CN217103600U - 一种基板蚀刻设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基板蚀刻设备,属于显示面板生产技术领域。所述基板蚀刻设备包括蚀刻槽、设于蚀刻槽内部用于传送基板的滚动装置、设于滚动装置上方用于向基板表面喷淋蚀刻液的喷淋管、以及设于蚀刻槽内部用于向基板表面吹风进行清洁处理的气刀;还包括蚀刻液循环装置和过滤装置,蚀刻液循环装置包括蚀刻药液槽和循环泵,蚀刻药液槽通过管道和与蚀刻槽底部开设的回收口连通;过滤装置,设于蚀刻液循环装置和喷淋管之间,具有工作模式和清洁模式,用于对蚀刻液进行过滤及清洁。本实用新型能够减少喷嘴堵塞现象的发生,提升蚀刻均一性,降低机台维护保养的成本和周期,提高产品质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示面板生产技术领域,尤其涉及一种基板蚀刻设备。
背景技术
显示面板生产制造过程中,蚀刻工艺通常采用湿蚀刻设备进行,湿蚀刻设备主要包括:蚀刻槽,用于使蚀刻液附着于基板而进行蚀刻处理;喷淋单元,用以向蚀刻槽内滚动装置上的基板的喷洒蚀刻液。另外,湿蚀刻设备还包括气刀,气刀用于喷出高压空气,形成AC(air curtain,气帘),主要作用是隔绝药液单元与水单元相互影响,同时吹掉滚动装置基板上的残留蚀刻液,以对蚀刻液进行回收。现有技术中,蚀刻液或者蚀刻回收液中可能含有杂质,从而会导致喷嘴发生堵塞,造成刻蚀不均,对产品品质造成影响。
目前,为防止喷嘴发生堵塞,常需要定期停机处理,手动对喷嘴进行清洁,不仅操作不便、清洁效率低、降低产能,而且清洁过程中需要耗费大量的人力和清洁用的硅片等材料。
因此,亟需一种基板蚀刻设备,以解决上述存在的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种基板蚀刻设备,能够减少喷嘴堵塞现象的发生,提升蚀刻均一性,降低机台维护保养的成本和周期,提高产品质量。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种基板蚀刻设备,包括:蚀刻槽、设于所述蚀刻槽内部用于传送基板的滚动装置、设于所述滚动装置上方用于向所述基板表面喷淋蚀刻液的喷淋管、以及设于所述蚀刻槽内部用于向所述基板表面吹风进行清洁处理的气刀;
还包括:
蚀刻液循环装置,所述蚀刻液循环装置包括蚀刻药液槽和循环泵,所述蚀刻药液槽通过管道和与所述蚀刻槽底部开设的回收口连通;
过滤装置,设于所述蚀刻液循环装置和所述喷淋管之间,具有工作模式和清洁模式,用于对蚀刻液进行过滤及清洁。
可选地,所述喷淋管上设有沿其轴向方向排列的多个喷嘴,所述喷淋管通过其上的多个所述喷嘴向所述基板表面喷淋蚀刻液。
可选地,所述过滤装置包括:
壳体,所述壳体设有进口和出口,所述进口连通于所述蚀刻药液槽,所述出口连通于所述喷淋管;
过滤网,所述过滤网设于所述壳体内,所述蚀刻液能够从所述进口输入,经所述过滤网的过滤后从所述出口输出。
可选地,还包括第一控制阀,所述出口连接有第一管路,所述第一控制阀设于所述第一管路上。
可选地,还包括第二控制阀,所述壳体还设有废液口,所述废液口连接有第二管路,所述第二控制阀设于所述第二管路上。
可选地,所述壳体上还设有清洗液进液口,所述清洗液进液口连接有清洗液供料装置。
可选地,所述壳体呈圆台状,所述出口位于所述壳体的小径端,所述进口位于所述壳体的大径端。
可选地,所述过滤装置为多个,依次连接,一个所述过滤装置的所述出口连接于另一个所述过滤装置的所述进口,所述蚀刻药液槽连通于第一个所述过滤装置的所述进口,最后一个所述过滤装置的所述出口连通于所述喷淋管。
可选地,第一个所述过滤装置的所述过滤网的网孔尺寸至最后一个所述过滤装置的所述过滤网的网孔尺寸依次减小。
可选地,所述壳体的一端设有接口,另一端设有能够与所述接口螺纹连接的接头,所述接口和所述接头二者中的一个形成所述进口,另一个形成所述出口。
本实用新型的有益效果:
本实用新型提供的一种基板蚀刻设备,蚀刻药液槽内容置有蚀刻液,开启循环泵,循环泵提供动力使蚀刻液从蚀刻药液槽通过管路泵入到喷嘴中,蚀刻液从喷嘴中喷出对滚动装置上的基板进行蚀刻。同时,气源装置通过气刀向蚀刻槽内喷入气体形成AC,其作用是隔绝蚀刻液单元与水单元相互影响,同时AC还用于吹掉滚动装置上的残留的蚀刻液,以对蚀刻液进行回收。通过设置过滤装置,蚀刻液经过壳体的进口进入后,经过过滤网过滤,过滤后的蚀刻液从出口流出,再进入到喷嘴,能够净化蚀刻液,防止喷嘴及回收口堵塞,提高产品质量,节省进行定期设备清洁等,节省了人力和物力,降低了成本。
附图说明
图1是本实用新型的实施例一提供的基板蚀刻设备的结构示意图;
图2是本实用新型的实施例一提供的过滤装置的主视图;
图3是本实用新型的实施例一提供的工作状态下过滤装置的结构示意图;
图4是本实用新型的实施例一提供的自清洁状态下过滤装置的结构示意图;
图5是本实用新型的实施例一提供的过滤装置的左视图;
图6是本实用新型的实施例一提供的过滤装置的右视图;
图7是本实用新型的实施例一提供的设有两个过滤装置的示意图;
图8是本实用新型的实施例一提供的设有三个过滤装置的示意图;
图9是本实用新型的实施例二提供的过滤装置的主视图。
图中:
100、气源装置;200、气刀;300、过滤装置;400、蚀刻液供料装置;500、蚀刻药液槽;600、循环泵;700、蚀刻槽;701、回收口;800、喷淋管;801、喷嘴;900、滚动装置;1000、厂务废液端;A、基板;
1、壳体;11、接口;12、接头;13、清洗液进液口;
2、过滤网;21、第一过滤网;22、第二过滤网;23、第三过滤网;
3、第一管路;4、第一控制阀;5、第二管路;6、第二控制阀。
具体实施方式
为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案做进一步的详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
实施例一
本实施例提供了一种基板蚀刻设备,如图1所示,蚀刻槽700、设于蚀刻槽700内部用于传送基板A的滚动装置900、设于滚动装置900上方用于向基板A表面喷淋蚀刻液的喷淋管800、以及设于蚀刻槽700内部用于向基板A表面吹风进行清洁处理的气刀200;还包括蚀刻液循环装置和过滤装置300,其中,蚀刻液循环装置包括蚀刻药液槽500和循环泵600,蚀刻药液槽500通过管道与蚀刻槽700底部开设的回收口701连通;过滤装置300设于蚀刻液循环装置和喷淋管800之间,具有工作模式和清洁模式,用于对蚀刻液进行过滤及清洁。
可选地,如图1所示,喷淋管800上设有沿其轴向方向排列的多个喷嘴801,喷淋管800通过其上的多个喷嘴801向基板A表面喷淋蚀刻液,使蚀刻液均匀喷淋在基板A上。
蚀刻药液槽500内容置有蚀刻液,开启循环泵600,循环泵600提供动力使蚀刻液从蚀刻药液槽500通过管路泵入到喷淋管800中,蚀刻液从喷嘴801中喷出对滚动装置900上的基板A进行蚀刻。同时,气源装置100通过气刀200向蚀刻槽700内喷入气体形成AC,其作用是隔绝蚀刻液单元与水单元相互影响,同时AC还用于吹掉滚动装置900上的残留的蚀刻液,以对蚀刻液进行回收。通过设置过滤装置300,蚀刻液经过壳体1的进口进入后,经过过滤网2过滤,过滤后的蚀刻液从出口流出,再进入到喷嘴801,能够净化蚀刻液,防止喷嘴801及回收口701堵塞,提高产品质量,节省进行定期设备清洁等,节省了人力和物力,降低了成本。
可选地,如图1所示,基板蚀刻设备还包括蚀刻液供料装置400,蚀刻液供料装置400向蚀刻药液槽500供蚀刻液。
可选地,如图2、图5和图6所示,过滤装置300包括壳体1和过滤网2,壳体1设有进口和出口,进口连通于蚀刻药液槽500,出口连通于喷淋管800;过滤网2设于壳体1内,蚀刻液能够从进口输入,经过滤网2的过滤后从出口输出,壳体1用于容置蚀刻液,过滤网2用于过滤进入壳体1内的蚀刻液。
可选地,如图2-图4所示,基板蚀刻设备还包括第一控制阀4,出口和喷嘴801之间连接有第一管路3,第一控制阀4设于第一管路3上。工作模式时,第一控制阀4使第一管路3为通路状态,过滤装置300和喷淋管800连通,过滤装置300通入蚀刻液后,将杂质过滤在过滤网2表面。当非工作模式时,即不需要通入蚀刻液时,通过第一控制阀4,可随时断开第一管路3,方便对通过过滤装置300对蚀刻液的通入或断开进行控制。
具体地,壳体1及过滤网2的材质、过滤网2的过滤精度等根据工艺要求进行选用,不进行限定。
可选地,如图2所示,壳体1还设有废液口,本实施例中,壳体1通过废液口连通于厂务废液端1000,能够排出杂质,通过厂务废液端1000对杂质进行统一处理,实现环保;具体地,废液口连接的第二管路5上设有第二控制阀6,方便对杂质是否排出进行控制。
具体地,第一控制阀4为电磁阀。具体地,第二控制阀6为电磁阀。假设第一控制阀4和第二控制阀6均为常闭阀。工作模式下,如图3所示,开启第一控制阀4,关闭第二控制阀6,蚀刻液从进口进入,经过过滤网2过滤后,过滤后的清洁蚀刻液从出口排出,进入到后续的蚀刻槽700内的喷嘴801并喷出。
清洁模式下,如图4所示,关闭第一控制阀4,开启第二控制阀6,蚀刻液或者其他清洗液等液体从进口进入,壳体1内储存的杂质及过滤网2表面的杂质会在液体的作用下冲至废液口排出,根据使用需求设置自动清洁频率,自动排出杂质,无滤芯等耗材,无需人力更换,后期无需人力干预。具体地,气源装置100、气刀200、蚀刻液供料装置400、蚀刻药液槽500、循环泵600、蚀刻槽700、喷嘴801、滚动装置900及厂务废液端1000均可采用现有技术,不再赘述。
可选地,壳体1呈圆台状,出口位于壳体1的小径端,进口位于壳体1的大径端,更有利于提升壳体1内蚀刻液单位流量,满足生产需求。
可选地,如图7和图8所示,基板蚀刻设备可以设有一个过滤装置300;可选地,基板蚀刻设备也可以设有多个相互连接的过滤装置300,一个过滤装置300的出口连接于另一个过滤装置300的进口,蚀刻药液槽500连通于第一个过滤装置300的进口,最后一个过滤装置300的出口连通于喷嘴801。通过不同组合方式,适应不同产线设备,满足不同过滤精度需求。具体地,过滤网2上的网孔尺寸大小可根据使用需求进行设置。
可选地,第一个过滤装置300的过滤网2的网孔尺寸至最后一个过滤装置300的过滤网2的网孔尺寸依次减小,对蚀刻液中的杂质实现逐级过滤。
如图7所示,设有两个过滤装置300,进行两级过滤,第一个过滤装置300设置有第一过滤网21,第二个过滤装置300设置有第二过滤网22,第一过滤网21的网孔直径尺寸为20μm,第二过滤网22的网孔直径尺寸为10μm。如图8所示,设有三个过滤装置300,进行三级过滤,第一个过滤装置300设置有第一过滤网21,第二个过滤装置300设置有第二过滤网22,第三个过滤装置300设置有第三过滤网23,第一过滤网21的网孔直径尺寸为30μm,第二过滤网22的网孔直径尺寸为20μm,第三过滤网23的网孔直径尺寸为10μm。
可选地,壳体1的一端设有接口11,另一端设有能够与接口11相配合的接头12,接口11和接头12二者中的一个形成进口,另一个形成出口,以便于与外部连接,且能够实现两个过滤装置300之间的连接。本实施例中,接口11形成进口,接头12形成出口。
本实施例中,接口11凹设于壳体1,接头12凸设于壳体1,通过凹凸配合,使两个过滤装置300之间连接更紧凑,具体地,接口11和接头12螺纹连接,方便拆装。
实施例二
如图9所示,本实施例与实施例一中的结构基本相同,本实施对于与实施例一的相同之处不再赘述,其不同之处在于过滤装置300的壳体1上还设有清洗液进液口13,通过专门单独设置的清洗液进液口13,避免与进口混用,方便操作。具体地,基板蚀刻设备还包括能够与清洗液进液口13连通的清洗液供料装置,清洁模式下,通过清洗液对过滤装置300进行清洗,提高清洁效果,且避免蚀刻液浪费。本实施例中,壳体1呈圆台状,清洗液进液口13设于壳体1的侧壁上且朝向过滤网2设置,提高了对过滤网2的清洗效果。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种基板蚀刻设备,其特征在于,包括:蚀刻槽(700)、设于所述蚀刻槽(700)内部用于传送基板(A)的滚动装置(900)、设于所述滚动装置(900)上方用于向所述基板(A)表面喷淋蚀刻液的喷淋管(800)、以及设于所述蚀刻槽(700)内部用于向所述基板(A)表面吹风进行清洁处理的气刀(200);
还包括:
蚀刻液循环装置,所述蚀刻液循环装置包括蚀刻药液槽(500)和循环泵(600),所述蚀刻药液槽(500)通过管道和与所述蚀刻槽(700)底部开设的回收口(701)连通;
过滤装置(300),设于所述蚀刻液循环装置和所述喷淋管(800)之间,具有工作模式和清洁模式,用于对蚀刻液进行过滤及清洁。
2.根据权利要求1所述的基板蚀刻设备,其特征在于:所述喷淋管(800)上设有沿其轴向方向排列的多个喷嘴(801),所述喷淋管(800)通过其上的多个所述喷嘴(801)向所述基板(A)表面喷淋蚀刻液。
3.根据权利要求1所述的基板蚀刻设备,其特征在于:所述过滤装置(300)包括:
壳体(1),所述壳体(1)设有进口和出口,所述进口连通于所述蚀刻药液槽(500),所述出口连通于所述喷淋管(800);
过滤网(2),所述过滤网(2)设于所述壳体(1)内,所述蚀刻液能够从所述进口输入,经所述过滤网(2)的过滤后从所述出口输出。
4.根据权利要求3所述的基板蚀刻设备,其特征在于,还包括第一控制阀(4),所述出口连接有第一管路(3),所述第一控制阀(4)设于所述第一管路(3)上。
5.根据权利要求3所述的基板蚀刻设备,其特征在于,还包括第二控制阀(6),所述壳体(1)还设有废液口,所述废液口连接有第二管路(5),所述第二控制阀(6)设于所述第二管路(5)上。
6.根据权利要求5所述的基板蚀刻设备,其特征在于,所述壳体(1)上还设有清洗液进液口(13),所述清洗液进液口(13)连接有清洗液供料装置。
7.根据权利要求3所述的基板蚀刻设备,其特征在于,所述壳体(1)呈圆台状,所述出口位于所述壳体(1)的小径端,所述进口位于所述壳体(1)的大径端。
8.根据权利要求3所述的基板蚀刻设备,其特征在于,所述过滤装置(300)为多个,依次连接,一个所述过滤装置(300)的所述出口连接于另一个所述过滤装置(300)的所述进口,所述蚀刻药液槽(500)连通于第一个所述过滤装置(300)的所述进口,最后一个所述过滤装置(300)的所述出口连通于所述喷淋管(800)。
9.根据权利要求8所述的基板蚀刻设备,其特征在于,第一个所述过滤装置(300)的所述过滤网(2)的网孔尺寸至最后一个所述过滤装置(300)的所述过滤网(2)的网孔尺寸依次减小。
10.根据权利要求9所述的基板蚀刻设备,其特征在于,所述壳体(1)的一端设有接口(11),另一端设有能够与所述接口(11)螺纹连接的接头(12),所述接口(11)和所述接头(12)二者中的一个形成所述进口,另一个形成所述出口。
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