CN212845096U - 偏光片内污缺陷成像机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种偏光片内污缺陷成像机构，包括设置在上吸风传输平台下方的相机以及光源；所述的相机以及光源通过支架固定，所述光源发出的光线照射于偏光片表面并反射，所述的相机对偏光片进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，所述的光源发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β。本实用新型通过高亮线光的反射，相机在一定角度下将增亮片内污缺陷清晰成像，便于检测识别，可以有效检出增亮片内污缺陷，提升产品检出效果，避免残次品流入市场；适用于增亮偏光片检测，可解决机器在线检测无法有效识别内污缺陷的难点，增强检出效率，增加产品流出良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种成像机构，尤其是一种偏光片内污缺陷成像机构。
背景技术
手机行业的快速发展，避免不了任何微小缺陷造成产品不良。从而出现了大量操作工的人工检测产品，随着劳动成本的增加以及新技术的发展，使用机器检测代替人工已是趋势。但增亮型偏光片内污缺陷较小，人工检测容易漏检，会有残次品流出，导致品质降低。
而现有技术的可成像内污缺陷的工位会有大量干扰，不能有效检出缺陷。产生原因是因工艺问题造成的内污缺陷一般位于增亮片保护膜和TAC膜之间，且很小，很难形成没有干扰的成像效果。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：提供一种偏光片内污缺陷成像机构，解决增亮型偏光片在亮面外观缺陷检测中保护膜和TAC膜之间异物检测的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种偏光片内污缺陷成像机构，包括设置在上吸风传输平台下方的相机以及光源；所述的相机以及光源通过支架固定，所述光源发出的光线照射于偏光片表面并反射，所述的相机对偏光片进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，所述的光源发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β。
进一步的说，本实用新型所述的夹角α的角度范围为10～30°；所述的夹角β的角度范围为0～5°。
进一步的说，本实用新型所述的光源为高亮线性条形光源。
再进一步的说，本实用新型所述的光源与偏光片的垂直距离h1为200～300mm，所述相机与偏光片的垂直距离h2为350～420mm。
进一步的说，本实用新型所述的上吸风传输平台具有吸风皮带，所述的偏光片吸附于吸风皮带上进行传输。
本实用新型的有益效果是，解决了背景技术中存在的缺陷，
1、通过高亮线光的反射，相机在一定角度下将增亮片内污缺陷清晰成像，便于检测识别；
2、从亮面检测偏光片，并通过调整相机角度和光源，利用光源反射暗场成像，可以将内污缺陷清晰成像，且无其他干扰，便于检出；
3、实时在线外观检测时，可以有效检出增亮片内污缺陷，提升产品检出效果，避免残次品流入市场；
4、适用于增亮偏光片检测，可解决机器在线检测无法有效识别内污缺陷的难点，增强检出效率，增加产品流出良率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型成像光路示意图；
图中：1、上吸风传输平台；2、相机；3、光源；4、支架；5、偏光片；6、吸风皮带。
具体实施方式
现在结合附图和优选实施例对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图1-2所示的一种偏光片内污缺陷成像机构，包括设置在上吸风传输平台1下方的相机2以及光源3；上吸风传输平台1具有吸风皮带6，所述的偏光片5吸附于吸风皮带6上进行传输。相机2以及光源3通过支架4固定，所述光源发出的光线照射于偏光片5表面并反射，所述的相机2对偏光片5进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机2的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，夹角α的角度范围为10～30°；所述的光源3发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β，夹角β的角度范围为0～5°，图2中，本实施例夹角β为0°，即，光源与偏光片垂直。光源为高亮线性条形光源。光源与偏光片的垂直距离h1为200～300mm，所述相机与偏光片的垂直距离h2为350～420mm。
本方案用一个相机和光源，一段上吸风平台实现增亮型偏光片内污缺陷成像，相机和光源位于吸风平台下方，便于检测偏光片亮面；通过调整相机角度和光源角度，将内污缺陷成像出来，成像点位于光源暗场区域，整体成像均匀，缺陷成像清晰，不受胶污划伤等干扰；本方案采用上吸风平台运输偏光片，可以稳定有效吸附，给成像创造稳定平整的条件；在线实时外观检测时可以有效成像内污缺陷，提升产品缺陷检出率，避免残次品流入市场。与现有的光学照明相比，该工位可以更好的针对内污缺陷成像，使检测更加精准。
以上说明书中描述的只是本实用新型的具体实施方式，各种举例说明不对本实用新型的实质内容构成限制，所属技术领域的普通技术人员在阅读了说明书后可以对以前所述的具体实施方式做修改或变形，而不背离实用新型的实质和范围。
Claims (6)
1.一种偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：包括设置在上吸风传输平台下方的相机以及光源；所述的相机以及光源通过支架固定，所述光源发出的光线照射于偏光片表面并反射，所述的相机对偏光片进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，所述的光源发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β。
2.如权利要求1所述的偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：所述的夹角α的角度范围为10～30°。
3.如权利要求1所述的偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：所述的夹角β的角度范围为0～5°。
4.如权利要求1所述的偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：所述的光源为高亮线性条形光源。
5.如权利要求1所述的偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：所述的光源与偏光片的垂直距离h1为200～300mm，所述相机与偏光片的垂直距离h2为350～420mm。
6.如权利要求1所述的偏光片内污缺陷成像机构，其特征在于：所述的上吸风传输平台具有吸风皮带，所述的偏光片吸附于吸风皮带上进行传输。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202022112867.XU CN212845096U (zh) | 2020-09-24 | 2020-09-24 | 偏光片内污缺陷成像机构 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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| CN202022112867.XU Active CN212845096U (zh) | 2020-09-24 | 2020-09-24 | 偏光片内污缺陷成像机构 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN212845096U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116952979A (zh) * | 2023-08-04 | 2023-10-27 | 湖北宝昂新材料科技有限公司 | 一种偏光片外观缺陷检测装置及检测方法 |
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2020
- 2020-09-24 CN CN202022112867.XU patent/CN212845096U/zh active Active
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN116952979A (zh) * | 2023-08-04 | 2023-10-27 | 湖北宝昂新材料科技有限公司 | 一种偏光片外观缺陷检测装置及检测方法 |
| CN116952979B (zh) * | 2023-08-04 | 2024-02-02 | 湖北宝昂新材料科技有限公司 | 一种偏光片外观缺陷检测装置及检测方法 |
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