CN218995142U - 用于光学测量的设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及用于光学测量的设备，其包括：基座组件；框架组件，安装在所述基座组件之上，用于固定平板照明源，其中待测量样本放置在该平板照明源上；以及样本调节组件，安装在所述框架组件上，用于对所述待测量样本进行调节，以控制该待测量样本接受测量的位置。将其安装在现有的测量***上进行“闪烁”和反射分配的测量，可以显著地降低测量的可变性。

Description

用于光学测量的设备

技术领域

本实用新型涉及测量设备，更具体地涉及用于光学测量的设备。

背景技术

过去几年，高性能显示器的应用不断地扩展到各种领域，包括被布置在通信量高的区域，例如在汽车仪表板中，或者在建筑特征中，诸如内置的镜子、门和橱柜中，以及在协同办公环境中。伴随着这种高性能显示器的增长需求，需要能够改善显示器性能的表面。比如在各种照明条件下，在平滑、有光泽的显示器上会发生表面反射，这对显示器来说是极为不利的，因为表面反射会影响屏幕的可见度。现有技术中采用的一种普遍解决方案是使用防眩光(AG)表面，其可使镜面反射在宽角度范围上被重新分配，使反射光漫反射。

然而，使用AG表面会在发射型的像素化显示器上产生不想要的结果—“闪烁”。“闪烁”与像素发射的随机散射有关，这些像素发射一部分射向人眼，一部分离开人眼。这是由AG表面特征引起的，AG表面特征充当小透镜的作用，其可产生像素尺寸等级上的非均匀外观。影响“闪烁”数量级的几个显示器属性包括像素尺寸、像素间距和像素层与AG表面之间的距离。考虑到显示器正朝着像素越来越小、厚度越来越薄、分辨率越来越高的方向发展，同时对使用显示器的环境(例如，汽车应用中)也不断提出要求，对新的AG表面以及对在减小眩光的同时仍然能够使“闪烁”效应最小化的工艺的开发受到了极大的关注。特别地，越来越期望能在高分辨率显示器上使用低“闪烁”表面，因此期望能够对不同AG材料表面在显示器上的“闪烁”进行测量和量化。然而，已经开发的一些“闪烁”测量装置却并不能满足可重复性标准。期望能对“闪烁”测量技术进行改进，以尽量降低测量值非归因于待测量样本的差异所导致的可变性。

另外，对于AG表面，也期望能够量化其重新分配镜面反射的能力，但现有的测量装置也存在测量值可变性高的问题。

实用新型内容

本实用新型就旨在克服现有技术中的上述和/或其它问题。将本实用新型的用于光学测量的设备安装在现有的“闪烁”测量***上对“闪烁”进行测量，可以显著地降低测量的可变性，从而大大提高对“闪烁”进行量化的效率和准确性。另外，将本实用新型的用于光学测量的设备安装在现有的反射分配测量装置上测量AG表面对镜面反射的分配变化，可大大降低测量值的可变性。

根据本实用新型，提供一种用于光学测量的设备，包括：基座组件；框架组件，安装在所述基座组件之上，用于固定平板照明源，其中待测量样本放置在该平板照明源上；以及样本调节组件，安装在所述框架组件上，用于对所述待测量样本进行调节，以控制该待测量样本接受测量的位置。

上述设计可以对平板照明源和待测量样本的定位和运动进行机械控制，这对实现准确和精确的“闪烁”测量是至关重要的，然而没有任何一种现有的测量装置考虑到这一点。本实用新型的用于光学测量的设备可以作为对“闪烁”测量的定制硬件，将其安装在现有的测量工作台上，可以显著地降低测量结果的可变性。

较佳地，可将上述平板照明源设置为显示器。

较佳地，可以进一步包括显示器组件，其中安装有显示器，并将上述框架组件设置为显示器搭载组件。由此，该显示器搭载组件安装在基座组件之上并固定所述显示器组件，待测量样本放置在该显示器组件上并可由样本调节组件调节其接受测量的位置。

较佳地，根据本实用新型的用于光学测量的设备还可以包括：相机支架，用于固定相机，所述相机用于捕捉所述待测量样本的图像。在“闪烁”测量中需要捕捉待测量样本的图像，但现有测量平台上的相机支架是最不稳定的硬件，其会影响测量的可重复性。而通过安装本实用新型的光学测量用设备，采用该设备上自带的相机支架，可以牢固地定位相机。

较佳地，根据本实用新型的用于光学测量的设备还可以包括：运动台，其安装在所述基座组件之上，用于控制所述显示器的表面到所述待测量样本之间的距离。由此，可以应变于显示器像素层到AG样本表面之间的距离来测量“闪烁”，从而可以有利地掌握AG样本结构对“闪烁”的影响。

较佳地，上述平板照明源或显示器可固定有专用于该平板照明源或显示器的工具配件，该工具配件的参数在该平板照明源或显示器的使用寿命中保持不变。这些工具配件可有助于更准确地测量“闪烁”。而且，虽然这些工具配件的参数对于每个单独的平板照明源或显示器来说是保持不变的，以实现该平板照明源或显示器与被安装本实用新型的***操作平台的普遍精确对接，但针对不同类型和不同尺寸的平板照明源或显示器，仍然可以灵活地设计所述工具配件的参数。

较佳地，所述显示器与其对应的框架在该显示器的使用寿命中始终装配在一起，从而可以有助于保持基准定位。

较佳地，可通过安装在所述显示器组件底部的工具球与所述显示器搭载组件上的V形块的对接，来将所述显示器组件坞接至所述显示器搭载组件上。这种新颖的设计可为显示器提供可重复性定位，使其无需复杂的重新基准或对准就能被再次使用。

较佳地，所述样本调节组件可设置在所述显示器组件之上，并且所述待测量样本可放置在所述显示器组件中的显示器表面之上并通过所述样本调节组件的滑动件定位。

较佳地，所述基座组件上也可安装V形块，用于与安装在所述显示器组件底部的工具球对接，以固定地定位所述显示器组件中的显示器，由此可在该显示器上的相同位置实现微米级别的可重复性测量。

较佳地，也可在所述基座组件上安装球状传送辊，以允许“浮动地”定位所述显示器组件中的显示器，由此可定位该显示器上的任何部分并进行测量。

较佳地，可将上述显示器设置为掩模组件，该掩模组件可包括像素掩模和背投光源，其中所述待测量样本放置在所述像素掩模上。该掩模组件相当于一个显示器的仿制模型，其可替代真正完整的显示器来用于测量“闪烁”，但同时仍然可以保持测量值的低可变性。

较佳地，上述掩模组件还可包括透明基板，在该透明基板的表面上具有不透明的基质，其中所述像素掩模设置在所述透明基板上。该透明基板及在其表面上的不透明基质可以模拟出子像素图案的效果。

较佳地，上述掩模组件可进一步包括载体底座和掩模载体，该载体底座安装至所述显示器搭载组件上，该掩模载体固定在所述载体底座上，其中所述背投光源安装在所述载体底座的下面，所述像素掩模和所述透明基板位于所述掩模载体内，所述样本调节组件位于所述掩模载体的顶部之上。

较佳地，上述掩模载体可通过三个磁性运动学安装件固定至所述载体底座，从而可牢固地将掩模载体安装至所述载体底座上。

较佳地，上述掩模载体可包括分别在两个不同平面上的穴部，用于分别定位所述像素掩模和所述透明基板。

较佳地，上述掩模载体还可包括挠曲元件和夹紧表面，其中所述穴部、所述挠曲元件和所述夹紧表面直接机器加工进所述掩模载体中。可为用于定位透明基板和像素掩模的穴部设计尺寸和公差，以提供合适的长度和宽度间隙，从而可以实现零件公差的变化，这为在尽可能减少夹紧表面运动的同时***或移除透明基板和像素掩模提供了方便。

较佳地，上述掩模载体可包括穴部，所述像素掩模、所述透明基板和所述待测量样本可堆叠在该穴部中。

较佳地，可进一步在所述穴部的一个角落上设置一个缺口作为所述背投光源的开口区域和测量区域，所述像素掩模、所述透明基板和所述待测量样本适配于所述带缺口的角落并被固定在所述穴部内。由于测量区域保持在一个角落中，所以该设计可以使像素掩模和其它部件的尺寸更加灵活。

较佳地，可用反射分配组件来替代所述显示器组件。该反射分配组件可包括：底板，安装在所述显示器搭载组件上或直接安装在所述基座组件上；支撑板，设置在所述底板上并与所述相机的光学轴对准；以及基准材料片，固定在所述支撑板中。所述待测量样本位于所述基准材料片上，并且定位所述样本调节组件，使得所述待测量样本的中心边缘位于所述相机的光学轴的中心处。

上述设计可以实现在相同操作平台上进行不同于“闪烁”测量的另一种测量—AG表面对镜面反射的分配测量，也即，反射分配测量，而且同样可以实现测量值的低可变性。

较佳地，上述反射分配组件还可包括角度调节件，用于调节所述支撑板相对于所述底板的角度。

较佳地，可通过真空吸力来保持所述基准材料片并使其相对于所述待测量样本是平坦的。

较佳地，所述基准材料片还可具有真空孔，用于使所述待测量样本平坦并且悬挂于所述支撑板的边缘。该设计对较大尺寸的待测量样本特别有用，可在不引起大尺寸样本部分变形的情况下将其悬挂于所述支撑板的边缘。

较佳地，所述反射分配组件还可包括多个分开的真空增压室，用于对所述基准材料片和所述待测量样本中的至少一者进行真空控制。该真空增压室可允许灵活的真空控制，以更好地夹紧待测量样本。

较佳地，也可在所述基准材料片和所述底板的至少一者中嵌入磁体，从而可有效地固定所述待测量样本和所述基准材料片中的至少一者。

较佳地，当用反射分配组件来替代所述显示器组件时，该反射分配组件还可包括：底板，安装在所述显示器搭载组件上或直接安装在所述基座组件上；支撑板，设置在所述底板上并与所述相机的光学轴对准；基准材料片；以及基准材料保持器，其在两端具有轨道，所述基准材料片在所述基准材料保持器上。其中在所述支撑板上定位所述待测量样本，使得所述待测量样本的中心边缘位于所述相机的光学轴的中心处，并且所述基准材料片沿着所述轨道在所述待测量样本的表面的上方滑动。

上述设计同样是利用相同操作平台来对AG表面进行反射分配测量，其特别适用于带油墨边界的大多边形待测量样本的测量。这种样本的形状和设计不允许把样本切成小方块，也不允许把基准材料片放置在样本的顶部，而通过采用上述设计的反射分配组件，基准材料片不会接触到待测量样本的表面，但却能够绕着待测量样本移动，从而可以在整个样本上的多个位置实现测量。

较佳地，上述基准材料片可具有腿形连接件，该腿形连接件的端部设置有辊，该辊沿着所述轨道滑动，使得所述基准材料片在所述待测量样本上方移动、但不接触所述待测量样本。当所述基准材料片到达测量位置的上方，所述腿形连接件使所述基准材料片锁定在该测量位置。

通过下面结合附图的详细描述，本实用新型的其它特征和方面会变得更加清楚。

附图说明

通过结合附图对于本实用新型的示例性实施例进行描述，可以更好地理解本实用新型，在附图中：

图1示出了根据本实用新型的用于光学测量的设备的示意图；

图2示出了根据本实用新型的用于光学测量的设备的扩展实施例的示意图；

图3示出了图2所示扩展实施例中显示器组件的结构示意图；

图4示出了适用于各种不同显示器的显示器组件；

图5示出了图2所示扩展实施例中显示器搭载组件的结构示意图；

图6示出了图2所示扩展实施例中控制基准工具组件的结构示意图；

图7(a)和图7(b)分别为图2所示扩展实施例中显示器搭载组件安装了显示器组件之后的立体示意图和前视图；

图7(c)和图7(d)分别为图2所示扩展实施例中显示器搭载组件安装了显示器组件和控制基准工具组件之后的立体示意图和前视图；

图8示出了图2所示扩展实施例中基座组件的结构示意图；

图9(a)～图9(c)示出了对应于三个样本的测试数据的图表；

图10示出了图2所示扩展实施例中相机支架的结构示意图；

图11示出了图2所示扩展实施例中运动台的结构示意图；

图12示出了图2所示扩展实施例的一个实例的结构示意图；

图13(a)～图13(c)示出了图2所示实施例中显示器组件的一个扩展实施例的结构示意图；

图14和图15分别为图13(a)所示扩展实施例的一个实例的俯视图和立体图；

图16示出了图13(a)所示扩展实施例中掩模载体的一个实例的结构图；

图17示出了图13(a)所示扩展实施例中掩模载体的另一个实例的结构图；

图18示出了使用本实用新型的掩模组件来对“闪烁”进行测量的测量结果；

图19和图20分别为图2所示实施例中显示器组件的另一个扩展实施例的俯视图和立体示意图；

图21比较了两种相同板的反射分配测量；

图22示出了图2所示实施例中显示器组件的还有一个扩展实施例的立体示意图；

图23和图24分别为图22所示扩展实施例的一个实例的立体示意图和侧视图；

图25为图23所示实例的后视图；以及

图26为图22所示扩展实施例的另一个实例的示意图。

具体实施方式

下面将结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明，在以下的描述中阐述了更多的细节以便于充分理解本实用新型，但是本实用新型显然能够以多种不同于此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型精神的情况下根据实际应用情况作类似推广、演绎，因此不应以此具体实施例的内容限制本实用新型的保护范围。

除非另作定义，权利要求书和说明书中使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属技术领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请的说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“一个”或者“一”等类似词语并不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同元件，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，也不限于是直接的还是间接的连接。

根据本实用新型的实施例，提供一种用于光学测量的设备。

参考图1，其中示出了根据本实用新型的用于光学测量的设备100。该设备100包括基座组件110、框架组件120和样本调节组件150。

如图1所示，该基座组件110可以比如为底板，该框架组件120可以比如为显示器框架。框架组件120安装在基座组件110之上，用于固定平板照明源180。待测量样本可放置在平板照明源180上。样本调节组件150安装在框架组件120上，可用于对待测量样本进行调节，以控制待测量样本接受测量的位置。

平板照明源180可以比如为显示器，其可提供均匀的像素分布。可以将笔记本电脑的显示屏幕作为该显示器，由于笔记本电脑的屏幕重量比键盘部分要轻，所以可以在现有的“闪烁”测量***操作台上安装所述底板，所述显示器框架安装在该底板上，用于将笔记本电脑的显示屏幕固定在适当的位置。样本调节组件150被安装在待测量样本的左侧和右侧，可以使样本对齐，并且可以使样本出现在可重复和可再现的样本测量位置。

近几年来，越来越期望能在高分辨率显示器(例如，视网膜屏幕)上使用低“闪烁”(比如，2％或更少的像素功率分布(PPD)值)表面。然而，尽管越来越认识到“闪烁”在显示器行业中的重要性，却很少有技术能够对不同AG材料表面的“闪烁”进行模型化、测量和量化。现有的“闪烁”测量***适用于高“闪烁”(6～10％)样本，而且也无法满足重复性标准的要求。并且，随着更低“闪烁”的趋势越来越明显，而测量中并非样本差异或测量***的基本极限所引起的变化却给工作流和制造工艺的反馈带来越来越多的麻烦，对于测量可重复性的需求变得越来越迫切。然而，现有的“闪烁”测量***，其在测量中的可变性为±2％“闪烁”到±40％“闪烁”或更多，这对于以低“闪烁”(<2％“闪烁”或更少)来测量样本是不可接受的，而且还会限制用户在进行试验时的认知，因为固有的噪声水平超过了正被探查的差异。这对于在生产环境中的质量控制也是不理想的。期望能够降低重复性误差，以满足低“闪烁”样本的测量。

本实用新型的发明人经过大量测试和研究，发现使用硬件来固定像素源并控制样本测量位置，可以显著地减小测量中的可变性。因此，在根据本实用新型的用于光学测量的设备中创新地采用了定制的硬件来控制显示器和待测量AG样本的机械定位，这在任何现有技术中都从未被考虑过，但却对实现准确和精确的测量是至关重要的。本实用新型的设备可以对用于测量的显示器的定位和移动进行高精度的机械控制(大约±5μm)，所以即便未来的趋势下显示器像素间距持续减小(例如，450PPI(像素/英寸)的显示器具有56μm的像素间距)，通过安装本实用新型的光学测量用设备，也完全可以保持较低的定位可变性。本实用新型的设备还可以实现在测量中对待测量样本的定位和移动进行高精度的机械控制(大约±10μm)，从而可以在给定的样本上对不同位置进行精确测量，并且可以及时了解在样本表面促成“闪烁”的局部变化。同时，本实用新型的设备也为待测量样本提供了灵活的样本保持设计，从而可以对各种尺寸(例如，从优惠券大小或更小的尺寸到显示器的尺寸)的样本进行可重复性地测量。

本实用新型的光学测量用设备可以在当前大部分可用的显示器表面上定位待测量样本，应变于显示器的位置来进行测量。特别地，本实用新型可以采用17.3英寸屏幕的笔记本电脑的显示器来进行测量，由此该显示器上的任何部分都能被用于测量。

可选地，可在平板照明源180被放置待测量样本的表面用胶带粘附柳叶玻璃。同样以笔记本电脑的显示屏幕作为该平板照明源180为例，该用胶带粘附的柳叶玻璃(例如，150～200μm厚)可以防止在测量期间由于样本平移在笔记本电脑的屏幕表面上产生划痕。

通过使用本实用新型的光学测量用设备，可以显著地降低测量的可变性，极大地改善测量的可重复性，同时还可降低测量噪声，并可在保持适合于制造环境的优良性能的同时获得更大的灵活性。

以下的表1示出了在业界三种“闪烁”测量***操作台上安装了本实用新型的设备(该示例中包括笔记本电脑、显示器框架和样本调节组件)后所获得的重复性性能指标。从表1中可以看出，所有情况下与“闪烁”测量相关联的可变性指标都很好地维持在1％以下，除了在安装在CPT上的SMS-1进行的AG面朝下的AG测量；但以“闪烁”单位计的重复性误差指标在所有情况下都非常低，即使是上述安装在CPT上的SMS-1进行的AG面朝下的AG测量也只有0.16闪烁单位。

表1

与没有安装本实用新型设备的现有“闪烁”测量***操作台相比，安装了本实用新型设备的这几种***操作台测量所得到的“闪烁”可重复性提高了大约五倍。

参考图2，其中示出了根据本实用新型的用于光学测量的设备300，其为上述用于光学测量的设备100的扩展实施例。与设备100相比，平板照明源180被直接设置为显示器384，设备300还包括显示器组件380，该显示器组件380中安装所述显示器384，框架组件120被直接设置为显示器搭载组件320。如图2所示，该显示器搭载组件320安装在基座组件310之上并固定显示器组件380，待测量样本可放置在显示器组件380上并可由样本调节组件350调节其接受测量的位置。

商业上可用的显示器都会设计成重量比较轻，而且具有可折叠的外部结构，因为它们旨在满足人类工程学和美学方面的需求，而不会有任何适合于可重复位置目的的机械设施或特征。上述用于光学测量的设备300可以为每个显示器组件380中的显示器提供必要的机械特征，这些机械特征与工艺准确的要求相匹配。比如，这些机械特征可以为工具配件的形式，这些工具配件专用于显示器组件380中的显示器(或者平板照明源180)，并且在该显示器(或者平板照明源180)的整个使用寿命期间都固定于该显示器(或者平板照明源180)。该显示器(或者平板照明源180)工具配件的参数可随显示器(或者平板照明源180)类型和尺寸的变化而进行灵活的设计，但一旦选定了显示器(或者平板照明源180)，该工具配件的参数在该显示器(或者平板照明源180)的使用寿命中保持不变，从而可实现该显示器(或者平板照明源180)与被安装上述设备300(或100)的***操作平台的普遍精确对接。

可选地，显示器组件380中的显示器框架具有一组相同的特征组件，例如可以是在特定位置的工具球，其使得该显示器框架可以与相邻的工具组件相匹配。图3示出了显示器组件380的各个组成部分，包括显示器框架382和显示器384。显示器框架382上的开口对于每个显示器384来说是独一无二的。可以使用夹紧板来将显示器384紧固于其对应的框架382。显示器384与其对应的框架382在该显示器384的使用寿命期间始终装配在一起，以维持基准定位。图4示出了适用于各种不同显示器的显示器组件。

可选地，可通过安装在显示器组件380底部的工具球来将显示器组件380坞接至显示器搭载组件320上。具体地，可在显示器搭载组件320上设置V形块，将该V形块与上述安装在显示器组件380底部的工具球对接，从而实现显示器组件380与显示器搭载组件320之间的坞接。本申请中的“V形块”指的是一种V形的夹具，其当与球形件耦合时可实现定位可重复性和自动定心。上述新颖的设计提供了一组共同的可重复性定位特征，这在任何现有的显示器中都未被使用过，其可为显示器提供可重复性定位，使其无需复杂的重新基准或对准就能被再次使用。

可选地，所述显示器组件380可具有3个在使用寿命期间一直固定在显示器组件380上的工具球，所述显示器搭载组件320可具有3个永久固定的V形块。

上述工具球与V形块的对接使得所述显示器384可以被多次安装、拆除和重新安装，并且每次都可以以极高的定位准确性装在设备300中。这种运动学***可使用标准但成本较低的元件来构成符合人体工程学的完美约束。这种设计实现了“旅行框架”(显示器组件中的显示器框架，显示器紧固于该框架)的新理念，为测量带来了极大的方便和灵活性。

需要特别说明的是，上述“旅行框架”也可以通过使用其它的定位元件(诸如销)和/或简单的定位面来实现，或者也可以通过使用不同的人体工程学布置(诸如锥体)来实现。

可选地，可将上述样本调节组件350设计为控制基准工具组件。一旦显示器组件380被定位至显示器搭载组件320上之后，可将控制基准工具组件放置在显示器组件380上，并可将待测量样本(例如，样本玻璃)放置在显示器384的表面上并通过上述控制基准工具组件的滑动分组件上的特征件进行定位。如图5所示，显示器搭载组件320具有侧边条形件322，用于定位上述控制基准工具组件350。如图6所示，控制基准工具组件350具有样本调节件352，可通过样本调节件352定位待测量样本。图7(a)和图7(b)分别示出了显示器搭载组件320安装了显示器组件380之后的立体示意图和前视图，图7(c)和图7(d)分别示出了显示器搭载组件320安装了显示器组件380和控制基准工具组件350之后的立体示意图和前视图。

基座组件310既可实现对显示器的固定定位，也可实现对显示器的“浮动”定位。举例来说，基座组件310上也可安装V形块，用于与安装在显示器组件380底部的工具球对接，从而可固定地定位显示器组件380中的显示器384，即，在显示器384上的相同位置进行微米级别的可重复性测量。或者，如图8所示，也可在基座组件310上安装球状传送辊，例如气动布置/可伸缩的球状转移传送辊，从而可“浮动地”定位显示器组件380，使其通过球状传送辊“浮动”地定位显示器384的任何部分。通过该利用压缩空气布置/伸缩的球状转移传送单元可将显示器384挪动到合适的位置，这为操作人员提供了更好的灵活性而且符合人体工程学。

在SMS-1上安装上述包括基座组件310、显示器搭载组件320、显示器组件380和控制基准工具组件350的光学测量用设备300后，可用于对“闪烁”进行测试。

图9(a)～图9(c)分别示出了在SMS-1上安装上述光学测量用设备300后所获得的三个样本的测试数据。以下的表2进一步比较了在SMS-1上安装上述光学测量用设备300以及上述光学测量用设备100后每个部件对可重复性性能的影响。

表2

从图9所示结果以及上述表2可知，在SMS-1上安装上述光学测量用设备300后，移动每个部件的2σ可变性均小于0.075％，可以说，移动任何硬件部件均不会显著影响测量的可重复性。而且，作为上述光学测量用设备100的扩展实施例，设备300可以在设备100的基础上将噪声进一步减小4倍，即，可以将可重复性进一步提高4倍。

在SMS-1上安装上述光学测量用设备300后，移动任何给定的硬件部件，只会最低限度地影响到测量值的平均值和标准偏差。移动所有硬件部件的整体(1σ)可重复性为0.08％“闪烁”或更小，这可以更好地满足对于1σ≤0.1％“闪烁”的重复性指标的需求，从而更加适应于低“闪烁”(<2％闪烁)样本的测量。相比于没有安装定制硬件的现有测量***操作台，安装了上述光学测量用设备300后的测量***操作台的重复性性能提高了20倍。

可选地，根据本实用新型的光学测量用设备300还可以包括相机支架360。图10示出了该相机支架的立体示意图，相机362如图所示固定。所述相机支架360还可具有X-Z方向定位的数字显示器，其通过内嵌的编码器可对检测用相机追踪位置，从而对该相机实现运动控制。

在“闪烁”测量中需要捕捉待测量样本的图像，但现有测量平台所使用的瑞淀光学(Radiant Vision)相机并不是专用于“闪烁”测量的***，其除了相机本身不会提供任何硬件，因此为了固定相机需要采用支架。然而，该用于固定相机的支架却成为了现有测量平台中最不稳定的硬件。通过安装本实用新型的光学测量用设备，可用一种改进的更加牢固坚硬的相机支架来代替原来测量平台上的相机支架硬件，其不仅可消除噪声源，还能够显著地降低测量的可变性，比如可以将测量的可变性降低到0.1％之下。另外，如果采用了如图10所示的带有数字显示器的相机支架设计，则还可以实现对相机的焦距进行微调，这可使测量平台获得更广范围的运动和更大的灵活性，从而便于适应于更多种类的测量设备。

可选地，根据本实用新型的光学测量用设备300还可以包括运动台390，如图11所示，其可安装在基座组件310之上，用于控制显示器384的表面到待测量样本之间的距离。

现有的测量***操作台完全不具备应变于显示器像素层到AG样本表面之间的距离来测量“闪烁”的能力。过去几年开发的测量***操作台使用不同的算法和硬件来进行测量，这就意味着难以实现“闪烁”测量值之间的直接比较，任何“闪烁”测量值之间的差异都有可能被解释为是由测量***操作台之间的差异引起的。而通过本实用新型的上述设备300中的运动台390的硬件设计，其可在图11中所示的Y-Z方向运动，从而可实现在现有测量***操作台上对显示器像素层到AG样本表面之间距离的测量，相对于传统的显示器测量，这大大地提高了追踪显示器像素层到AG样本表面之间距离的能力，因为将为所有测量***操作台使用相同的算法和基本硬件。相应地，各测量***操作台自身的硬件差异和算法差异也不会再对测量差异造成影响。上述对显示器像素层到AG样本表面之间距离进行测量并进而应变于该距离来测量“闪烁”的能力使本实用新型具备独一无二的竞争优势，可以使用户应变于显示器像素层到AG样本表面之间的距离来了解样本结构对“闪烁”的影响(“闪烁”对于该距离具有极强的依赖性)，从而更好地了解“闪烁”的根本成因，并有助于研发人员设计出能在一定范围的显示器厚度上工作的AG表面。而且，上述对显示器像素层到AG样本表面之间距离进行测量的能力还可以被广泛地用于为各种显示设备像素间距进行推算，而不需要现场对这些设备进行测试。

图12中示出的光学测量用设备300同时包括了如前所述的基座组件310、显示器搭载组件320、显示器组件380、控制基准工具组件350、相机支架360和运动台390。为了更清楚地进行图示，左图中的光学测量用设备300未包括运动台390，而在右图中示出了该运动台390的安装位置(右图中略去了显示器组件380和控制基准工具组件350，以防止其遮盖住运动台390)，但本领域技术人员可以理解，在本实施例中，这些部件都被包括在了光学测量用设备300中。该光学测量用设备可以对测试用显示器和玻璃样本进行可重复性定位以进行光学检查，而且适用于各种显示器设备和屏幕尺寸。同时，该光学测量用设备还能够获得小于1个像素(实际上达到了近似1/10个像素)的定位可重复性，并且能够在实现“校准标准”性能的同时仍然能够被部署在制造现场。

可选地，还可将上述显示器384设置为掩模组件。图13(a)示出了该掩模组件1600，其可包括像素掩模1610和背投光源1620。结构化的待测量样本340放置在像素掩模1610上。

上述设计采用在显示器的仿制模型—而不是完整的显示器上进行“闪烁”测量，但同时仍然可以保持如前面所述的低可变性。通过使用显示器的仿制模型，可以对定制的像素形状和尺寸进行测试。而且，不仅可以在不受其它显示器部件(掩模组件之外的部件)影响的情况下进行测量工作，还可以根据需要添加其它显示器部件以测试它们的影响。此外，因为使用的是显示器的仿制模型，所以测量不再依赖于难以被替换的显示器，而且还可以以高度确定性来制作仿制品并对其进行验证。另外，使用显示器的仿制模型，还可以容易地对样本的结构化表面与像素层之间的距离所带来的影响进行测试。

可选地，所述掩模组件1600还可包括透明基板，在该透明基板的表面上具有不透明的基质，像素掩模1610设置在该透明基板上。该透明基板及在其表面上的不透明基质可以模拟出子像素图案的效果。

可选地，所述掩模组件1600也可包括额外的透明材料(例如，玻璃)或空气来用作AG表面与像素层之间的间隔，如图13(b)和图13(c)所分别示出地。图13(b)中，在待测量样本340与像素掩模1610之间设置有透明间隔1630。图13(c)中，在待测量样本340与像素掩模1610之间以及在像素掩模1610与背投光源1620之间分别设置有空气间隙1640。

可选地，所述掩模组件1600还可以包括其它的显示器堆叠部件(例如，偏振片、电容性触摸层等)或它们的组合。

可选地，所述掩模组件1600可进一步包括载体底座1650和掩模载体1660。图14和图15分别示出了该掩模组件1600安装在本实用新型的光学测量用设备300中时的俯视图和立体图。载体底座1650安装至显示器搭载组件320上，例如，可在载体底座1650底部也安装工具球，使该工具球与显示器搭载组件320上的工具组件(V形块)对接，从而使载体底座1650坞接至显示器搭载组件320上。掩模载体1660固定在该载体底座1650上，例如，可通过三个磁性运动学安装件(比如，ThorLABS KBS98)将掩模载体1660牢固地安装至载体底座1650上。背投光源1620安装在载体底座1650的下面，例如，可螺栓固定至载体底座1650的下面，且如果需要，可将背投光源1620旋转90度以使其移动至更接近掩模载体1660。像素掩模1610和透明基板1670位于所述掩模载体1660内。可将上述样本调节组件350设置为掩模载体样本调节组件16350并使其位于掩模载体1660的顶部之上，例如，可通过销被保持就位。

可选地，上述掩模载体1660可包括穴部。该穴部可例如设置在两个不同平面上，并设计为具有合适的尺寸和公差，以用于分别定位像素掩模1610和透明基板1670。

可选地，掩模载体1660还可以包括挠曲元件和夹紧件。像素掩模1610和透明基板1670与该挠曲元件和夹紧件一体地被固定就位，实际上也与掩模载体1660一体地被固定就位。图14和图15中也示出了对应于该挠曲元件的挠曲安装件1685，其可分别固定像素掩模1610和透明基板1670。

可选地，可将上述夹紧件设置为夹紧表面，如图16所示。用于定位的穴部、挠曲元件1662和夹紧表面1663可直接机器加工进掩模载体1660中。该设计可通过比如铣削工艺和线EDM(电火花加工)工艺来实现，或者也可以通过使用其它的制造技术或作为多个部件的组件来实现。

如图16所示，上述机器加工在掩模载体1660的表面中提供了位于两个不同平面上的穴部，用于分别定位透明基板1670和像素掩模1610。每个穴部具有一个部分1665，该部分1665的一个侧壁可沿着图16中箭头所标方向与联接的透明基板1670或像素掩模1610脱开联接，而且该部分1665受到挠曲元件1662的平行运动的约束。预装载有弹簧的机件1664可提供几牛顿的力，以推动所述部分1665的边缘(即，该部分1665与前述侧壁相对的另一个固定的穴部壁)，通过对该相对的另一个固定的穴部壁的压力将所述部分1665固定就位。

可为上述用于定位透明基板和像素掩模的穴部设计尺寸和公差，以提供合适的长度和宽度间隙，从而可以实现零件公差的变化，这为在尽可能减少夹紧表面运动(不超过0.3mm)的同时***或移除透明基板和像素掩模提供了方便。

需要特别说明的是，虽然在上述附图中，掩模载体可能局限于特定的尺寸(用于像素掩模、透明基板和待测量样本)，但本领域技术人员可以理解，本实用新型的该设计本身可以进行调节，以适应于任何尺寸的组合。

作为另一种选择，上述掩模载体还可以采用堆叠的设计，即，在设计了合适尺寸和公差的穴部中堆叠像素掩模、透明基板和待测量样本，它们只依靠摩擦力来保持，而不使用夹紧件。

可选地，上述堆叠设计的掩模载体还可以使用尺寸过大(比如，尺寸超过像素掩模、透明基板或待测量样本)的穴部。具体地，可在该尺寸过大的穴部的一个角落上设置一个缺口，该缺口既是背投光源的开口区域也是测量区域。图17示出了这种设计的俯视图，其中像素掩模上还未堆叠透明基板和待测量样本。像素掩模1610适配于所述带缺口的角落，例如，可如图中所示地通过挠曲件1666或其它用于固定像素掩模1610的手段，将该像素掩模1610固定在该尺寸过大的穴部内。所述“挠曲件”部分也可以是适用于不同尺寸的简单间隔件或L形支架/***件。透明基板和待测量样本也可以以相同的方式适配在它们各自尺寸过大的穴部内，堆叠在像素掩模1610的顶部。由于测量区域被保持在一个角落中，所以上述设计可以使像素掩模和其它部件的尺寸更加灵活。

图18所示的图表为现有测量***操作台安装了本实用新型的掩模组件后测量“闪烁”所得到的测量结果，其中测试了四种不同的板(板1、板2、板3和板4)。使用了37个样本来进行评估，这些样本具有的“闪烁”范围从0.8％到9％；对于每种板，随机装载三次样本，每次装载采集5次测量值，由一个操作员完成测量。

从上述图表的结果可知，采用本实用新型的掩模组件所得到的“闪烁”测量值的平均1σ标准偏差对于板1和板3为0.052％(n＝1110)，对于板2和板4为0.062％(n＝1110)。选择上述掩模组件(即，显示器的仿制模型)作为本实用新型中的显示器组件来在制造环境中进行“闪烁”测量，同样可以实现0.1％之下的低可变性(1σ)。与没有定制硬件的现有SMS***操作台上的掩模测量相比，该性能改进了13倍。

可选地，还可用反射分配组件来替代上述显示器组件380。

图19和图20分别为该反射分配组件2300的一个实施例的俯视图和立体示意图。如图中所示，反射分配组件2300可包括底板2310、支撑板2320以及基准材料片2330。底板2310可安装在显示器搭载组件320上或直接安装在基座组件310上，支撑板2320设置在底板2310上并与相机的光学轴对准。基准材料片2330固定在支撑板2320中。待测量样本可位于所述基准材料片2330上。可将上述样本调节组件350设置为板样本调节组件23350，并定位该板样本调节组件23350，使得所述待测量样本的中心边缘位于所述相机的光学轴的中心处。

上述反射分配组件的设计可以实现在相同操作平台上进行不同于“闪烁”测量的另一种测量—反射分配测量，该测量同样可以获得光学测量用设备300所带来的可重复性和可再现性的优势。AG表面的功能是将镜面反射重新定向为多个角度，这会减小所反射图像的亮度和清晰度。反射分配测量可以捕捉相对于非结构化基准表面、在AG表面上的在围绕镜面角度±10°反射角的分配中的变化。然而，现有用于进行反射分配测量的设备在样本放置和对准中也会遇到与“闪烁”测量一样的由变化引起的问题。本实用新型的反射分配组件的设计可以很好地解决这些问题。

本实用新型的反射分配组件可保持AG样本和基准样本成一定的角度，以使得从这两个样本反射的光被引导至相机的视野(FOV)中心。AG样本可位于基准材料(例如，有光泽的黑色基准材料，典型地有聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA，树脂玻璃)或玻璃)上。将该AG样本定位成使得该样本的中心边缘位于相机光学轴的中心处，这可使得来自AG样本和基准材料的反射都在一个视野中成像。通过本实用新型的上述定制硬件，可以有效保证在进行反射分配测量时不到1％的可变性(1σ)。

可选地，上述反射分配组件2300还可包括角度调节件2350，用于调节支撑板2320相对于底板2310的角度。该角度例如可在大约5°+/-3°的范围内调节。

底板2310的底部也可安装工具球，通过使该工具球与显示器搭载组件320上的工具组件(V形块)对接，可使底板2310坞接至光学测量用设备300中的显示器搭载组件320上。可将支撑板2320通过螺栓固定到底板2310上，使得支撑板2320与相机的光学轴对准。支撑板2320可通过铰链连接，且可根据需要通过角度调节件2350改变支撑板2320相对于底板2310的角度。该角度当前在图20中为5度左右。基准材料片2330位于支撑板2320中，且可由左上角和右上角的两个夹紧件固定。板样本调节组件23350(设置为比如L形)可通过螺栓固定到基准材料片2330的顶部上，并可定位该板样本调节组件23350，使得待测量样本的中心边缘位于相机光学轴的中心。还可以设置多个螺纹孔，其可调节大多数部件的位置。

以下的表3示出了使用上述反射分配组件2300来进行反射分配测量所得到的测量结果。

表3

在上述测量中，使用了13个样本来进行评估，这些样本具有的反射分配的范围从0到100％；随机装载三次样本，每次装载采集5次测量值，由三个操作员完成测量。对上述表3中的数据进行绘制和分析以用于标准R&R(可重复性&可再现性)评估后发现，使用上述反射分配组件2300所进行的反射分配测量的平均1σ标准偏差为0.84％(n＝1944)。

上述待测量样本的设计和尺寸都是随机的，本实用新型的发明人还作了进一步的测量以比较两种待测量样本板(板1和板2)，其中分别使用了25个样本来进行评估；随机装载三次样本，每次装载采集5次测量值，由一个操作员完成测量。图21示出了该测量结果：两种板的测量结果都显示1σ标准偏差得到了显著的改进(板1的平均1σ＝0.024％(n＝375)，相对于上述0.84％提高了将近36倍；板2的平均1σ＝0.051％(n＝375)，相对于上述0.84％提高了将近17倍)。

一般来说，如果待测量样本板都是相同的设计，那么不太可能会对测量的性能造成差异，除了操作员的可变性以及训练操作员所带来的差异。然而，发明人经过研究发现，如果样本发生卷曲，该卷曲也会导致反射分配的变化。相对于没有发生卷曲的同一部分，样本卷曲会使变化提高10％。会对反射分配测量造成不利的卷曲的量大约是50μm，而通常AG显示器部件的卷曲规格是数百微米。另外，结构化工艺会导致样本变成“杯子”形状，即，样本的AG侧的边缘相对于中心被抬高。因此，为了尽可能地避免因为部件的卷曲而影响反射分配测量的精确度，可选地，可通过真空吸力来保持基准材料片2330并使其相对于待测量样本340是平坦的，如图22所示，其中示出了该设计的反射分配组件2300坞接至光学测量用设备300的示意图。该设计不仅可以解决以上因为样本卷曲所带来的问题，还可以适应于更大尺寸的样本。

可选地，如图23和图24所示，所述基准材料片2330可具有真空孔2332，用于使待测量样本340平坦并且悬挂于所述支撑板2320的边缘。图中所示的反射分配组件2300装载了大尺寸的待测量样本340(透明的矩形)，但通过真空孔2332所带来的强大真空吸力，可在不引起该大尺寸待测量样本340变形的情况下将其悬挂于支撑板2320的边缘。

可选地，所述反射分配组件2300还可包括多个分开的真空增压室2360，如图25所示，其中示出了该反射分配组件2300的后视图。该多个分开的真空增压室的设置可允许对基准材料片和待测量样本中的至少一者进行灵活的真空控制。

可选地，还可以采用较大的基准材料片(例如可以为410×305×6.25mm)，以提供对大尺寸样本的支撑，并且基准材料片也可以比其保持框架略微高一些。这样的设计允许将比框架更大的样本悬挂于支撑板。

可选地，也可在基准材料片2330和底板2310的至少一者中嵌入磁体，从而可有效地固定待测量样本340和基准材料片2330中的至少一者。

可选地，还可以为上述反射分配组件2300提供可移动的***，例如，图23中的玻璃***2372和图24中的运动学***2374。这些可移动的***方便根据样本的尺寸来对该样本进行定位。

通过本实用新型的上述设计，可以有效解决样本卷曲和基准材料卷曲对测量可变性的影响。这一方面可以进一步提高对卷曲样本进行测量的精确性，另一方面也可以使用户更放心地测量该卷曲样本并使用卷曲的基准材料来进行测量，这有效提高了材料利用率，降低了成本。此外，本实用新型的上述设计还可以使待测量的大尺寸(可达到对角线为400mm的尺寸)样本具有与较小尺寸样本的测量类似的性能。

当对带油墨边界的大多边形待测量样本进行反射分配测量时，需要注意，这种样本的形状和设计不允许把样本切成小方块，也不允许把基准材料片放置在结构化样本的顶部，这两样都是不期望的。因此可选地，在对这种样本进行反射分配测量时，可以采用另一种形式的反射分配组件，如图26所示。

图26示意性地示出了如何对带油墨边界的大多边形待测量样本进行反射分配测量，其中所示的反射分配组件3100与图19和图20所示的反射分配组件2300相比，不同之处在于特别设计了基准材料保持器3120，其在两端具有轨道3122，所述基准材料片2330在该基准材料保持器3120上，在所述支撑板2320上定位待测量样本340，使得待测量样本340的中心边缘位于相机的光学轴的中心处。基准材料片2330并未固定在所述支撑板2320中，而是沿着所述轨道3122在待测量样本340的表面上方滑动。基准材料片2330不会接触到待测量样本340的表面，但却能够绕着待测量样本340移动，从而可以在整个待测量样本上的多个位置实现测量。通过上述设计，可以在不损坏待测量样本且不对其进行切块的情况下对该待测量样本的所有位置进行测量。

上述基准材料片2330可例如为PMMA基准材料，且可选地可具有金属支撑件2336。上述基准材料保持器3120可以为真空吸盘或其它可用于保持待测量样本的结构，该真空吸盘可以用黑色材料制作(为了图示目的，图中显示为灰色)。上述待测量样本340可通过真空吸力或支架结构来保持定位。

另外，为使基准材料片2330沿着所述轨道3122在待测量样本340的表面上方滑动，可以采用多种方式，例如，可如图26所示地，使该基准材料片2330具有腿形连接件2332。该腿形连接件2332的端部设置有辊2334，该辊2334沿着轨道3122滑动，使得所述基准材料片2330虽靠近待测量样本340地在待测量样本340周围移动(在待测量样本340上方移动)，但不接触待测量样本340。一旦基准材料片2330到达测量位置的上方，腿形连接件2332就使基准材料片2330锁定在该测量位置。这种活动方式下的基准材料片2330就好像一只在沿着轨道3122爬行的“螃蟹”，其“坐”在轨道3122上、在待测量样本340上方(虽然物理上接近待测量样本340，却不会跟待测量样本340接触)，其可以在任何反射分配测量位置锁定就位。

以上通过一些示例性实施例对本实用新型的各个方面进行了描述。然而，应该理解的是，在不脱离本实用新型精神和范围的情况下，还可以对上述示例性实施例做出各种修改。例如，如果所描述的技术以不同的顺序执行和/或如果所描述的***、架构、设备或电路中的组件以不同方式被组合和/或被另外的组件或其等同物替代或补充，也可以实现合适的结果，那么相应地，这些修改后的其它实施方式也落入权利要求书的保护范围内。

Claims (29)

1.一种用于光学测量的设备，其特征在于，所述设备包括：

基座组件；

框架组件，安装在所述基座组件之上，用于固定平板照明源，其中待测量样本放置在该平板照明源上；以及

样本调节组件，安装在所述框架组件上，用于对所述待测量样本进行调节，以控制该待测量样本接受测量的位置。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述平板照明源为显示器。

3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括显示器组件，所述显示器安装在该显示器组件中，并且所述框架组件为显示器搭载组件。

4.如权利要求3所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括：

相机支架，用于固定相机，所述相机用于捕捉所述待测量样本的图像。

5.如权利要求4所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括：

运动台，其安装在所述基座组件之上，用于控制所述显示器的表面到所述待测量样本之间的距离。

6.如权利要求2-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述平板照明源或所述显示器固定有专用于该平板照明源或显示器的工具配件，该工具配件的参数在该平板照明源或显示器的使用寿命中保持不变。

7.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述显示器与其对应的框架在该显示器的使用寿命中始终装配在一起。

8.如权利要求3-5中任一项所述的设备，其特征在于，通过安装在所述显示器组件底部的工具球与所述显示器搭载组件上的V形块的对接，将所述显示器组件坞接至所述显示器搭载组件上。

9.如权利要求3-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述样本调节组件设置在所述显示器组件之上，并且所述待测量样本放置在所述显示器组件中的显示器表面之上并通过所述样本调节组件的滑动件定位。

10.如权利要求3-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述基座组件上安装有V形块，用于与安装在所述显示器组件底部的工具球对接，以固定地定位所述显示器组件中的显示器，从而在该显示器上的相同位置进行测量。

11.如权利要求3-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述基座组件上安装有球状传送辊，以允许浮动地定位所述显示器组件中的显示器，以在该显示器上的不同位置进行测量。

12.如权利要求2-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述显示器为掩模组件，其包括：

像素掩模；以及

背投光源，

其中，所述待测量样本放置在所述像素掩模上。

13.如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述掩模组件还包括：

透明基板，在该透明基板的表面上具有不透明的基质，

其中，所述像素掩模设置在所述透明基板上。

14.如权利要求13所述的设备，其特征在于，所述掩模组件进一步包括：

载体底座，安装至所述显示器搭载组件上；和

掩模载体，固定在所述载体底座上，

其中，所述背投光源安装在所述载体底座的下面，所述像素掩模和所述透明基板位于所述掩模载体内，所述样本调节组件位于所述掩模载体的顶部之上。

15.如权利要求14所述的设备，其特征在于，所述掩模载体通过三个磁性运动学安装件固定至所述载体底座。

16.如权利要求14所述的设备，其特征在于，所述掩模载体包括分别在两个不同平面上的穴部，用于分别定位所述像素掩模和所述透明基板。

17.如权利要求16所述的设备，其特征在于，所述掩模载体还包括挠曲元件和夹紧表面，其中，所述穴部、所述挠曲元件和所述夹紧表面直接机器加工进所述掩模载体中。

18.如权利要求14所述的设备，其特征在于，所述掩模载体包括穴部，所述像素掩模、所述透明基板和所述待测量样本堆叠在该穴部中。

19.如权利要求18所述的设备，其特征在于，在所述穴部的一个角落上设置一个缺口作为所述背投光源的开口区域和测量区域，所述像素掩模、所述透明基板和所述待测量样本适配于所述带缺口的角落并被固定在所述穴部内。

20.如权利要求4或5所述的设备，其特征在于，所述显示器组件由反射分配组件替代，该反射分配组件包括：

底板，安装在所述显示器搭载组件上或直接安装在所述基座组件上；

支撑板，设置在所述底板上并与所述相机的光学轴对准；以及

基准材料片，固定在所述支撑板中，

其中，所述待测量样本位于所述基准材料片上，并且

其中，定位所述样本调节组件，使得所述待测量样本的中心边缘位于所述相机的光学轴的中心处。

21.如权利要求20所述的设备，其特征在于，通过真空吸力保持所述基准材料片并使其相对于所述待测量样本是平坦的。

22.如权利要求20所述的设备，其特征在于，在所述基准材料片和所述底板的至少一者中嵌入磁体。

23.如权利要求20所述的设备，其特征在于，所述反射分配组件还包括角度调节件，用于调节所述支撑板相对于所述底板的角度。

24.如权利要求23所述的设备，其特征在于，通过真空吸力保持所述基准材料片并使其相对于所述待测量样本是平坦的。

25.如权利要求24所述的设备，其特征在于，所述基准材料片具有真空孔，用于使所述待测量样本平坦并且悬挂于所述支撑板的边缘。

26.如权利要求25所述的设备，其特征在于，所述反射分配组件还包括多个分开的真空增压室，用于对所述基准材料片和所述待测量样本中的至少一者进行真空控制。

27.如权利要求23所述的设备，其特征在于，在所述基准材料片和所述底板的至少一者中嵌入磁体。

28.如权利要求4或5所述的设备，其特征在于，所述显示器组件由反射分配组件替代，该反射分配组件包括：

底板，安装在所述显示器搭载组件上或直接安装在所述基座组件上；

支撑板，设置在所述底板上并与所述相机的光学轴对准；

基准材料片；以及

基准材料保持器，其在两端具有轨道，其中所述基准材料片在所述基准材料保持器上，

其中，在所述支撑板上定位所述待测量样本，使得所述待测量样本的中心边缘位于所述相机的光学轴的中心处，且

其中，所述基准材料片沿着所述轨道在所述待测量样本的表面的上方滑动。

29.如权利要求28所述的设备，其特征在于，所述基准材料片具有腿形连接件，该腿形连接件的端部设置有辊，该辊沿着所述轨道滑动，使得所述基准材料片在所述待测量样本上方移动、但不接触所述待测量样本，

其中，当所述基准材料片到达测量位置的上方，所述腿形连接件使所述基准材料片锁定在该测量位置。

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