CN217941043U - 一种晶圆抛光液残留清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶圆抛光液残留清洗装置，涉及硅片加工技术领域，包括晶圆吸附卡盘，所述晶圆吸附卡盘的上方设置有卡盘抛光机构，所述晶圆吸附卡盘的下方设置有卡盘旋转机构，所述晶圆吸附卡盘的一侧设置有卡盘清洗机构；所述晶圆抛光液残留清洗装置还包括上安装板以及下安装板。该晶圆抛光液残留清洗装置，在晶圆抛光完成后，进行晶圆吸附卡盘冲洗作业，晶圆吸附卡盘继续旋转，同时清洗刷从侧面缓慢转动，移至晶圆吸附卡盘上，利用卡盘与清洗刷相对转动对卡盘面进行冲刷，当清洗刷转到一定角度到达卡盘中心后反向移动，对卡盘进行二次冲刷，在冲刷过程中，上下两个出水管同时出水对卡盘进行冲洗，达到清洁卡盘的目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体为一种晶圆抛光液残留清洗装置。
背景技术
在硅片生产工艺过程中，会涉及到硅片的抛光清洗等工序，包括单面正反面抛光、边缘抛光晶圆片，用于消除晶圆本身由于生产造成的缺陷，在晶圆的抛光过程中，需要使用专门的抛光液辅助加工，达到磨削抛光的效果，但是在抛光过程中，抛光液及其抛光碎屑不可避免的残留在晶圆吸附卡盘上，结晶后会污染卡盘，单靠卡盘本身的喷水装置无法消除结晶，因此在晶圆吸附过程中吸附面会出现印记缺陷。
在现有技术中，参考中国专利网公开的(申请号：CN202022442951.8)一种半导体晶圆的最终抛光设备；包括：晶圆传输部、装载有待抛光晶圆的上料部、装载有已抛光晶圆的下料部、均匀环绕设置的晶圆转换台和至少三级抛光台，以及用于喷淋纯水的喷头；其中，所述晶圆转换台与每级抛光台均分别对应至少两个抛光头；每个抛光头通过吸附方式将晶圆背面吸附并施压，并且所有抛光头均匀地环绕设置于指引部；所述指引部通过绕轴转动将所述抛光头转移至与所述晶圆转换台和所述抛光台对应，且在所述指引部对应设置所述抛光头的外侧装配一分隔板，用于将所述抛光头与所述抛光设备外部之间的空间分离，以使得飞散的抛光液较易与喷洒的纯水粒子经由所述分隔板阻挡而防止掉落于已完成抛光工艺的晶圆表面，这种现有手段冲洗刷洗装置分开使用，结构分离，不能联动，导致冲洗效果不佳。
为了解决上述问题，我们提出了一种晶圆抛光液残留清洗装置。
实用新型内容
本实用新型提供了一种晶圆抛光液残留清洗装置，具备对卡盘进行二次冲刷，上下两个出水管同时出水对卡盘进行冲洗，达到清洁卡盘的目的，以解决现有技术中冲洗效果不佳的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶圆抛光液残留清洗装置，包括晶圆吸附卡盘，所述晶圆吸附卡盘的上方设置有卡盘抛光机构，所述晶圆吸附卡盘的下方设置有卡盘旋转机构，所述晶圆吸附卡盘的一侧设置有卡盘清洗机构。
所述晶圆抛光液残留清洗装置还包括上安装板以及下安装板，所述卡盘抛光机构和卡盘清洗机构均通过上安装板进行安装，所述卡盘旋转机构通过下安装板进行安装。
所述卡盘清洗机构包括冲洗刷臂，所述冲洗刷臂设置在上安装板的下表面，所述冲洗刷臂的尾端设置有清洗刷，所述清洗刷位于晶圆吸附卡盘的上方。
进一步的，所述卡盘抛光机构包括加工装置，所述加工装置为抛光装置，所述加工装置安装在上安装板的下表面，所述加工装置的外部设置有上防水罩。
进一步的，所述上防水罩的上表面固定安装有升降机构，所述升降机构用于带动上防水罩进行升降，所述升降机构的顶端传动连接有气缸，所述气缸用于对升降机构进行上下驱动。
进一步的，所述卡盘旋转机构的底端设置有驱动马达，所述驱动马达用于驱动卡盘旋转机构对晶圆吸附卡盘进行旋转。
进一步的，所述卡盘旋转机构的顶端设置有下防水罩，所述下防水罩一端的底部开设有引流口，所述引流口的下方设置有过滤器，所述过滤器固定安装在下安装板的上表面，所述过滤器用于收集冲洗下来的结晶。
进一步的，所述卡盘抛光机构和卡盘旋转机构中均设置有出水管，所述出水管用于引导清洗水流的方向。
与现有技术相比，本实用新型提供了一种晶圆抛光液残留清洗装置，具备以下有益效果：
该晶圆抛光液残留清洗装置，在晶圆抛光完成后，进行晶圆吸附卡盘冲洗作业，晶圆吸附卡盘继续旋转，同时清洗刷从侧面缓慢转动，移至晶圆吸附卡盘上，利用卡盘与清洗刷相对转动对卡盘面进行冲刷，当清洗刷转到一定角度到达卡盘中心后反向移动，对卡盘进行二次冲刷，在冲刷过程中，上下两个出水管同时出水对卡盘进行冲洗，达到清洁卡盘的目的。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的清洗刷位置调整示意图；
图3为本实用新型的上下出水管的水流方向示意图。
图中：1、晶圆吸附卡盘；2、上安装板；3、下安装板；4、冲洗刷臂；5、清洗刷；6、加工装置；7、上防水罩；8、升降机构；9、气缸；10、下防水罩；11、引流口；12、过滤器；13、出水管；14、驱动马达。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，本实用新型公开了一种晶圆抛光液残留清洗装置，包括晶圆吸附卡盘1，所述晶圆吸附卡盘1的上方设置有卡盘抛光机构，所述晶圆吸附卡盘1的下方设置有卡盘旋转机构，所述晶圆吸附卡盘1的一侧设置有卡盘清洗机构。该装置优化了现有技术中的冲洗装置的结构，利用卡盘清洗机构冲刷清洗晶圆吸附卡盘1上的抛光液结晶，从而高效降低消除晶圆面上的印记缺陷，从而高效降低消除晶圆面上的印记缺陷，提高晶圆良率，保证晶圆生产质量。
所述晶圆抛光液残留清洗装置还包括上安装板2以及下安装板3，所述卡盘抛光机构和卡盘清洗机构均通过上安装板2进行安装，所述卡盘旋转机构通过下安装板3进行安装。
如图2所示，所述卡盘清洗机构包括冲洗刷臂4，所述冲洗刷臂4设置在上安装板2的下表面，所述冲洗刷臂4的尾端设置有清洗刷5，所述清洗刷5位于晶圆吸附卡盘1的上方。清洗刷5从侧面缓慢转动，移至晶圆吸附卡盘1上，利用卡盘与清洗刷5相对转动对卡盘面进行冲刷，当清洗刷5转到一定角度到达卡盘中心后反向移动，对卡盘进行二次冲刷。
具体的，所述卡盘抛光机构包括加工装置6，所述加工装置6为抛光装置，所述加工装置6安装在上安装板2的下表面，所述加工装置6的外部设置有上防水罩7，用于上方的防水。
具体的，所述上防水罩7的上表面固定安装有升降机构8，所述升降机构8用于带动上防水罩7进行升降，所述升降机构8的顶端传动连接有气缸9，所述气缸9用于对升降机构8进行上下驱动。
具体的，所述卡盘旋转机构的底端设置有驱动马达14，所述驱动马达14用于驱动卡盘旋转机构对晶圆吸附卡盘1进行旋转。
具体的，所述卡盘旋转机构的顶端设置有下防水罩10，所述下防水罩10一端的底部开设有引流口11，所述引流口11的下方设置有过滤器12，所述过滤器12固定安装在下安装板3的上表面，所述过滤器12用于收集冲洗下来的结晶。
如图1和3所示，图1中的箭头代表清洗水流的方向，所述卡盘抛光机构和卡盘旋转机构中均设置有出水管13，所述出水管13用于引导清洗水流的方向，卡盘抛光机构中的出水管13将清洗水流向下引导，卡盘旋转机构中的出水管13在卡盘旋转机构的带动下旋转式向上引导。
综上所述，该晶圆抛光液残留清洗装置，在晶圆抛光完成后，进行晶圆吸附卡盘冲洗作业，晶圆吸附卡盘继续旋转，同时清洗刷从侧面缓慢转动，移至晶圆吸附卡盘上，利用卡盘与清洗刷相对转动对卡盘面进行冲刷，当清洗刷转到一定角度到达卡盘中心后反向移动，对卡盘进行二次冲刷，在冲刷过程中，上下两个出水管同时出水对卡盘进行冲洗，达到清洁卡盘的目的。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种晶圆抛光液残留清洗装置，包括晶圆吸附卡盘(1)，其特征在于：所述晶圆吸附卡盘(1)的上方设置有卡盘抛光机构，所述晶圆吸附卡盘(1)的下方设置有卡盘旋转机构，所述晶圆吸附卡盘(1)的一侧设置有卡盘清洗机构；
所述晶圆抛光液残留清洗装置还包括上安装板(2)以及下安装板(3)，所述卡盘抛光机构和卡盘清洗机构均通过上安装板(2)进行安装，所述卡盘旋转机构通过下安装板(3)进行安装；
所述卡盘清洗机构包括冲洗刷臂(4)，所述冲洗刷臂(4)设置在上安装板(2)的下表面，所述冲洗刷臂(4)的尾端设置有清洗刷(5)，所述清洗刷(5)位于晶圆吸附卡盘(1)的上方。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光液残留清洗装置，其特征在于：所述卡盘抛光机构包括加工装置(6)，所述加工装置(6)为抛光装置，所述加工装置(6)安装在上安装板(2)的下表面，所述加工装置(6)的外部设置有上防水罩(7)。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆抛光液残留清洗装置，其特征在于：所述上防水罩(7)的上表面固定安装有升降机构(8)，所述升降机构(8)用于带动上防水罩(7)进行升降，所述升降机构(8)的顶端传动连接有气缸(9)，所述气缸(9)用于对升降机构(8)进行上下驱动。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光液残留清洗装置，其特征在于：所述卡盘旋转机构的底端设置有驱动马达(14)，所述驱动马达(14)用于驱动卡盘旋转机构对晶圆吸附卡盘(1)进行旋转。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光液残留清洗装置，其特征在于：所述卡盘旋转机构的顶端设置有下防水罩(10)，所述下防水罩(10)一端的底部开设有引流口(11)，所述引流口(11)的下方设置有过滤器(12)，所述过滤器(12)固定安装在下安装板(3)的上表面，所述过滤器(12)用于收集冲洗下来的结晶。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光液残留清洗装置，其特征在于：所述卡盘抛光机构和卡盘旋转机构中均设置有出水管(13)，所述出水管(13)用于引导清洗水流的方向。
Priority Applications (1)
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| CN202221987635.1U CN217941043U (zh) | 2022-07-29 | 2022-07-29 | 一种晶圆抛光液残留清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN217941043U true CN217941043U (zh) | 2022-12-02 |
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ID=84224378
Family Applications (1)
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| CN202221987635.1U Active CN217941043U (zh) | 2022-07-29 | 2022-07-29 | 一种晶圆抛光液残留清洗装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN217941043U (zh) |
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2022
- 2022-07-29 CN CN202221987635.1U patent/CN217941043U/zh active Active
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