CN218160283U - 一种湿法刻蚀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种湿法刻蚀装置，包括：晶圆平台；第一升降组件，所述第一升降组件用于控制所述晶圆平台升降；至少三个挡液罩，所述挡液罩依次套设，其中，最内侧的所述挡液罩包围形成刻蚀加工腔体，所述晶圆平台位于所述刻蚀加工腔体内，相邻的所述挡液罩之间形成集液腔体，最内侧的所述挡液罩顶部设有第一密封部，其余所述挡液罩顶部设有第二密封部，所述第一密封部和所述第二密封部依次堆叠以密封所有所述集液腔体；多个第二升降组件，除最外侧的所述挡液罩以外，其余所述挡液罩均通过至少一个所述第二升降组件进行升降。本实用新型解决了回收不同液体时进液入口不能灵活调节的问题。

Description

一种湿法刻蚀装置

技术领域

本实用新型涉及半导体行业晶圆领域，尤其涉及一种湿法刻蚀装置。

背景技术

晶圆是指制造硅半导体电路所用的硅晶片，其是制造芯片的基本材料。随着半导体行业的晶圆制造技术的发展，芯片的电路结构趋于复杂，其加工的难度也逐渐增加。

同时，晶圆刻蚀清洗工艺也愈发重要。晶圆进行蚀刻时，会用到多种不同的蚀刻液体，蚀刻结束后还需要用到清洗液清洗剥离的金属、光刻胶、去胶液以及其他杂质，上述液体需要分别回收。但是，目前用于回收不同液体的回收结构不能灵活调节进液入口，一方面，大部分液体溅到腔体内壁没有回收，回收效率低，另一方面，需要回收的液体的进液入口开启时，其余进液入口不能有效阻挡该液体进入，导致液体仍存在混杂的问题。

实用新型内容

因此，本实用新型实施例提供一种湿法刻蚀装置，有效解决回收不同液体时进液入口不能灵活调节的问题。

本实用新型提供一种湿法刻蚀装置，包括：晶圆平台；第一升降组件，所述第一升降组件用于控制所述晶圆平台升降；至少三个挡液罩，所述挡液罩依次套设，其中，最内侧的所述挡液罩包围形成刻蚀加工腔体，所述晶圆平台位于所述刻蚀加工腔体内，相邻的所述挡液罩之间形成集液腔体，最内侧的所述挡液罩顶部设有第一密封部，其余所述挡液罩顶部设有第二密封部，所述第一密封部和所述第二密封部依次堆叠以密封所有所述集液腔体；多个第二升降组件，除最外侧的所述挡液罩以外，其余所述挡液罩均通过至少一个所述第二升降组件进行升降；其中，当任意一个所述集液腔体进行集液时，所述集液腔体内侧的所有所述挡液罩通过所述第二升降组件下降，所述晶圆平台通过所述第一升降组件下降。

采用该技术方案后所达到的技术效果：当所述湿法刻蚀装置无需回收液体时，所述第一升降组件和所述第二升降组件处于初始位置，所述第一密封部与所述第二密封部依次堆叠抵接，避免任何液体进入集液腔体影响后续液体收集的纯度；当进行液体收集时多种液体分别收集，举例来说，最内侧的所述密封部通过所述第二升降组件下降，使最内侧的所述密封部外的所述集液腔体打开，其余所述第二升降组件不动作，使其余所述集液腔体保持密封，因此打开的所述集液腔体可以收集指定液体，而最内侧的所述密封部下降的同时，所述第一升降组件控制所述晶圆平台下降，使得飞溅的液体可以准确进入所述集液腔体；当需要收集其余液体时，其余任意两个相邻的所述挡液罩之间的所述集液腔体可以单独打开，即通过所述第一升降组件控制该集液腔体内部的所有所述挡液罩下降，实现另一种目标液体的单独收集；因此，所述湿法刻蚀装置可以灵活调节目标集液腔体的进液入口，实现分类收集；同时，灵活控制进液入口的开度，可以时目标集液腔体获得最大的开启状态，从而有效提高集液效率。

进一步的，所述湿法刻蚀装置还包括：旋转组件，所述旋转组件连接所述晶圆平台，和/或所述第一升降组件连接所述旋转组件。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述旋转组件用于控制晶圆平台旋转，从而便于晶圆的刻蚀，也便于晶圆得到均匀有效的清洗。

进一步的，所述湿法刻蚀装置还包括：安装面板；第一支架和/或第二支架，所述第一支架位于所述安装面板远离所述晶圆平台的一侧并连接所述第一升降组件，所述第二支架位于所述安装面板远离所述挡液罩的一侧并连接所述第二升降组件。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一支架和所述第二支架将所述第一升降组件和所述第二升降组件固定至所述安装面板远离所述晶圆平台的一侧，可以使所述第一升降组件和所述第二升降组件获得较大的升降运动范围，同时，使所述挡液罩和所述晶圆平台稳定升降。

进一步的，最内侧的所述挡液罩为第一挡液罩；所述湿法刻蚀装置还包括：第一集液槽，所述第一集液槽连接所述第一挡液罩远离所述刻蚀加工腔体的一侧；至少一个第一排液管，所述第一排液管连通所述第一集液槽的底部。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一集液槽用于收集从对应的集液腔体进入的液体，所述第一排液管用于排出该液体，以便于回收。

进一步的，所述湿法刻蚀装置还包括：接液板，所述接液板位于所述刻蚀加工腔体底部，所述接液板连接所述第一挡液罩，其中，至少一个所述第二升降组件连接所述第一集液槽或所述接液板。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述接液板用于收集部分流入所述刻蚀加工腔体底部一侧的液体，并避免该液体影响所述第一升降组件的正常工作。

进一步的，最外侧的所述挡液罩为第三挡液罩，位于所述第一挡液罩和所述第三挡液罩之间的所有挡液罩为第二挡液罩；所述湿法刻蚀装置还包括：多个第一挡液板、第二集液槽和第二排液管；其中，每个所述第二挡液罩朝向所述第一挡液罩的一侧连接一个所述第一挡液板，和/或每个所述第二挡液罩远离所述第一挡液罩的一侧连接一个所述第二集液槽，和/或每个所述第二集液槽的底部连通至少一个所述第二排液管，和/或每个所述第二集液槽的底部连接至少一个所述第二升降组件。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第二挡液罩通过所述第二升降组件单独进行升降，因此所述第一集液槽与所述第二挡液罩之间需要分离，而所述第一挡液板可以避免液体进入所述第一集液槽与所述第二挡液罩之间的缝隙，因此避免所述第二升降组件受该液体影响。

进一步的，在径向远离所述刻蚀加工腔体的方向上，第一个所述第一挡液板伸入所述第一集液槽，其余所述第一挡液板伸入其内侧的所述第二集液槽中。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一挡液板进入所述第一集液槽后可以避免进入所述第一集液槽的液体反溅至所述第一集液槽与所述第二挡液罩之间的缝隙，因此进一步起到挡液的效果，保护所述第二升降组件不受液体影响。

进一步的，所述第三挡液罩包括延伸板；所述湿法刻蚀装置还包括：支撑件，所述支撑件连接于所述延伸板和所述安装面板之间。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第三挡液罩无需动作，通过所述支撑件可以稳定安装在所述安装面板上。

进一步的，所述第二密封部向远离所述第一挡液罩的方向凸出，所述第二密封部朝向所述第一挡液罩的一侧，形成密封槽；所述第一挡液罩和所述第二挡液罩顶部具有能够和所述密封槽抵接的密封凸起。

采用该技术方案后所达到的技术效果：所述密封槽与所述第一密封部抵接，或所述密封槽与所述第二密封部抵接后，可以消除缝隙，并且配合处为凹凸结构，可以有效避免液体渗入集液腔体，避免不同液体混杂，从而提高指定液体的纯度。

进一步的，多个所述第二密封部的密封槽的开度，沿远离所述第一密封部的方向依次增大。

采用该技术方案后所达到的技术效果：集液腔体的宽度沿远离密封槽的方向逐渐增大，使得液体进入集液腔体的过程更加顺畅；当所述第二挡液罩或所述第一挡液罩作为集液腔体靠近刻蚀加工腔体一侧的内壁时，所述第二挡液罩或所述第一挡液罩可以对其上方的液体起到导向作用，便于该液体流入集液腔体。

综上所述，本申请上述各个实施例可以具有如下一个或多个优点或有益效果：i)多个所述第一挡液罩、所述第二挡液罩均可以通过所述第二升降组件单独进行升降，使得各个集液腔体可以单独打开，便于收集所述刻蚀加工腔体内的不同液体，同时避免目标液体进入其余集液腔体；ii)所述晶圆平台通过所述第一升降组件进行升降，避免所述集液腔体的进液入口向下打开后，与所述晶圆平台的位置不对应导致无法收集液体，另外，根据所述第一挡液罩或所述第二挡液罩下降的位置，也可以通过所述第一升降组件调节所述晶圆平台下降的位置，从而更好地收集液体；iii)目标集液腔体打开，而其余集液腔体都闭合，可以使目标集液腔体处于最大的开启状态，从而提高集液效率；iv)所述密封槽能够有效密封集液腔体，避免同一集液腔体混入不同液体，集液腔体的宽度沿远离密封槽的方向逐渐增大，使得液体进入集液腔体的过程更加顺畅；v)所述第一挡液板可以阻挡液体进入所述第一集液槽与所述第二挡液罩之间的缝隙，所述第二挡液板可以阻挡液体从第二集液槽远离所述第二挡液罩的一侧溅出，因此所述升降组件不会接触液体，能够安全稳定地动作。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型第一实施例提供的一种湿法刻蚀装置的结构示意图。

图2为图1中湿法刻蚀装置另一视角的结构示意图。

图3为图2中A-A方向的剖视图。

图4为图2中B-B方向的剖视图。

图5为图2中C-C方向的剖视图。

图6为图2中D-D方向的剖视图。

图7为图3中I区域的放大图。

图8为图3中第一挡液罩和第一集液槽的连接示意图。

主要元件符号说明：

100为湿法刻蚀装置；101为刻蚀加工腔体；102为晶圆平台；103为接液板；110 为第一挡液罩；111为第一密封部；112为密封槽；113为集液腔体；114为加强部； 120为第二挡液罩；121为第二密封部；130a为第一升降组件；130b为第二升降组件； 131为第一支架；132为第二支架；140为第一集液槽；141为第一排液管；142为第一集液槽侧板；143为第一集液槽底板；150为第二集液槽；151为第一挡液板；152 为第二排液管；153为导向面；160为第三挡液罩；161为第二挡液板；162为延伸板； 163为支撑件；164为第三密封部；170为安装面板；180为旋转组件；181为旋转组件壳体；182为旋转轴；183为传动轮组；184为驱动件。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

【第一实施例】

参见图1-图7，本实用新型第一实施例提供一种湿法刻蚀装置100，包括：晶圆平台102；第一升降组件130a，第一升降组件130a用于控制晶圆平台102升降；至少三个挡液罩，挡液罩依次套设，其中，最内侧的挡液罩包围形成刻蚀加工腔体101，晶圆平台102位于刻蚀加工腔体101内，相邻的挡液罩之间形成集液腔体113，最内侧的挡液罩顶部设有第一密封部111，其余挡液罩顶部设有第二密封部121，第一密封部111和第二密封部121依次堆叠以密封所有集液腔体113；多个第二升降组件130b，除最外侧的挡液罩以外，其余挡液罩均通过至少一个第二升降组件130b进行升降；其中，当任意一个集液腔体113进行集液时，集液腔体113内侧的所有挡液罩通过第二升降组件130b下降，晶圆平台102通过第一升降组件130a下降。

在本申请中，当湿法刻蚀装置100无需回收液体时，第一升降组件130a和第二升降组件130b处于初始位置，第一密封部111与第二密封部121依次堆叠抵接，避免任何液体进入集液腔体113影响后续液体收集的纯度；当进行液体收集时多种液体分别收集，举例来说，最内侧的密封部通过第二升降组件130b下降，使最内侧的密封部外的集液腔体113打开，其余第二升降组件130b不动作，使其余集液腔体113保持密封，因此打开的集液腔体113可以收集指定液体，而最内侧的密封部下降的同时，第一升降组件130a控制晶圆平台102下降，使得飞溅的液体可以准确进入集液腔体113；当需要收集其余液体时，其余任意两个相邻的挡液罩之间的集液腔体113可以单独打开，即通过第一升降组件130a控制该集液腔体113内部的所有挡液罩下降，实现另一种目标液体的单独收集；因此，湿法刻蚀装置100可以灵活调节目标集液腔体113的进液入口，实现分类收集；同时，灵活控制进液入口的开度，可以时目标集液腔体113获得最大的开启状态，从而有效提高集液效率。

进一步的，还可以根据第一挡液罩110或第二挡液罩120下降的位置，即根据集液腔体113的进液入口的开度，对应的通过第一升降组件130a调节晶圆平台102下降的位置，从而更好地收集液体。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：旋转组件180，旋转组件180连接晶圆平台102，和/或第一升降组件130a连接旋转组件180。其中，旋转组件180用于控制晶圆平台102旋转，从而便于晶圆的刻蚀，也便于晶圆得到均匀有效的清洗。

优选的，旋转组件180例如包括旋转组件壳体181、旋转轴182、传动轮组183 和驱动件184。其中，晶圆平台102底部设有轴输入孔，旋转轴182顶端安装于轴输入孔内；旋转组件壳体181设有轴安装通道，旋转轴182穿过轴安装通过，并通过轴承与轴安装通道连接；传动轮组183安装于旋转轴182远离晶圆平台102的一端，用于将驱动件184的动力传递至旋转轴182，例如传动轮组183包括第一同步带轮和第二同步带轮，第一同步带轮安装于旋转轴182，第二同步带轮安装于驱动件184的输出轴，第一同步带轮和第二同步带轮通过同步带传动连接，实现驱动件184的动力输出，此处不做限定。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：安装面板170和第一支架131，第一支架131位于安装面板170远离晶圆平台102的一侧并连接第一升降组件130a。举例来说，第一升降组件130a连接旋转组件壳体181底部或侧面，第一支架131例如为L型板，第一支架131一侧连接第一升降组件130a，另一侧连接安装面板170，从而固定第一升降组件130a的同时，实现第一升降组件130a对旋转组件180 以及晶圆平台102的升降控制。

优选的，第一升降组件130a例如为气缸、电缸、液压缸，此处不做限定。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：第二支架132，第二支架132位于安装面板170远离挡液罩的一侧并连接第二升降组件130b。其中，第二支架132也可以是L型板，第二升降组件130b也可以是气缸、电缸、液压缸，此处不做限定。

需要说明的是，第一支架131和第二支架132将第一升降组件130a和第二升降组件130b固定至安装面板170远离晶圆平台102的一侧，可以使第一升降组件130a和第二升降组件130b获得较大的升降运动范围，同时，使挡液罩和晶圆平台102稳定升降。

在一个具体的实施例中，结合图8，最内侧的挡液罩为第一挡液罩110；湿法刻蚀装置100还包括：第一集液槽140，第一集液槽140连接第一挡液罩110远离刻蚀加工腔体101的一侧；至少一个第一排液管141，第一排液管141连通第一集液槽140 的底部。其中，第一集液槽140用于收集从对应的集液腔体113进入的液体，第一排液管141用于排出该液体，以便于回收。

优选的，第一集液槽140包括第一集液槽侧板142和第一集液槽底板143，第一集液槽底板143连接于第一集液槽侧板142和第一挡液罩110之间；其中，第一排液管141连通第一集液槽底板143。

优选的，第一挡液罩110包括加强部114和第一挡液罩本体，加强部114向第一集液槽140内部突出，并且加强部114底端连接第一集液槽底板143。其中，加强部 114用于提高第一集液槽底板143和第一挡液罩本体的连接强度，使得第一集液槽140 在收集液体时更加稳定。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：接液板103，接液板103 位于刻蚀加工腔体101底部，接液板103连接第一挡液罩110，接液板103用于收集部分流入刻蚀加工腔体101底部一侧的液体，并避免该液体影响第一升降组件130a的正常工作。其中，接液板103设有过孔，用于穿过旋转轴182。

优选的，至少一个第二升降组件130b连接第一集液槽140或接液板103，举例来说，第一集液槽140底部相对的两侧分别连接一个第二升降组件130b，或接液板103 底部相对的两侧分别连接一个第二升降组件130b，以提高第一集液槽140升降的稳定性。当然，第二升降组件130b也可以沿第一集液槽140或接液板103周向设置多组，此处不做限定。

在一个具体的实施例中，最外侧的挡液罩为第三挡液罩160，位于第一挡液罩110和第三挡液罩160之间的所有挡液罩为第二挡液罩120；湿法刻蚀装置100还包括：多个第一挡液板151、第二集液槽150和第二排液管152；其中，每个第二挡液罩120 朝向第一挡液罩110的一侧连接一个第一挡液板151，和/或每个第二挡液罩120远离第一挡液罩110的一侧连接一个第二集液槽150，和/或每个第二集液槽150的底部连通至少一个第二排液管152，和/或每个第二集液槽150的底部连接至少一个第二升降组件130b。

需要说明的是，第二挡液罩120通过第二升降组件130b单独进行升降，因此第一集液槽140与第二挡液罩120之间需要分离，而第一挡液板151可以避免液体进入第一集液槽140与第二挡液罩120之间的缝隙，因此避免第二升降组件130b受该液体影响。

优选的，第一挡液板151连接第二挡液罩120的一端具有导向面153，一方面，导向面153用于引导液体向下流动，避免液体积留于第一挡液板151顶部，另一方面，导向面153所在的倾斜结构能够提高第一挡液板151和第二挡液罩120的连接强度，使得第一挡液板151能够稳定地起到挡液的作用。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：在径向远离刻蚀加工腔体101的方向上，第一个第一挡液板151伸入第一集液槽140，其余第一挡液板151 伸入其内侧的第二集液槽150中。相应的，第一集液槽侧板142位于第一挡液板151 和第二挡液罩120之间，形成水平方向重叠的结构，可以避免进入第一集液槽140的液体反溅至第一集液槽140与第二挡液罩120之间的缝隙，因此进一步起到挡液的效果，保护升降组件不受液体影响。同理，其余第一挡液板151与第二集液槽150的第二集液槽150侧板沿水平方向重叠设置，避免液体从任意相邻的两个第二挡液罩120 之间溅出，提高了第一挡液板151的挡液效果。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100还包括：第三挡液罩160包括延伸板162；湿法刻蚀装置100还包括：支撑件163，支撑件163连接于延伸板162和安装面板170之间。其中，第三挡液罩160无需动作，通过支撑件163可以稳定安装在安装面板170上。

优选的，支撑件163可以是周向连接延伸板162的多个柱状结构，也可以是环形支撑结构，此处不做限定。其中，支撑件163可以直接支撑延伸板162，也可以采用插接的方式固定延伸板162，此处不做限定。

在一个具体的实施例中，湿法刻蚀装置100例如还包括：第二挡液板161，第二挡液板161连接第三挡液罩160朝向第二挡液罩120的一侧，并伸入第三挡液罩160 内侧的第一个第二集液槽150中；第二挡液板161用于阻挡液体从第二集液槽150远离第二挡液罩120的一侧溅出。

在一个具体的实施例中，第二密封部121向远离第一挡液罩110的方向凸出，第二密封部121朝向第一挡液罩110的一侧，形成密封槽112；第一挡液罩110和第二挡液罩120顶部具有能够和密封槽112抵接的密封凸起。其中：密封槽112与第一密封部111抵接，或密封槽112与第二密封部121抵接后，可以消除缝隙，并且配合处为凹凸结构，可以有效避免液体渗入集液腔体113，避免不同液体混杂，从而提高指定液体的纯度。

相应的，第三挡液罩160顶部设有第三密封部164，第三密封部164底部同样具有密封槽112用于配合第二密封部121的顶部，实现密封，此处不再赘述。

在一个具体的实施例中，多个第二密封部121的密封槽112的开度，沿远离第一密封部111的方向依次增大。其中，集液腔体113的宽度沿远离密封槽112的方向逐渐增大，使得液体进入集液腔体113的过程更加顺畅。

举例来说，第二挡液罩120包括倾斜段和竖直段，倾斜段连接于竖直段和第二密封部121之间。当第二挡液罩120作为集液腔体113靠近刻蚀加工腔体101一侧的内壁时，倾斜段可以对其上方的液体起到导向作用，便于该液体流入集液腔体113。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种湿法刻蚀装置，其特征在于，包括：

晶圆平台；

第一升降组件，所述第一升降组件用于控制所述晶圆平台升降；

至少三个挡液罩，所述挡液罩依次套设，其中，最内侧的所述挡液罩包围形成刻蚀加工腔体，所述晶圆平台位于所述刻蚀加工腔体内，相邻的所述挡液罩之间形成集液腔体，最内侧的所述挡液罩顶部设有第一密封部，其余所述挡液罩顶部设有第二密封部，所述第一密封部和所述第二密封部依次堆叠以密封所有所述集液腔体；

多个第二升降组件，除最外侧的所述挡液罩以外，其余所述挡液罩均通过至少一个所述第二升降组件进行升降；

其中，当任意一个所述集液腔体进行集液时，所述集液腔体内侧的所有所述挡液罩通过所述第二升降组件下降，所述晶圆平台通过所述第一升降组件下降。

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述湿法刻蚀装置还包括：

旋转组件，所述旋转组件连接所述晶圆平台，和/或所述第一升降组件连接所述旋转组件。

3.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述湿法刻蚀装置还包括：

安装面板；

第一支架和/或第二支架，所述第一支架位于所述安装面板远离所述晶圆平台的一侧并连接所述第一升降组件，所述第二支架位于所述安装面板远离所述挡液罩的一侧并连接所述第二升降组件。

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，最内侧的所述挡液罩为第一挡液罩；

所述湿法刻蚀装置还包括：

第一集液槽，所述第一集液槽连接所述第一挡液罩远离所述刻蚀加工腔体的一侧；

至少一个第一排液管，所述第一排液管连通所述第一集液槽的底部。

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述湿法刻蚀装置还包括：

接液板，所述接液板位于所述刻蚀加工腔体底部，所述接液板连接所述第一挡液罩，其中，至少一个所述第二升降组件连接所述第一集液槽或所述接液板。

6.根据权利要求4所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，最外侧的所述挡液罩为第三挡液罩，位于所述第一挡液罩和所述第三挡液罩之间的所有挡液罩为第二挡液罩；

所述湿法刻蚀装置还包括：多个第一挡液板、第二集液槽和第二排液管；

其中，每个所述第二挡液罩朝向所述第一挡液罩的一侧连接一个所述第一挡液板，和/或每个所述第二挡液罩远离所述第一挡液罩的一侧连接一个所述第二集液槽，和/或每个所述第二集液槽的底部连通至少一个所述第二排液管，和/或每个所述第二集液槽的底部连接至少一个所述第二升降组件。

7.根据权利要求6所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，在径向远离所述刻蚀加工腔体的方向上，第一个所述第一挡液板伸入所述第一集液槽，其余所述第一挡液板伸入其内侧的所述第二集液槽中。

8.根据权利要求6所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述第三挡液罩包括延伸板；

所述湿法刻蚀装置还包括：支撑件，所述支撑件连接于所述延伸板和所述安装面板之间。

9.根据权利要求6-8任一项所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，所述第二密封部向远离所述第一挡液罩的方向凸出，所述第二密封部朝向所述第一挡液罩的一侧，形成密封槽；

所述第一挡液罩和所述第二挡液罩顶部具有能够和所述密封槽抵接的密封凸起。

10.根据权利要求9所述的湿法刻蚀装置，其特征在于，多个所述第二密封部的密封槽的开度，沿远离所述第一密封部的方向依次增大。

Images