CN218652082U - 一种后牙种植用基台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及了一种后牙种植用基台,包括穿龈区以及种植体连接区,所述穿龈区包括相连的软组织塑形区以及骨稳定区,骨稳定区设置于种植体连接区以及软组织塑形区之间,软组织塑形区11的外周面为外凸的曲面结构;在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°。外凸的曲面结构外周面对周围的软组织提供更强的支撑力、更稳定的支撑效果,帮助牙龈塑形,在后期佩戴牙冠后,避免产生黑三角以及食物嵌塞。且本申请能够防止外凸的软组织塑形区外周面对牙龈产生过度压力,从而避免牙龈退缩和骨吸收。
Description
技术领域
本实用新型涉及种植牙的技术领域,尤其涉及一种后牙种植用基台。
背景技术
目前种植修复已成为缺牙患者的常用修复方式,人们越来越希望能得到更加自然、美观的修复效果。在种植修复过程中,种植体植入牙槽骨中并等其与骨组织形成骨结合后,在种植体上安装愈合基台,周围的软组织会围绕愈合基台生长愈合,最后用修复基台替换愈合基台,并在修复基台上佩戴牙冠,完成修复。
愈合基台在整个种植修复过程中会在口腔内使用1-12周左右的时间,软组织在其周围形成特定的袖口,起着软组织塑形的作用,并防止食物残渣和异物碎片等进入种植体,有利于周围软组织封闭;换上修复基台后,修复基台维持软组织塑形效果,并连接上部牙冠。现有的愈合基台与修复基台对软组织的塑形、支撑效果均较差,造成佩戴牙冠之后,容易产生黑三角、食物嵌塞等问题,从而影响美学效果,甚至引起种植体周炎。
实用新型内容
为此,需要提供一种后牙种植用基台,来解决现有愈合基台与修复基台对软组织塑形、支撑效果差的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种后牙种植用基台,包括穿龈区以及种植体连接区,所述穿龈区包括相连的软组织塑形区以及骨稳定区,所述骨稳定区设置于种植体连接区以及软组织塑形区之间,所述软组织塑形区的外周面为外凸的曲面结构;
在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,经所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°。
进一步地,所述软组织塑形区的高度值为1-4mm。
进一步地,所述骨稳定区的的高度值为0.5-5mm。
进一步地,所述软组织塑形区的横截面形状为长方圆,且其对应的牙位为上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二前磨牙、下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙。
进一步地,所述上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙以及下颌第二前磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为3.5mm-7.0mm,颊舌径的取值范围为4.0mm-8.0mm。
进一步地,所述下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为5.0mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-9.0mm。
进一步地,所述软组织塑形区的横截面形状为正方圆,且其对应的牙位为上颌第一磨牙以及上颌第二磨牙。
进一步地,所述上颌第一磨牙、上颌第二磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为4.5mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-10.0mm。
进一步地,所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角为20-45°。
进一步地,在所述种植用基台上,穿过其纵向几何中心线的纵截面上,所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°。
区别于现有技术,上述技术方案具有如下优点:本申请中将软组织塑形区11的外周面设置为外凸的曲面结构,外凸的曲面结构外周面对周围的软组织提供更强的支撑力、更稳定的支撑效果,帮助牙龈塑形,在佩戴牙冠后,避免产生黑三角以及食物嵌塞。且在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°,防止外凸的软组织塑形区外周面对软组织产生过度压力,从而避免牙龈退缩和骨吸收。
附图说明
图1为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为长方圆时的立体图;
图2为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为长方圆且设置延伸区时的立体图;
图3为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为长方圆时的软组织塑形区的横截面;
图4为图3中A-A处的剖视图;
图5为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为长方圆且设置延伸区时的剖视图;
图6为本实施例一种后牙种植用基台的又一剖视图;
图7为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为正方圆时的立体图;
图8为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为正方圆且设置延伸区时的立体图;
图9为本实施例一种后牙种植用基台其软组织塑形区的横截面为正方圆时的软组织塑形区的横截面;
图10为本实施例一种后牙种植用基台与种植体连接的示意图;
图11为本实施例一种后牙种植用基台为修复基台时的示意图。
附图标记说明:
a、纵向几何中心线;
b、骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线;
c、种植用基台的近远中径方向;
d、种植用基台的颊舌径方向;
f、骨稳定区底部的端点;
θ、夹角;
11、软组织塑形区;
111、软组织塑形区的横截面;
12、骨稳定区;
13、软组织塑形区的外周面;
2、种植体连接区;
3、种植体;
4、延伸区;
5、修复体连接区。
具体实施方式
为详细说明本申请可能的应用场景,技术原理,可实施的具体方案,能实现目的与效果等,以下结合所列举的具体实施例并配合附图详予说明。本文所记载的实施例仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案,因此只作为示例,而不能以此来限制本申请的保护范围。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中各个位置出现的“实施例”一词并不一定指代相同的实施例,亦不特别限定其与其它实施例之间的独立性或关联性。原则上,在本申请中,只要不存在技术矛盾或冲突,各实施例中所提到的各项技术特征均可以以任意方式进行组合,以形成相应的可实施的技术方案。
除非另有定义,本文所使用的技术术语的含义与本申请所属技术领域的技术人员通常理解的含义相同;本文中对相关术语的使用只是为了描述具体的实施例,而不是旨在限制本申请。
在本申请的描述中,用语“和/或”是一种用于描述对象之间逻辑关系的表述,表示可以存在三种关系,例如A和/或B,表示:存在A,存在B,以及同时存在A和B这三种情况。另外,本文中字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的逻辑关系。
在本申请中,诸如“第一”和“第二”之类的用语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何实际的数量、主次或顺序等关系。
在没有更多限制的情况下,在本申请中,语句中所使用的“包括”、“包含”、“具有”或者其他类似的表述,意在涵盖非排他性的包含,这些表述并不排除在包括所述要素的过程、方法或者产品中还可以存在另外的要素,从而使得包括一系列要素的过程、方法或者产品中不仅可以包括那些限定的要素,而且还可以包括没有明确列出的其他要素,或者还包括为这种过程、方法或者产品所固有的要素。
与《审查指南》中的理解相同,在本申请中,“大于”、“小于”、“超过”等表述理解为不包括本数;“以上”、“以下”、“以内”等表述理解为包括本数。此外,在本申请实施例的描述中“多个”的含义是两个以上(包括两个),与之类似的与“多”相关的表述亦做此类理解,例如“多组”、“多次”等,除非另有明确具体的限定。
在本申请实施例的描述中,所使用的与空间相关的表述,诸如“中心”“纵向”“横向”“长度”“宽度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“竖直”“水平”“垂直”“顶”“底”“内”“外”“顺时针”“逆时针”“轴向”“径向”“周向”等,所指示的方位或位置关系是基于具体实施例或附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请的具体实施例或便于读者理解,而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的位置、特定的方位、或以特定的方位构造或操作,因此不能理解为对本申请实施例的限制。
除非另有明确的规定或限定,在本申请实施例的描述中,所使用的“安装”“相连”“连接”“固定”“设置”等用语应做广义理解。例如,所述“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体设置;其可以是机械连接,也可以是电连接,也可以是通信连接;其可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连;其可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本申请所属技术领域的技术人员而言,可以根据具体情况理解上述用语在本申请实施例中的具体含义。
本申请中的后牙种植用基台包括种植使用的愈合基台和修复基台。
请参阅图1至图11,一种后牙种植用基台,包括穿龈区以及种植体连接区2,所述穿龈区包括相连的软组织塑形区11以及骨稳定区12,所述骨稳定区12设置于种植体连接区2以及软组织塑形区11之间,所述软组织塑形区的外周面13为外凸的曲面结构;
如图4与图5所示,在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,经所述骨稳定区底部的端点f至同侧软组织塑形区11曲面相切的直线b与所述种植用基台的纵向几何中心线a之间的夹角θ小于45°;
所述后牙种植用基台上开设有种植用基台中心孔,种植用基台中心孔的中轴线与种植用基台的纵向几何中心线a重合。
在天然牙上,穿龈区指的是牙根和牙冠轮廓之间的过渡区。口腔种植学中的穿龈区被定义为种植体3肩部与龈缘位置个性化设计的牙冠轮廓之间的过渡。因此,该穿龈区的轮廓位于种植体3肩部至龈缘的软组织内,通常通过愈合基台对软组织进行塑形,并通过修复基台维持塑形效果。
在该后牙种植用基台使用时,通过种植体连接区2与种植体3相连接,通常是通过***式连接再配合连接件完成,骨稳定区12通常设置为圆柱状结构,种植体连接区2具体可以是圆台状结构、圆柱状结构或棱柱状结构。种植体连接区2与骨稳定区12可分别选用不同截面形状以及不同截面大小的结构,将种植用基台放入种植体3内预定位时,种植体连接区2***种植体3内,而骨稳定区12保持在种植体3上端面之上。
如图6所示,例如骨稳定区12与种植体连接区2均为圆柱状结构时,骨稳定区12的截面直径大于种植体连接区2的截面直径,如图10所示,种植用基台连接在种植体3上后,由于骨稳定区12的截面直径大于种植体连接区2的截面直径,则种植体连接区2***种植体3后,骨稳定区12位于种植体3上方,骨稳定区12与种植体连接区2的临界位于种植体3的上端面。
设置骨稳定区12的目的在于避免对周围骨产生过度压力,有效减少骨吸收。
软组织塑形区的外周面13是指当种植用基台安装在种植体3后,种植用基台朝向软组织、与软组织接触的部位。软组织塑形区的外周面13外凸是指其曲面上任意点朝向远离种植用基台的方向设置,软组织塑形区的外周面13形成向外的曲面支撑,其效果在于,将种植用基台安装在种植体3后,软组织塑形区的外周面13对周围的软组织提供支撑。对于软组织塑形区的外周面13形状,外凸的曲面结构外周面相较于内凹的曲形外周面或平直形的外周面而言,外凸的曲面结构外周面对周围的软组织提供更强的支撑力、更稳定的支撑效果,帮助软组织塑形,在佩戴牙冠后,能避免产生黑三角,也避免了食物残渣嵌塞在种植牙与邻牙之间。
软组织塑形区11与骨稳定区12连接后,软组织塑形区11与骨稳定区12呈上下纵向布置,种植用基台穿过其近远中径方向的纵截面是指沿着种植用基台的近远中径方向c所作的纵截面,种植用基台穿过其颊舌径方向的纵截面是指沿着种植用基台的颊舌径方向d所作的纵截面。种植用基台穿过其近远中径方向的纵截面以及种植用基台穿过其颊舌径方向的纵截面均穿过种植用基台的纵向几何中心线a,纵向几何中心线a为种植用基台中心孔的中轴线。
而对于其他实施例中,在所述种植用基台穿过所述骨稳定区12的纵截面上,所述骨稳定区底部的端点f至同侧软组织塑形区11曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线a之间的夹角小于45°。本申请中的种植用基台应用于后牙,其软组织塑形区的横截面111形状可以是长方圆或正方圆。
如图5所示,本实施例中,当种植用基台的软组织塑形区横截面111为长方圆时,种植用基台的纵截面是指经过种植用基台纵向几何中心线方向的任一截面,包含了沿着种植用基台的近远中径方向所作的纵截面,沿着种植用基台的颊舌径方向所作的纵截面。种植用基台的软组织塑形区横截面111为正方圆时,则其纵截面定义参考上述长方圆形状时的定义。
骨稳定区底部的端点f是指在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,骨稳定区12远离软组织塑形区11的边线的两个端点中的任意一个。当种植用基台的纵截面是指经过种植用基台纵向几何中心线方向的任一截面时,则骨稳定区12底部的端点是指在所述种植用基台上,经过种植用基台纵向几何中心线方向的任一截面,骨稳定区12远离软组织塑形区11的边线的两个端点中的任意一个。
所述种植用基台纵截面沿其纵向几何中心线a对称。
所述骨稳定区底部的端点f至同侧软组织塑形区11曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线a之间的夹角小于45°,其有益效果在于,避免外凸的软组织塑形区11外周面对软组织产生过度压力,避免牙龈退缩和骨吸收。
本申请中愈合基台的材料为纯钛、钛合金、氧化锆、PEEK或树脂,修复基台的材料为纯钛、钛合金或氧化锆。
如图2、图8所示,在某些实施例中,所述种植用基台为愈合基台时,所述种植用基台还包括延伸区4,所述延伸区4设置于穿龈区上方,所述延伸区4的高度值为0-5mm。延伸区4可根据不同牙龈厚度做个性化定制设计,对于牙龈厚度较薄的情况,可选用无延伸区4或延伸区4高度较低的种植用基台,而对于牙龈厚度较厚的情况,可选用具有延伸区4的种植用基台,牙龈厚度越厚,则选用的种植用基台的延伸区4高度应越高。
设置延伸区的实施例中,延伸区4为软组织塑形区11的上端面向上竖直延伸所形成的区域。
如图11所示,在某些实施例中,所述种植用基台为修复基台时,所述种植用基台还包括修复体连接区5,所述修复体连接区5设置于穿龈区上方,所述修复体连接区5的高度值为2-10mm。所述修复体连接区5用于与牙冠相连。
在某些实施例中,所述软组织塑形区11的高度值为1-4mm,优选为2mm。
在某些实施例中,所述骨稳定区12的的高度值为0.5-5mm,优选为1mm、2mm或3mm。依据种植体不同的骨内深度,可选用不同高度骨稳定区12的种植用基台。
如图3所示,在某些实施例中,所述软组织塑形区的横截面111形状为长方圆,且其对应的牙位为上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二前磨牙、下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙。对于上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二前磨牙、下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙,其天然牙的对应于后牙种植用基台软组织塑形区的横截面111形状更接近于长方圆形状,因此,将上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二前磨牙、下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙的种植用基台软组织塑形区横截面111设计为长方圆,能够更仿真、美观。
此处需要补充说明的是长方圆是指四个顶点设置相同圆角的长方形结构,且其各边线均为外凸的曲线。
在某些更为实施例中,所述上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙以及下颌第二前磨牙软组织塑形区横截面111的近远中径的取值范围为3.5mm-7.0mm,颊舌径的取值范围为4.0mm-8.0mm。
在某些更为实施例中,所述下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙软组织塑形区横截面111的近远中径的取值范围为5.0mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-9.0mm。
对于软组织塑形区的横截面111形状为长方圆的牙位,发明人提供了如下具体实施例:上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙以及下颌第二前磨牙的近远中径*颊舌径的长度数据包括以下两组数据:4mm*5mm,5mm*6mm;下颌第一磨牙、下颌第二磨牙的近远中径*颊舌径的长度数据包括以下两组数据:7mm*6mm,8mm*7mm。
如图9所示,在某些实施例中,所述软组织塑形区的横截面111形状为正方圆,且其对应的牙位为上颌第一磨牙以及上颌第二磨牙。对于上颌第一磨牙以及上颌第二磨牙,其天然牙的软组织塑形区的横截面111形状更接近于正方圆形状,因此,将上颌第一磨牙以及上颌第二磨牙的种植用基台软组织塑形区横截面111设计为正方圆,能够更仿真、美观。
此处需要补充说明的是正方圆是指四个顶点设置相同圆角的正方形结构,且其各边线均为外凸的曲线。
在某些更为实施例中,所述上颌第一磨牙、上颌第二磨牙软组织塑形区的横截面111的近远中径的取值范围为4.5mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-10.0mm。
对于软组织塑形区的横截面111形状为正方圆的牙位,发明人提供了如下具体实施例:上颌第一磨牙、上颌第二磨牙的近远中径*颊舌径的长度数据包括以下两组数据:6mm*6mm,7mm*7mm。
在某些实施例中,所述延伸区4、软组织塑形区11、骨稳定区12以及种植体连接区2之间均圆滑过渡。
在某些实施例中,所述骨稳定区底部的端点f至同侧软组织塑形区11曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线a之间的夹角为20-45°。
在某些实施例中,所述软组织塑形区的横截面111形状为长方圆,且所述软组织塑形区的横截面111轮廓线位于以其近远中径和颊舌径为边长的长方形轮廓内。更优选的,所述软组织塑形区的横截面111轮廓线四个边角处的弧形位于所述长方形轮廓内交椭圆的外侧,长方形轮廓内交椭圆是指以长方形的长为椭圆的长轴,以长方形的宽为椭圆的短轴所作的内切于长方形轮廓内的椭圆。
在某些实施例中,所述软组织塑形区的横截面111形状为正方圆,且所述软组织塑形区的横截面111轮廓线位于以其近远中径和颊舌径为边长的正方形轮廓内。更优选的,所述软组织塑形区的横截面111轮廓线四个边角处的弧形位于所述正方形轮廓内交正圆的外侧,正方形轮廓内交正圆是指以正方形的边长作为正圆直径所作的内切于正方形轮廓内的圆形。
在某一穿过其纵向几何中心线a的纵截面上,以骨稳定区12顶部的一侧端点以及软组织塑形区11顶部的同侧端点为对角端点做出一个长方形区域,长方形的一边线平行于纵向几何中心线a,长方形的另一边线垂直于纵向几何中心线a,以骨稳定区12顶部的一侧端点以及软组织塑形区11顶部的同侧端点作长方形的对角线,软组织塑形区外周面的曲线位于上述长方形区域内,且软组织塑形区外周面的曲线位于上述对角线的下方。
最后需要说明的是,尽管在本申请的说明书文字及附图中已经对上述各实施例进行了描述,但并不能因此限制本申请的专利保护范围。凡是基于本申请的实质理念,利用本申请说明书文字及附图记载的内容所作的等效结构或等效流程替换或修改产生的技术方案,以及直接或间接地将以上实施例的技术方案实施于其他相关的技术领域等,均包括在本申请的专利保护范围之内。
Claims (10)
1.一种后牙种植用基台,包括穿龈区以及种植体连接区,其特征在于,所述穿龈区包括相连的软组织塑形区以及骨稳定区,所述骨稳定区设置于种植体连接区以及软组织塑形区之间,所述软组织塑形区的外周面为外凸的曲面结构;
在所述种植用基台上,穿过其近远中径方向的纵截面上以及穿过其颊舌径方向的纵截面上,经所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°。
2.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述软组织塑形区的高度值为1-4mm。
3.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述骨稳定区的高度值为0.5-5mm。
4.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述软组织塑形区的横截面形状为长方圆,且其对应的牙位为上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙、下颌第二前磨牙、下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙。
5.根据权利要求4所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述上颌第一前磨牙、下颌第一前磨牙、上颌第二前磨牙以及下颌第二前磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为3.5mm-7.0mm,颊舌径的取值范围为4.0mm-8.0mm。
6.根据权利要求4所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述下颌第一磨牙以及下颌第二磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为5.0mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-9.0mm。
7.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述软组织塑形区的横截面形状为正方圆,且其对应的牙位为上颌第一磨牙以及上颌第二磨牙。
8.根据权利要求7所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述上颌第一磨牙、上颌第二磨牙软组织塑形区横截面的近远中径的取值范围为4.5mm-10.0mm,颊舌径的取值范围为4.5mm-10.0mm。
9.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角为20-45°。
10.根据权利要求1所述的后牙种植用基台,其特征在于:在所述种植用基台上,穿过其纵向几何中心线的纵截面上,所述骨稳定区底部的端点至同侧软组织塑形区曲面相切的直线与所述种植用基台的纵向几何中心线之间的夹角小于45°。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
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