CN215560752U - 一种金属薄膜生产装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种金属薄膜生产装置，包括导电辊和镀液槽，薄膜基材经过所述导电辊和所述镀液槽，所述导电辊包括位于所述镀液槽上方的第一导电辊和第四导电辊，还包括位于所述镀液槽内的第二导电辊和第三导电辊，所述第二导电辊位于所述第一导电辊的正下方，所述第三导电辊位于所述第四导电辊的正下方，使得所述薄膜基材经过所述第一导电辊和所述第二导电辊时，以及经过所述第三导电辊和所述第四导电辊时，均呈S形。本实用新型采用多个导电辊替代其他类型的辊系，大大减少了辊系种类及数量，且第二导电辊位于第一导电辊的正下方，第三导电辊位于第四导电辊的正下方，呈竖直分布，大大减少了镀液槽的占地空间。

Description

一种金属薄膜生产装置

技术领域

本实用新型涉及薄膜生产领域，具体的说，是涉及一种金属薄膜生产装置。

背景技术

电镀薄膜，指的是薄膜基材通过电镀液、阳极和阴极，在电流作用下将镀液槽中的金属层积在薄膜基材的膜面上，使得薄膜基材获得较好的导电性能。

现有的镀膜设备存在以下缺陷：镀液槽的占地空间较大，导致整体设备占用空间大；设备中采用多种辊系，种类繁杂，数量多，操作不便、维护成本较高；现有设备仅在镀液槽内设置一过辊，镀液槽上对称设置两个辊，形成V字形分布，薄膜基材浸入镀液槽后绕过过辊，该方式导致过辊两侧的薄膜基材张力不足，在镀膜过程中逐渐松弛，导致镀膜质量欠佳。

以上问题，值得解决。

发明内容

为了克服现有技术的问题，本实用新型提供一种金属薄膜生产装置。

本实用新型技术方案如下所述：

一种金属薄膜生产装置，包括导电辊和镀液槽，薄膜基材经过所述导电辊和所述镀液槽，其特征在于，所述导电辊包括位于所述镀液槽上方的第一导电辊和第四导电辊，还包括位于所述镀液槽内的第二导电辊和第三导电辊，

所述第二导电辊位于所述第一导电辊的正下方，所述第三导电辊位于所述第四导电辊的正下方，使得所述薄膜基材经过所述第一导电辊和所述第二导电辊时，以及经过所述第三导电辊和所述第四导电辊时，均呈S形。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述镀液槽内底部设有过辊，所述过辊位于所述第二导电辊和所述第三导电辊中间。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述第二导电辊和所述过辊之间、以及所述第三导电辊和所述过辊之间均设有若干钛蓝。

进一步的，若干所述钛蓝对称分布于所述薄膜基材两侧。

更进一步的，所述钛蓝内设有作为阳极的铜球。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述第三导电辊旁设有挤压辊，所述挤压辊与所述第三导电辊分别接触所述薄膜基材的两面。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述金属薄膜生产装置还包括放卷辊和收卷辊，所述放卷辊、所述收卷辊、所述第一导电辊和所述第四导电辊位于同一水平高度。

进一步的，所述收卷辊的前端设有烘烤箱。

根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于：

本实用新型采用多个导电辊替代其他类型的辊系，大大减少了辊系种类及数量；

本实用新型的第二导电辊位于第一导电辊的正下方，第三导电辊位于第四导电辊的正下方，呈竖直分布，大大减少了镀液槽的占地空间；

另一方面，本实用新型导电辊的排布结构，实现薄膜基材在两处呈S形，使得薄膜基材维持较好的张力，提高成品金属薄膜的质量及性能，且薄膜基材与各个导电辊的接触面积增大，在单位时间内能够层积较多的铜至薄膜基材膜面上，提高了镀膜效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型一优选实施例的结构示意图。

在图中，1、放卷辊；2、第一导电辊；3、第二导电辊；4、过辊；5、第三导电辊；6、挤压辊；7、第四导电辊；8、收卷辊；9、镀液槽；10、钛蓝；11、烘烤箱；12、薄膜基材。

具体实施方式

为了更好地理解本实用新型的目的、技术方案以及技术效果，以下结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的讲解说明。同时声明，以下所描述的实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。

“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体地限定。术语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。

实施例一

如图1所示，一种金属薄膜生产装置，包括导电辊和镀液槽9，薄膜基材12经过导电辊和镀液槽9，接触镀液，本实施例中的导电辊包括第一导电辊2、第二导电辊3、第三导电辊5和第四导电辊7，第一导电辊2和第四导电辊7位于镀液槽9上方，第二导电辊3和第三导电辊5位于镀液槽9内，且第二导电辊3位于第一导电辊2的正下方，第三导电辊5位于第四导电辊7的正下方。

上述金属薄膜生产装置的结构使得薄膜基材12依次经过第一导电辊2和第二导电辊3时，呈S形，以及薄膜基材12依次经过第三导电辊5和第四导电辊7时，也呈S形，从而使得薄膜基材12与各个导电辊的接触面积增大，在单位时间内能够层积较多的铜至薄膜基材12膜面上，提高了镀膜效率；薄膜基材12呈S形，使得薄膜基材12维持较好的张力，提高成品金属薄膜的质量及性能。

在本实施例中，镀液槽9内底部设有过辊4，过辊4位于第二导电辊3和第三导电辊5中间，过辊4能够使得薄膜基材12沉入镀液槽9底部，确保薄膜基材12与镀液完全接触，获得足够的镀液量。

在本实施例中，第三导电辊5旁设有挤压辊6，挤压辊6与第三导电辊5分别接触薄膜基材12的两面，由于薄膜基材12从镀液槽9中穿出时会携带镀液，挤压辊6能够将带出的多余的镀液挤压掉，从而防止镀液浪费，能够节约成本，也能防止镀液里面的铜镀在导电辊上，造成导电辊产生尖刺而损坏薄膜基材12。

在本实施例中，金属薄膜生产装置还包括放卷辊1和收卷辊8，放卷辊1、收卷辊8、第一导电辊2和第四导电辊7位于同一水平高度，使得薄膜基材12能够水平进入、水平离开金属薄膜生产装置，从而利于将薄膜基材12展开，且方便放出和收纳。

在本实施例中，第二导电辊3和过辊4之间设有若干钛蓝10，钛蓝10内设有多个铜球，钛蓝10作为电镀的阳极，且若干钛蓝10对称分布于薄膜基材12两侧，当薄膜基材12从第二导电辊3穿出后经过两侧的钛蓝10，使得薄膜基材12两面均得到镀膜效果。为了更好地在薄膜基材12膜面上进行镀膜，第三导电辊5和过辊4之间也设有对称分布的若干钛蓝10。

在本实用新型中，金属薄膜生产装置中的第一导电辊2和第二导电辊3为竖直设置，第三导电辊5和第四导电辊7也为竖直设置，可以大大减小镀液槽9所占空间。

实施例二

如图2所示，一种金属薄膜生产装置，其结构同实施例一，区别在于：收卷辊8的前端设有烘烤箱11，薄膜基材12从镀液槽9穿出之后，先经过烘烤箱11烘烤，再收纳入收卷辊8，该实施例能够快速干燥镀液后的薄膜基材12，加快生产效率，保证成品金属薄膜的质量。

在镀膜生产线中，上述方案的镀液槽9和四根导电辊的组合结构可作为一个单元，在一条生产线上可以设置多个此类单元进行镀膜，从而能够得到性能稳定、优异的成品金属薄膜。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种金属薄膜生产装置，包括导电辊和镀液槽，薄膜基材经过所述导电辊和所述镀液槽，其特征在于，所述导电辊包括位于所述镀液槽上方的第一导电辊和第四导电辊，还包括位于所述镀液槽内的第二导电辊和第三导电辊，

所述第二导电辊位于所述第一导电辊的正下方，所述第三导电辊位于所述第四导电辊的正下方，使得所述薄膜基材经过所述第一导电辊和所述第二导电辊时，以及经过所述第三导电辊和所述第四导电辊时，均呈S形。

2.根据权利要求1所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述镀液槽内底部设有过辊，所述过辊位于所述第二导电辊和所述第三导电辊中间。

3.根据权利要求2所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述第二导电辊和所述过辊之间、以及所述第三导电辊和所述过辊之间均设有若干钛蓝。

4.根据权利要求3所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，若干所述钛蓝对称分布于所述薄膜基材两侧。

5.根据权利要求3-4任一项所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述钛蓝内设有多个铜球。

6.根据权利要求1所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述第三导电辊旁设有挤压辊，所述挤压辊与所述第三导电辊分别接触所述薄膜基材的两面。

7.根据权利要求1所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述金属薄膜生产装置还包括放卷辊和收卷辊，所述放卷辊、所述收卷辊、所述第一导电辊和所述第四导电辊位于同一水平高度。

8.根据权利要求7所述的一种金属薄膜生产装置，其特征在于，所述收卷辊的前端设有烘烤箱。

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