CN212412009U - 旋转装置及其晶舟装置 - Google Patents
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Abstract
一种旋转装置及其晶舟装置,其保温桶下部与保温桶上部间形成法兰座结构的组合方式,使二者间能够相对转动。保温桶上部用以连接及支持晶舟本体,而加热器结构则设置于保温桶上部与加热器支架之间,使旋转装置能带动晶舟本体转动并透过加热器支架支撑加热器结构,借此有效避免电源线与晶舟本体间相互干涉现象,进而不会妨碍加热器结构加热工序。
Description
技术领域
本实用新型关于一种旋转装置,尤指一种用以旋转加热晶圆的旋转装置及其晶舟装置。
背景技术
于硅晶圆上形成各种电路等的半导体制程中,半导体薄膜成膜处理、蚀刻处理、抗蚀膜焙烧处理等,都需使用供对硅晶圆等半导体晶圆(以下略称为晶圆)进行加热的晶圆加热装置。
习用晶圆加热装置,主要是由一上板体与一下板体所组成,并在该下板体上设置有沟槽,使加热线可放置于其中,且在晶圆放置于加热器上后对加热线导通电流,使加热器整体产生热度以对晶圆进行加热的动作。
请参阅图1,习用晶舟装置90包括:一由数个柱体97支持的晶舟本体91;至少一个设置于该晶舟本体91上的挡片92;数个被叠层放置于该晶舟本体91内的晶圆93;一设于各该挡片92之间的加热器结构94,该加热器结构94经由一电源线98电性连接至外界电源;一用以支持该晶舟本体91的基座95;以及一设置于该基座95下方的底座96。基座95及底座96均为固定结构,与晶舟本体91间并无相对转动关系。
上述习用加热器结构94若希望采用旋转方式对晶圆93进行加热时,电源线98将与晶舟本体91尤指柱体97相互干涉,进而缠绕纠结(如图1中虚线所示),造成设备损坏的情形,故习用加热器结构94实质上无法以旋转方式进行加热。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题在于提供一种旋转装置,其能带动晶舟装置进行旋转加热工序,使加热器结构在加热过程中的温度能够均匀分布。
本实用新型所解决的次一技术问题在于提供一种应用上述旋转装置的晶舟装置,其能带动晶舟本体转动并透过加热器支架支撑加热器结构,有效避免电源线与晶舟本体间相互干涉现象,进而不会妨碍晶舟装置进行旋转加热工序。
本实用新型所采用的技术手段如下。
可达成上述新型目的的旋转装置,至少包括有:一底座;一固设于该底座正上方的支撑座;一固设于该支撑座正上方的平台;一固设于该平台正上方的保温桶下部,该保温桶下部具有一形成法兰座结构中的座部;一设置于该平台正上方且套接于该座部上的加热器支架;一保温桶上部,该保温桶上部具有一形成法兰座结构中的管部,该管部以能够相对转动方式套接于该座部上;以及一加热器结构;其中该加热器支架由至少一支撑件所支撑,其中该支撑件一端接设于该加热器支架,另一端则接设于该底座上。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构设置于该保温桶上部与该加热器支架之间。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构设置于该平台与该支撑座之间。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构更包含:一容置槽,其具有一顶端开口及一容置空间;一设于该容置槽上方并被容置于该容置空间内的层板,该层板顶面设有一沟槽;一被容置于该沟槽内部的加热线圈,该加热线圈更电性连接至一电源线。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构更包含一可盖合于该顶端开口并封闭该容置空间的盖体。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构为一同心圆态样。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该加热器结构为八边形或花瓣形态样。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该支撑件为柱体,较佳者以四个柱体支撑。
可达成上述新型目的的另一种旋转装置,至少包括一底座;一固设于该底座正上方的支撑座;一固设于该支撑座正上方的保温桶下部,该保温桶下部具有一形成法兰座结构中的座部;一保温桶上部,该保温桶上部具有一形成法兰座结构中的管部,该管部以能够相对转动方式套接于该座部上;一套设于该支撑座及该保温桶***的加热器支架;一被该加热器支架所支撑的加热器结构;以及一安装于该加热器结构上的加热线圈,该加热线圈更电性连接至一电源线,借以连接外电;其中该加热器支架、该加热器结构及该加热线圈分别设有一直径稍大于该支撑座外径的中央通孔,以容许该支撑座以可自由转动方式穿过该加热器支架、该加热器结构及该加热线圈;其中该加热器支架一端设置于该保温桶上部,另一端则接设于该底座的上方。
可达成上述新型目的的一种晶舟装置,至少包括:一晶舟本体;至少一个设置于该晶舟本体上的挡片;数个被叠层放置于该晶舟本体内的晶圆;以及一如上所述的旋转装置,该旋转装置中的保温桶上部用以连接及支持该晶舟本体,借以带动该晶舟本体转动。
在本实用新型一较佳实施例中,更包括有一完全罩住该晶舟本体的外罩。
在本实用新型一较佳实施例中,其中该外罩使用高热传导率材料所制成。
可达成上述新型目的的另一种晶舟装置,至少包括:一晶舟本体;至少一个设置于该晶舟本体上的挡片;数个被叠层放置于该晶舟本体内的晶圆;以及一如前所述的旋转装置,该旋转装置中套设于该支撑座***作为保温桶的加热器支架用以连接及支持该晶舟本体,借以带动该晶舟本体转动。
在本实用新型一较佳实施例中,包括有一完全罩住该晶舟本体的外罩,其中该外罩使用高热传导率材料所制成。
本实用新型所产生的技术效果:一种旋转装置,其能带动晶舟装置进行旋转加热工序,使加热器结构在加热过程中的温度能够均匀分布,并透过加热器支架支撑加热器结构,有效避免电源线与晶舟本体间相互干涉现象,进而不会妨碍晶舟装置进行旋转加热工序。
附图说明
图1为习用晶舟装置的立体组合视图。
图2为本实用新型旋转装置第一实施例的立体组合视图。
图3为图2的立体分解视图。
图4表示该旋转装置旋转时不相互干涉的动作示意图。
图5为本实用新型应用上述旋转装置的晶舟装置第一实施例的立体组合视图。
图6为图5部分构件的剖面视图。
图7为图5的剖面视图。
图8为本实用新型旋转装置第二实施例的立体分解视图。
图9为本实用新型旋转装置第三实施例的剖面视图。
图10为本实用新型加热器结构第一实施例的立体示意图。
图11为加热器结构第二实施例的立体示意图。
图号说明:
10: 底座
11: 支撑座
12: 电源线
13: 平台
14: 保温桶下部
15: 座部
16: 加热器支架
17: 保温桶上部
18: 管部
19: 加热器结构
20: 晶舟本体
21: 挡片
22: 晶圆
23: 外罩
30: 容置槽
31: 顶端开口
32: 容置空间
33: 层板
34: 沟槽
35: 加热线圈
36: 盖体
40: 支撑件
90: 晶舟装置
91: 晶舟本体
92: 挡片
93: 晶圆
94: 加热器结构
95: 基座
96: 底座
97: 柱体
98: 电源线
具体实施方式
请同时参阅图2至图4,本实用新型所提供的旋转装置,主要包括有:一底座10;一固设于该底座10正上方的支撑座11;一固设于该支撑座11正上方的平台13;一固设于该平台13正上方的保温桶下部14,该保温桶下部14具有一形成法兰座结构中的座部15;一设置于该平台13正下方且接设于该座部15下的加热器支架16;一保温桶上部17,该保温桶上部17具有一形成法兰座结构中的管部18,该管部18以能够相对转动方式套接于该座部15上;以及一加热器结构19,该加热器结构19更电性连接至一电源线12,借以连接外电,提供该加热器结构19进行加热时所需的工作电源者。该加热器支架16由至少一支撑件40所支撑,该支撑件40可为柱体、桶状型支撑件,在本实用新型一实施例中,该支撑件40较佳者以四个柱体为主。其中支撑该支撑件40一端接设于该加热器支架16,另一端则接设于该底座10上,用以透过各该支撑件40及该加热器支架16的设计,使其能够支撑加热器结构,达到支撑的作用,且将电线设置于加热器支架上,即可有效避免电线旋转而打结绊住的情形。
请参阅图5至图7,本实用新型所提供的一种晶舟装置,至少包括:一晶舟本体20;至少一个设置于该晶舟本体20上的挡片21;数个被叠层放置于该晶舟本体20内的晶圆22;以及一如上所述的旋转装置,该旋转装置中的保温桶上部17用以连接及支持该晶舟本体20,借以带动该晶舟本体20转动。该晶舟装置更包括有一完全罩住该晶舟本体20的外罩23,该外罩23使用高热传导率材料所制成。且该加热器结构19设置于该保温桶上部17与该加热器支架16之间,且该加热器支架16、加热器结构19及加热线圈35分别设有一直径稍大于该支撑座11外径的中央通孔,故其不会跟着转动,借此有效避免电线因旋转加热而打结绊住的情形。
如图4及图5所示,旋转装置中的保温桶下部14与保温桶上部17间形成法兰座结构的组合方式,使二者间能够相对转动。其中该旋转装置中的保温桶上部17用以连接及支持该晶舟本体20,而该加热器结构19则设置于该保温桶上部17与该加热器支架16之间,使该旋转装置能带动晶舟本体20转动,并能够避免加热器结构19与加热器支架16旋转,借此有效避免电源线12与晶舟本体20间相互干涉现象,进而不会妨碍晶舟本体20进行旋转加热工序。
请参阅图6,该加热器结构19包含:一容置槽30,其具有一顶端开口31及一容置空间32;一设于该容置槽30上方并被容置于该容置空间32内的层板33,该层板33顶面设有一沟槽34;一被容置于该沟槽34内部的加热线圈35,该加热线圈35更电性连接至一电源线12;以及一可盖合于该顶端开口31并封闭该容置空间32的盖体36。
请参阅图8,本实用新型所提供的旋转装置第二实施例,包括有:一底座10;一固设于该底座10正上方的支撑座11,该支撑座11实质上为一可带动晶舟装置(图未示出)转动的驱动轴杆;一套设于该支撑座11***的加热器支架16,该加热器支架16除了可以支撑一加热器结构19外,实质上亦形成为一桶状型加热器结构(图未示);以及一安装于该加热器结构19上的加热线圈35,该加热线圈35更电性连接至一电源线12,借以连接外电,提供该加热线圈35进行加热时所需的工作电源。该加热器支架16、加热器结构19及加热线圈35分别设有一直径稍大于该支撑座11外径的中央通孔,以容许该支撑座11以可自由转动方式穿过该加热器支架16、加热器结构19及加热线圈35,其顶端再与该晶舟装置(图未示出)联结,并透过支撑座11带动该晶舟装置转动,而该加热器支架16、加热器结构19及加热线圈35因直径大于该支撑座11外径的中央通孔故其不会跟着转动,借此有效避免电线因旋转加热而打结绊住的情形。
请参阅图9,该加热器结构19亦可设置于该平台13与该支撑座11之间。请参阅图10,该加热器结构19为一同心圆态样。请参阅图11该加热器结构19亦可为八边形或花瓣形态样。另外,在本实用新型另一较佳实施例中,该加热器结构为桶状型加热器结构,该桶状型加热器结构,由内而外依序设有该加热线圈、该层板以及该隔热层所形成;据此透过该加热器结构用以围绕于该保温桶***,亦能达到让整体的保温效果更好且温度更均匀。
本实用新型所提供的旋转装置及其晶舟装置,能够带动加热器结构进行旋转加热工序,使加热器结构在加热过程中的温度能够均匀分布。应用上述旋转装置的晶舟装置,更能带动晶舟本体转动,并能够避免加热器结构与加热器支架旋转,借此有效避免电源线与晶舟本体间相互干涉现象,进而不会妨碍晶舟本体进行旋转加热工序。
Claims (10)
1.一种旋转装置,其特征在于,至少包括:
一底座(10);
一固设于该底座(10)正上方的支撑座(11);
一固设于该支撑座(11)正上方的平台(13);
一固设于该平台(13)正上方的保温桶下部(14),该保温桶下部(14)具有一形成法兰座结构中的座部(15);
一设置于该平台(13)正上方且套接于该座部(15)上的加热器支架(16);
一保温桶上部(17),该保温桶上部(17)具有一形成法兰座结构中的管部(18),该管部(18)以能够相对转动方式套接于该座部(15)上;以及
一加热器结构(19);其中该加热器支架(16)由至少一支撑件(40)所支撑,其中该支撑件(40)一端接设于该加热器支架(16),另一端则接设于该底座(10)上。
2.如权利要求1所述的旋转装置,其特征在于,该加热器结构(19)设置于该保温桶上部(17)与该加热器支架(16)之间,或者该加热器结构(19)设置于该平台(13)与该支撑座(11)之间。
3.如权利要求1所述的旋转装置,其特征在于,该加热器结构(19)包含:一容置槽(30),其具有一顶端开口(31)及一容置空间(32);一设于该容置槽(30)上方并被容置于该容置空间(32)内的层板(33),该层板(33)顶面设有一沟槽(34);一被容置于该沟槽(34)内部的加热线圈(35),该加热线圈(35)电性连接至一电源线(12)。
4.如权利要求3所述的旋转装置,其特征在于,该加热器结构(19)包含一盖合于该顶端开口(31)并封闭该容置空间(32)的盖体(36)。
5.如权利要求1所述的旋转装置,其特征在于,该加热器结构(19)为同心圆态样或八边形。
6.一种旋转装置,其特征在于,包括:
一底座(10);
一固设于该底座(10)正上方的支撑座(11);
一固设于该支撑座(11)正上方的保温桶下部(14),该保温桶下部(14)具有一形成法兰座结构中的座部(15);
一保温桶上部(17),该保温桶上部(17)具有一形成法兰座结构中的管部(18),该管部(18)以能够相对转动方式套接于该座部(15)上;
一套设于该支撑座(11)及该保温桶***的加热器支架(16);
一被该加热器支架(16)所支撑的加热器结构(19);以及
一安装于该加热器结构(19)上的加热线圈(35),该加热线圈(35)电性连接至一电源线(12),借以连接外电;
其中该加热器支架(16)、该加热器结构(19)及该加热线圈(35)分别设有一直径大于该支撑座(11)外径的中央通孔,以容许该支撑座(11)以可自由转动方式穿过该加热器支架(16)、该加热器结构(19)及该加热线圈(35);其中该加热器支架(16)一端设置于该保温桶上部(17),另一端则接设于该底座(10)的上方。
7.一种晶舟装置,其特征在于,至少包括:
一晶舟本体(20);
至少一个设置于该晶舟本体(20)上的挡片(21);
数个被叠层放置于该晶舟本体(20)内的晶圆(22);以及
一如权利要求1所述的旋转装置,该旋转装置中的保温桶上部(17)用以连接及支持该晶舟本体(20),借以带动该晶舟本体(20)转动。
8.如权利要求7所述的晶舟装置,其特征在于,包括有一完全罩住该晶舟本体(20)的外罩(23),其中该外罩(23)为高热传导率的外罩。
9.一种晶舟装置,其特征在于,至少包括:
一晶舟本体(20);
至少一个设置于该晶舟本体(20)上的挡片(21);
数个被叠层放置于该晶舟本体(20)内的晶圆(22);以及
一如权利要求6所述的旋转装置,该旋转装置接设于该支撑座(11)上方,且该旋转装置的***为该加热器支架(16),且该加热器支架(16)用以连接及支持该晶舟本体(20),借以带动该晶舟本体(20)转动。
10.如权利要求9所述的晶舟装置,其特征在于,包括有一完全罩住该晶舟本体(20)的外罩(23),其中该外罩(23)为高热传导率的外罩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202021038662.5U CN212412009U (zh) | 2020-06-08 | 2020-06-08 | 旋转装置及其晶舟装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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CN212412009U true CN212412009U (zh) | 2021-01-26 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202021038662.5U Active CN212412009U (zh) | 2020-06-08 | 2020-06-08 | 旋转装置及其晶舟装置 |
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