CN216133848U - 一种晶圆清洗槽的液位监测装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆清洗槽的液位监测装置，所述清洗槽侧壁的上侧设置有导流管，所述导流管上设有漏液传感器。清洗槽内的清洗液高于导流管的安装位置时，沿导流管向漏液传感器流动，漏液传感器检测到信号时，判断清洗槽有漏液的风险，从而对清洗槽的漏液情况进行监测，避免漏液对机台零部件的损害，避免漏液引起安全事故。

Description

一种晶圆清洗槽的液位监测装置

技术领域

本实用新型涉及半导体设备技术领域，具体涉及一种晶圆清洗槽的液位监测装置。

背景技术

在半导体集成电路制造过程中，圆晶在化学机械研磨机台中经过抛光后，要继续经过一系列的清洗步骤，除去在抛光过程中，晶片表面所残留的研磨液，以及微粒等脏污，用以保证圆晶后续加工制造过程中的质量，从而完整的完成了化学业机械研磨的工艺。化学机械研磨(Chemical mechanical polishing，简称CMP)制程是半导体工艺中的一个步骤，该工艺于90年代前期开始被引入半导体硅晶片工序，从氧化膜等层问绝缘膜开始，推广到聚合硅电极、导通用的钨插塞CW-Plug)、STI C元件分离)。CMP是一种使用化学腐蚀以及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理的步骤。通常清洗槽(megatank)晶圆在CMP清洗里的主要部件，用来清洗晶圆表面残留的微粒和化学研磨液。在清洗槽上通常设有液位传感器，但是在长期使用中，液位传感器易失效或出现错误，导致清洗槽中清洗液超出液位而不进行报警，导致漏液的风险。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述技术问题，本实用新型提供一种晶圆清洗槽的液位监测装置，对清洗槽的漏液风险进行监测。

本实用新型公开了一种晶圆清洗槽的液位监测装置，所述清洗槽侧壁的上侧设置有导流管，所述导流管上设有漏液传感器。

优选的，所述导流管在漏液传感器一侧向下倾斜。

优选的，所述清洗槽包括外腔体和内腔体，所述内腔体的外侧壁低于外腔体的外侧壁，所述导流管设置在所述外腔体的外侧壁上。

优选的，所述外腔体上设置有液位传感器，所述液位传感器的安装高度低于所述导流管的入口高度。

优选的，本实用新型还包括输入泵和循环泵，所述输入泵的输出端与所述内腔体的输入端连接；所述外腔体的下侧与循环泵的输入端连接，所述循环泵的输出端与所述内腔体的另一输入端连接。

优选的，本实用新型还包括控制台，所述控制台包括微处理器，所述微处理器与漏液传感器和输入泵电连接。

优选的，本实用新型还包括报警器，所述报警器与所述微处理器电连接。

优选的，所述外腔体外侧设置有安装腔，所述导流管设置在所述安装腔内，导流管的一侧穿过安装腔底部的密封板与漏液传感器连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：清洗槽内的清洗液高于导流管的安装位置时，沿导流管向漏液传感器流动，漏液传感器检测到信号时，判断清洗槽有漏液的风险，从而对清洗槽的漏液情况进行监测，避免漏液对机台零部件的损害，避免漏液引起安全事故。

附图说明

图1是本实用新型的清洗槽结构示意图；

图2是漏液传感器的安装示意图；

图3是本实用新型的逻辑框图。

图中标记：1清洗槽，12内腔体，13外腔体，14安装腔，15密封板，2导流管，4漏液传感器，41液位传感器，42循环泵，43微处理器，44报警器，45输入泵。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

下面结合附图对本实用新型做进一步的详细描述：

一种晶圆清洗槽的液位监测装置，如图1-图3所示，清洗槽1侧壁的上侧设置有导流管2，导流管2上设有漏液传感器4。

清洗槽内的清洗液高于导流管2的安装位置时，沿导流管向漏液传感器流动，漏液传感器检测到信号时，判断清洗槽有漏液的风险，从而对清洗槽的漏液情况进行监测，避免漏液对机台零部件的损害，避免漏液引起安全事故。

其中，导流管2在漏液传感器4一侧向下倾斜。导流管2可以向下倾斜，也可以竖直设置。但不限于此，例如还可以倒U形设置，但倒U形的最高点应低于漏液的警示的最高液位。

在一个具体实施例中，清洗槽1包括外腔体13和内腔体12，内腔体12的外侧壁低于外腔体13的外侧壁，导流管2设置在外腔体13的外侧壁上，向内腔体中注入清洗液时，清洗液沿内腔体的侧壁流向外腔体，利于清洗液的流动。

如图1和图3，外腔体13上设置有液位传感器41，液位传感器41的安装高度低于导流管2的入口高度。即通过液位传感器41和导流管2进行双重监测，提高监测结果的稳定性。

本实用新型还可以包括输入泵45和循环泵42，输入泵45的输出端与内腔体12的输入端连接，用于向内腔体内输入清洗液；外腔体13的下侧与循环泵42的输入端连接，循环泵42的输出端与所述内腔体12的另一输入端连接，通过循环泵对清洗液进行循环。图3中的箭头指示了清洗液的流动方向。

本实用新型还可以包括控制台，所述控制台包括微处理器43，微处理器43与漏液传感器4和输入泵45电连接。漏液传感器4检测到漏液风险时，向输入泵发送停止工作的指令，使输入泵停止向内腔体注入清洗液，提高安全性。其中微处理器可以采用市场上常用的微处理器，例如STM32处理器或ARM处理器，但不限于此。

本实用新型还可以包括报警器44，报警器44与微处理器电43电连接，用于提醒管理人员，清洗槽具有漏液的风险，进行及时排查。

其中，外腔体13外侧可以设置有安装腔14，导流管2设置在安装腔14内，导流管2的一侧穿过安装腔14底部的密封板15与漏液传感器4连接。图2中示出了漏液传感器安装在清洗槽下侧的示意图，但不限于此。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种晶圆清洗槽的液位监测装置，其特征在于，所述清洗槽侧壁的上侧设置有导流管，所述导流管上设有漏液传感器；所述导流管在漏液传感器一侧向下倾斜。

2.根据权利要求1所述的液位监测装置，其特征在于，所述清洗槽包括外腔体和内腔体，所述内腔体的外侧壁低于外腔体的外侧壁，所述导流管设置在所述外腔体的外侧壁上。

3.根据权利要求2所述的液位监测装置，其特征在于，所述外腔体上设置有液位传感器，所述液位传感器的安装高度低于所述导流管的入口高度。

4.根据权利要求3所述的液位监测装置，其特征在于，还包括输入泵和循环泵，所述输入泵的输出端与所述内腔体的输入端连接；

所述外腔体的下侧与循环泵的输入端连接，所述循环泵的输出端与所述内腔体的另一输入端连接。

5.根据权利要求4所述的液位监测装置，其特征在于，还包括控制台，所述控制台包括微处理器，所述微处理器与漏液传感器和输入泵电连接。

6.根据权利要求5所述的液位监测装置，其特征在于，还包括报警器，所述报警器与所述微处理器电连接。

7.根据权利要求2所述的液位监测装置，其特征在于，所述外腔体外侧设置有安装腔，所述导流管设置在所述安装腔内，导流管的一侧穿过安装腔底部的密封板与漏液传感器连接。

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