到预设阈值时关闭吸气口44,从而阻隔开真空发生元件和污水腔40,污水腔40内外压差接近零,污水停止流动,从而可以避免污水箱内污水外溢的问题。
详细地,在一个实施例中,水位检测元件45具体为具有磁性的浮球以及设置在基座1上的霍尔传感器(图中未示出),浮球位于污水腔40内并可以随时污水腔40内污水水位的变化漂浮在污水水面,当污水腔40内水位达到预设的最大水位值时,霍尔传感器检测到浮球内磁场变化从而控制真空发生元件停机。
如果水位检测元件发生故障时,也即污水腔40内水位到达预设阈值当其并未发出控制真空发生元件停机的指令。而本公开的盖板46和浮球构成杠杆机构,也就是说,盖板46和浮球安装在杠杆的转动支点两侧,当污水腔40内水位尚未达到允许最大水位的预设阈值时,吸气口44位于开启状态,当浮球在污水腔40随污水上升至允许最大水位的预设阈值时,盖板46则绕转动支点转动至关闭吸气口44,阻断污水腔40和真空发生元件。
显然,本公开的基站通过增加盖板46并使其与水位检测元件45形成联动关系,从而在当水位检测元件45控制真空发生元件失灵后,由盖板46强制关闭吸气口44,结束了污水腔40内的负压环境,阻止了清洗槽100内的污水流向污水腔40,避免了污水外溢问题,保证了基站的正常工作。
当然,本公开的基站也可以省去水位检测元件45与真空发生元件之间的通信连接关系,当浮球在污水腔40随污水上升至允许最大水位的预设阈值时,盖板46则绕转动支点转动至关闭吸气口44,阻断污水腔40和真空发生元件,以降低基站的控制流程和程序。
为了便于更好地理解,下面参照图1至图7,再结合应用场景说明本公开的清洁***及其基站的实际使用过程。
应用场景
等清洁设备需要排污或清洗抹布时,清洁设备驶入基站1的容纳腔10内,喷水口1001向清洗槽100喷入清水,清洗组件101启动开设清洗抹布,与此同时,真空发生元件启动抽取污水腔40内空气,使污水腔40内形成负压环境。清洗槽100内污水经由第二污水通道43进入污水槽41内,在污水槽41内进行气液分离,即污水内气泡和泡沫被分离,而自重相对较重的污水则借助自重和负压经由第一污水通道42流入污水腔内,与此同时,污水检测元件5可以检测流经第一污水通道42内的污水。由于泡沫和污水在污水槽41内分离,避免了泡沫对污水检测精度的影响,从而可以提高污水检测元件5的检测精度。也就是说,本公开的基站可以以有效避免污水检测元件误判,有效检出污水混浊程度,节约了水资源并提高用户体验。
此外,本公开的污水箱4的进水口4110的孔径大于第一污水通道42的孔径。如此设置,本公开的基站可以保证进入污水槽41的污水量大于从第一污水通道42流出的污水量,污水槽41内积聚的污水保证了污水液位在污水检测元件5安装位置上方并保持足够时间。同时实现气液分离,让污水检测元件5检测污水时不受泡沫与气泡的影响。
另外,本公开的污水箱4的污水槽41、第一污水通道42皆是由污水箱4的箱体外壳和隔板421围合而成,而隔板421则可拆卸地设置在污水箱4的箱体外壳上。当清洗污水箱4时,将隔板421拆除,污水槽41、第一污水通道42被拆分为两个独立的部分,且,构成污水槽41、第一污水通道42的两部分均为敞开式结构,从而用户可以方便地清洗污水槽41、第一污水通道42的通道壁上附着的污渍,进而可以改善用户的使用体验。
还有,当污水本公开的盖板46和浮球构成杠杆机构,也就是说,盖板46和浮球安装在杠杆的转动支点两侧,当污水腔40内水位尚未达到允许最大水位的预设阈值时,吸气口44位于开启状态,当浮球在污水腔40随污水上升至允许最大水位的预设阈值时,盖板46则绕转动支点转动至关闭吸气口44,阻断污水腔40和真空发生元件。
以上已经描述了本公开的各实施例,上述说明是示例性的,并非穷尽性的,并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下,对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择,旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术改进,或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。本公开的范围由所附权利要求来限定。
Claims (15)
1.一种清洁***的基站,其特征在于,包括:
基座(1),所述基座(1)设置有清洗槽(100);
污水箱(4),所述污水箱(4)具有污水腔(40)、污水槽(41)、第一污水通道(42),所述污水箱(4)被构造为安装在所述基座(1)上后所述污水槽(41)和所述清洗槽(100)连通,所述第一污水通道(42)与所述污水槽(41)连通后向下延伸至与所述污水腔(40)连通;
污水检测元件(5),设置在所述基座(1)上且被配置为检测流经所述第一污水通道(42)的污水。
2.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述污水槽(41)的进水口(4110)位于所述第一污水通道(42)的上方,所述清洗槽(100)和所述污水槽(41)通过所述进水口(4110)连通。
3.根据权利要求2所述的基站,其特征在于,所述污水槽(41)的槽底部具有向上延伸的进水管(411),所述进水口(4110)开设在所述进水管(411)的侧壁上,且所述进水口(4110)的开口邻近所述第一污水通道(42)。
4.根据权利要求3所述的基站,其特征在于,所述进水管(411)上具有止挡面(4111)以及由所述止挡面(4111)的边缘向下延伸并向邻近所述第一污水通道(42)倾斜的导流面(4112),且所述止挡面(4111)位于所述进水口(4110)的下方。
5.根据权利要求2所述的基站,其特征在于,所述进水口(4110)的孔径的大于所述第一污水通道(42)的孔径。
6.根据权利要求5所述的基站,其特征在于,所述进水口(4110)的孔径为6-15mm。
7.根据权利要求5所述的基站,其特征在于,所述第一污水通道(42)的孔径为3-12mm。
8.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述污水腔(40)的顶部位于所述污水槽(41)的顶部的上方。
9.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述污水箱(4)的污水腔(40)的腔壁上具有第一导流槽(420);
所述污水箱(4)还包括隔板(421),所述隔板(421)以可拆卸地方式设置在所述污水箱(4)上且被构造为隔开所述污水腔(40)和所述第一导流槽(420),所述隔板(421)和所述第一导流槽(420)合围形成所述第一污水通道(42)。
10.根据权利要求9所述的基站,其特征在于,所述隔板(421)与所述污水箱(4)的内壁合围形成所述污水槽(41)。
11.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述污水箱(4)的箱体外壳具有向所述污水腔(40)侧凹陷的第二导流槽;且,
所述污水箱(4)被构造为安装在所述基座(1)上后所述第二导流槽和所述基座(1)合围形成第二污水通道(43),所述清洗槽(100)和所述污水槽(41)通过所述第二污水通道(43)连通,且所述污水槽(41)位于所述清洗槽(100)上方。
12.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述污水箱(4)还具有与所述污水腔(40)连通的吸气口(44),以及与所述吸气口(44)连通的真空发生元件,所述真空发生元件被配置为使所述污水腔(40)内形成负压腔;
所述污水箱(4)还包括水位检测元件(45)以及盖板(46),所述盖板(46)被构造为基于所述水位检测元件(45)检测到所述污水腔(40)内水位达到预设阈值时关闭所述吸气口(44)。
13.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述第一污水通道(42)的内侧通道壁设置有防污涂层。
14.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述第一污水通道(42)凸起设置在所述污水箱(4)的箱体外壁上,所述污水检测元件(5)夹抱在所述第一污水通道(42)上。
15.一种清洁***,所述清洁***包括清洁设备以及与所述清洁设备配合的基站,其特征在于,所述基站为权利要求1至14任一项所述的基站。
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CN202223549260.3U CN219070146U (zh) | 2022-12-28 | 2022-12-28 | 清洁***的基站和清洁*** |
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