CN212247206U - 顶升装置和物料加工设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提出了一种顶升装置和物料加工设备，其中，顶升装置包括：壳体，壳体内设有腔室；运料组件，可活动地设于壳体上，运料组件用于传送物料；载板，设于腔室内，载板用于承载物料，载板上设有多个通孔；加热器，与载板相连，加热器用于为载板加热，多个顶升立柱，可升降地设置，每个顶升立柱与一个通孔对应设置，其中，顶升立柱用于穿过通孔，将物料从运料组件上取下，并输送至载板上，或将物料从载板上输送至运料组件上。通过本实用新型的技术方案，有效地避免了载板时冷时热的情况，减少了能源的浪费，提升了载板、物料温度的均匀性，有利于提升物料的工艺处理效果。

Description

顶升装置和物料加工设备

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，具体而言，涉及一种顶升装置和一种物料加工设备。

背景技术

传统的板式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)设备是将需要做工艺的硅片放在一块载板上，然后由滚轮将载板传输至工艺腔，进行工艺处理。为了达到更好的工艺效果，需要在工艺腔中做工艺处理之前对硅片进行加热，而且硅片表面的温度均匀性越好，工艺效果越好。

由于硅片放在载板上，需要对硅片加热，从而需要对载板进行加热，而载板通过滚轮在各处流转，时热时冷，这样一方面会浪费一部分能源，而且容易造成温度不均匀，影响工艺效果。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

有鉴于此，本实用新型的一个目的在于提供一种顶升装置。

本实用新型的另一个目的在于提供一种物料加工设备。

为了实现上述目的，本实用新型第一方面的技术方案提供了一种顶升装置，包括：壳体，壳体内设有腔室；运料组件，可活动地设于壳体上，运料组件用于传送物料；载板，设于腔室内，载板用于承载物料，载板上设有多个通孔；加热器，与载板相连，加热器用于为载板加热，多个顶升立柱，可升降地设置，每个顶升立柱与一个通孔对应设置，其中，顶升立柱用于穿过通孔，将物料从运料组件上取下，并输送至载板上，或将物料从载板上输送至运料组件上。

在该技术方案中，通过将载板设置在腔室内，并采用运料组件和顶升立柱相互配合来取放物料，使得载板不需要带着物料在各处流转，而是可以一直留在腔室中，被与其相连接的加热器进行加热，从而可以较为稳定地保持一定的温度，避免因为流转而导致的时冷时热的状态，减少了能源的浪费，且由于长时间在腔室中被加热器加热，使得载板上的温度稳定而均匀，有利于提升物料温度的均匀性，从而提升物料加工的工艺效果。

在上述技术方案中，运料组件包括至少一组挂架，挂架用于将物料送入或送出腔室。

在上述技术方案中，挂架包括多个挂钩，每个挂钩上设有向相邻挂钩伸出的支撑部，相邻的支撑部用于支撑物料，且相邻的支撑部之间间隔设置。

在上述任一项技术方案中，运料组件还包括：至少一组传输装置，每组传输装置与一组挂架连接，并用于传输挂架。

在上述任一项技术方案中，顶升装置还包括：托举块，通孔为台阶孔，托举块设于台阶孔的台阶上，或通孔为锥形孔，托举块设于锥形孔内；托举块用于被顶升立柱托举，并承载物料。

在上述技术方案中，托举块位于通孔中时，与载板平齐。

在上述任一项技术方案中，顶升装置还包括：顶升支架，设于壳体的底部；导轨，顶升支架的两侧分别设有一个导轨；第一升降组件，可升降地设于导轨上，第一升降组件还与顶升立柱连接，并驱动顶升立柱升降；第二升降组件，可升降地导轨上，第二升降组件与加热器连接，第二升降组件用于驱动加热器升降。

在上述技术方案中，第一升降组件包括：第一滑块，与导轨滑动连接；立柱升降平板，与第一滑块连接；立柱顶升平台，与立柱升降平板相连，顶升立柱设于立柱顶升平台上；第一丝杠螺母，固定在立柱升降平板上；第一丝杠，与第一丝杠螺母栓接；第一支撑座，设于顶升支架上；第一丝杠固定端支撑轴承座，设于第一支撑座上；第一丝杠浮动端支撑轴承座，设于顶升支架上，第一丝杠可转动地设于第一丝杠固定端支撑轴承座和第一丝杠浮动端支撑轴承座上；第一电机和第一联轴器，第一丝杠通过第一联轴器与第一电机相连，第一电机用于驱动第一丝杠旋转。

在上述技术方案中，第二升降组件包括：第二滑块，与导轨滑动连接；加热器升降平板，与第二滑块连接；加热器顶升平台，与加热器升降平板相连，加热器与加热器顶升平台相连；第二丝杠螺母，固定在加热器升降平板上；第二丝杠，与第二丝杠螺母栓接；第二支撑座，设于顶升支架上；第二丝杠固定端支撑轴承座，设于第二支撑座上；第二丝杠浮动端支撑轴承座，设于顶升支架上，第二丝杠可转地设于第二丝杠固定端支撑轴承座和第二丝杠浮动端支撑轴承座上；第二电机和第二联轴器，第二丝杠通过第二联轴器与第二电机相连，第二电机用于驱动第二丝杠旋转。

本实用新型第二方面的技术方案提供了一种物料加工设备，包括：镀膜装置；上述第一方面中任一项技术方案的顶升装置，与镀膜装置相连。

在该技术方案中，通过采用上述任一项技术方案的顶升装置，从而具有了上述技术方案的全部有益效果，在此不再赘述；顶升装置与镀膜装置相连，便于在物料预热后，直接送入镀膜装置进行工艺处理，以提升工艺处理效果。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1是本实用新型的一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图2是本实用新型的另一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图3是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图4是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图5是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图6是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图7是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图8是本实用新型的又一个实施例的顶升装置的剖视结构示意图；

图9是图1中A部的局部放大结构示意图；

图10是图3中B部的局部放大结构示意图。

其中，图1至图10中的附图标记与部件名称之间的对应关系为：

1壳体，2顶升支架，3导轨，4挂架，40传输装置，5挂钩，50支撑部，7托举块，70顶升立柱，700立柱顶升平台，702立柱升降平板，704第一丝杠螺母，706第一丝杠，708第一丝杠浮动端支撑轴承座，710第一丝杠固定端支撑轴承座，712第一支撑座，714第一联轴器，716第一电机，718第一滑块，8载板，80加热器，800加热器顶升平台，802加热器升降平板，804第二丝杠螺母，806第二丝杠，808第二丝杠浮动端支撑轴承座，810第二丝杠固定端支撑轴承座，812第二支撑座，814第二联轴器，816第二电机，818第二滑块，82通孔，9波纹管，10硅片。

具体实施方式

为了可以更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照图1至图10描述本实用新型的一些实施例。

在参照附图对本实用新型的实施例进行说明之前，需要指出，物料可以是硅片，也可以是其它需要保持较为稳定温度和清洁度的物料，例如各种需要进行电镀或热镀的材料或工件，具体例如螺钉、镜子、装饰品等等；相应地，物料加工设备也不仅限于硅片加工设备，也可以是其它任何一种用于镀膜、电镀、热镀的设备。

下面的实施例中，以硅片和硅片加工设备为例进行说明。

如图1至图10所示，根据本实用新型提出的一个实施例的顶升装置，用于硅片加工设备，包括：壳体1，壳体1内设有腔室；运料组件，可活动地设于壳体1上，运料组件用于传送硅片10；载板8，设于腔室内，载板8用于承载硅片10，如图3和图10所示，载板8上设有多个通孔82；加热器80，与载板8相连，加热器80用于为载板8加热，多个顶升立柱70，可升降地设置，每个顶升立柱70与一个通孔82对应设置，其中，顶升立柱70用于穿过通孔82，将硅片10从运料组件上取下，并输送至载板8上，或将硅片10从载板8上输送至运料组件上。

在该实施例中，通过将载板8设置在腔室内，并采用运料组件和顶升立柱70相互配合来取放硅片10，使得载板8不需要带着硅片10在硅片加工设备的各处流转，而是可以一直留在腔室中，被与其相连接的加热器80进行加热，从而可以较为稳定地保持一定的温度，避免因为流转而导致的时冷时热的状态，减少了能源的浪费，且由于长时间在腔室中被加热器80加热，使得载板8上的温度稳定而均匀，有利于提升硅片10温度的均匀性，从而提升硅片10加工的工艺效果。

具体地，通过将载板8设置在腔室内而不是用于带着硅片10四处流转，有利于为载板8提供一个相对封闭的环境，减少载板8上的热量流失，节省能源；加热器80和载板8连接，便于为载板8加热，保持载板8温度的稳定性和均匀性，并在载板8承载硅片10后，还可以为硅片10进行加热，以提升硅片10的工艺处理效果；采用运料组件运输硅片10，可以在不同的工艺段之间传输硅片10，且不需要为运料组件加热，减少了能源的浪费；通过在载板8上设置通孔82，并设置与通孔82对应的顶升立柱70，便于通过顶升立柱70的升降，从运料组件上取下硅片10，放到载板8上进行加热，或者将加热完成的硅片10从载板8上顶出，送到运料组件上，这样能够实现硅片10取放、输送的自动化，且由于顶升立柱70可以升降，因此在将硅片10放置到载板8上之后，顶升立柱70可以下降离开加热位置，避免不必要的加热，从而进一步地节省了能源。

在上述实施例中，加热器80设于载板8的底部并与载板8贴靠，这样更有利于提升加热效果；顶升立柱70设置在加热器80的下方，并可通过升降穿过载板8上的通孔，可以理解，加热器80上相应地设有过孔，以让顶升立柱70通过；运料组件在载板8的上方往复运动。

在上述实施例中，运料组件包括两组挂架4，一组挂架4用于将硅片10送入腔室，另一组挂架4用于将硅片10送出腔室，这样便于区分硅片10的不同加工工艺流程，即一个挂架4可以用于从上道工艺位置将硅片10取出后送至腔室，而另一个挂架将硅片10送至下道工艺位置，两组挂架的工作互不干扰，各司其职，有利于提升工艺的顺畅度和流水加工效率。

在一些实施例中，两组挂架4上下错位设置，避免发生干涉。

如图1和图9所示，在上述实施例中，挂架4包括多个挂钩5，每个挂钩5上设有向相邻挂钩5伸出的支撑部50，相邻的支撑部50用于支撑硅片10，且相邻的支撑部50之间间隔设置。

在该实施例中，挂架4包括多个挂钩5，每个挂钩5上设有向相邻挂钩5伸出的支撑部50，以便和相邻的支撑部50配合支撑硅片10，且相邻的支撑部50之间间隔设置，如图2所示，位于上层的挂架4将硅片10传输至腔室后，如图3和图4所示，顶升立柱70升起，从相邻的支撑部50之间的间隔处将硅片10顶起，如图5所示，使硅片10脱离挂钩5，然后在挂架4移开后，如图6所示，顶升立柱70再下降至载板8处，使载板8承载硅片10，此时，顶升立柱70继续下降，脱离通孔82，使得硅片10完全由载板8承载；在需要将硅片10送出腔室时，如图7所示，顶升立柱70可以再次上升，将硅片10顶离载板8，并继续上升，待另一个挂架4也就是位于下层的挂架4就位后，移动至顶升立柱70顶部，且每个顶升立柱70位于挂钩5之间时，如图8所示，顶升立柱70可以下降，使硅片10由下层的挂架4上相邻的支撑部50支撑，并由下层的挂架4传输至下一道工序进行工艺处理，此时，由于顶升立柱70已经下降，因此与下层的挂架4支架不会发生干涉；在上述过程中，载板8可以持续地被加热板加热，从而可以保持均匀而稳定的温度，进而有利于提升硅片10的温度均匀性和稳定性。

在上述任一项实施例中，运料组件还包括：两组传输装置40，每组传输装置40与一组挂架4连接，并用于传输与其连接的挂架4，这样两组挂架4各自都有相对应的传输装置，有利于提升硅片10传输的便利性和流水作业效率；另外，还可以通过传输装置40将挂架4传输至避开载板8，以便为载板8提供升降空间。

如图9和图10所示，在上述任一项实施例中，顶升装置还包括：托举块7，通孔82为台阶孔，托举块7设于台阶上，托举块7用于被顶升立柱70托举，并承载硅片10或其它物料。

在该实施例中，通过设置托举块7，并能够被顶升立柱70托举，这样便于顶升立柱70的顶部可以设置的较小，从而可以在通孔82内自由升降而不会发生干涉，同时可以通过将托举块7设置为上大下小的形状，从而既能够被顶升立柱70托举，又能够具有足够的承载面积保证硅片10不易掉落，而且通孔82为台阶孔，托举块7可以长期放置在台阶上和载板8一起加热，与载板8保持大致相同的温度，这样硅片10被托举块7托举至载板8上之后，同样能够得到均匀的加热，而且托举块7体积小，又和顶升立柱70分离，这样所需的热量少，也很少会将热量传递到其它地方，因此还有利于节省能源；托举块7设于台阶上，不会从通孔82中掉落。

在另一些实施例中，通孔82为锥形孔，或者说是圆台孔，即通孔82从上到下横截面积逐渐减小，这样使得托举块7不会从通孔82中掉落。

在另一些实施例中，通孔82为锥形孔，同时也是台阶孔。

如图9所示，在上述实施例中，托举块7位于通孔82中时，与载板8平齐，这样使得硅片10放置到载板8上时，各部位或者和载板8接触，或者和托举块7接触，即硅片10的各部位都能够得到均匀的加热，有利于提升硅片10上温度的均匀性，从而提升硅片10的工艺处理效果。

在上述任一项实施例中，顶升装置还包括：顶升支架2，设于壳体1的底部；导轨3，顶升支架2的两侧分别设有一个导轨3；第一升降组件，可升降地设于导轨3上，第一升降组件还与顶升立柱70连接，并驱动顶升立柱70升降；第二升降组件，可升降地导轨3上，第二升降组件与加热器80连接，第二升降组件用于驱动加热器80升降。

在该实施例中，通过设置第一升降组件驱动顶升立柱70升降，便于在载板8上取放硅片10，实现硅片10加工的自动化；设置第二升降组件驱动加热器80升降，从而可以驱动与加热器80连接的载板8进行升降，使得硅片10在腔室内能够始终得到加热，有利于提升载板8在本道工序的工艺处理效果，且由于载板8上设有通孔82，顶升立柱70的载板8有各自的升降组件，从而顶升立柱70的升降和载板8的升降互不干扰，有利于提升生产加工的便利性；在顶升支架2上设置导轨3，便于限制第一升降组件和第二升降组件的升降轨迹，使得顶升立柱70或载板8升降时，顶升立柱70和通孔82都能够准确对位，避免错位而发生干涉，引起设备故障。

在上述实施例中，第一升降组件包括：第一滑块718，顶升支架2的左右两侧分别设有一个第一滑块718，并分别与导轨3滑动连接；立柱升降平板702，与第一滑块718连接；立柱顶升平台700，与立柱升降平板702相连，顶升立柱70设于立柱顶升平台700上；第一丝杠螺母704，固定在立柱升降平板702上；第一丝杠706，与第一丝杠螺母704栓接；第一支撑座712，设于顶升支架2上；第一丝杠固定端支撑轴承座710，设于第一支撑座712上；第一丝杠浮动端支撑轴承座708，设于顶升支架2上，第一丝杠706可转动地设于第一丝杠固定端支撑轴承座710和第一丝杠浮动端支撑轴承座708上；第一电机716和第一联轴器714，第一丝杠706通过第一联轴器714与第一电机716相连，第一电机716用于驱动第一丝杠706旋转。

在该实施例中，通过将第一丝杠螺母704固定在立柱升降平板702上，且第一丝杠706可转动地设于第一丝杠固定端支撑轴承座710和第一丝杠浮动端支撑轴承座708上，使得第一丝杠706随着第一电机716的驱动而转动时，第一丝杠螺母704可以沿着第一丝杠706做螺旋上升或下降的运动，并带动与其连接的立柱升降平板702进行上升或下降，而立柱顶升平台700与立柱升降平板702连接，顶升立柱70设置在立柱顶升平台700上，从而顶升立柱70可以随着第一电机716的转动而上升或下降，并且第一丝杠螺母704沿第一丝杠706运动，也是直线运动，而立柱升降平板702通过左右两侧的第一滑块718和导轨3连接，这样在第一丝杠706和导轨3的双重限制下，有利于进一步保证顶升立柱70升降轨迹的稳定性和可靠性。

在另一些实施例中，第一升降组件包括齿轮齿条组件或链轮链条组件或皮带轮组件。

在上述实施例中，第二升降组件包括：第二滑块818，顶升支架2的左右两侧分别设有一个第二滑块818，并分别与导轨3滑动连接；加热器升降平板802，与第二滑块818连接；加热器顶升平台800，与加热器升降平板802相连，加热器80与加热器顶升平台800相连；第二丝杠螺母804，固定在加热器升降平板802上；第二丝杠806，与第二丝杠螺母804栓接；第二支撑座812，设于顶升支架2上；第二丝杠固定端支撑轴承座810，设于第二支撑座812上；第二丝杠浮动端支撑轴承座808，设于顶升支架2上，第二丝杠806可转地设于第二丝杠固定端支撑轴承座810和第二丝杠浮动端支撑轴承座808上；第二电机816和第二联轴器814，第二丝杠806通过第二联轴器814与第二电机816相连，第二电机816用于驱动第二丝杠806旋转。

在该实施例中，通过将第二丝杠螺母804固定在加热器升降平板802上，且第二丝杠806可转动地设于第二丝杠固定端支撑轴承座810和第二丝杠浮动端支撑轴承座808上，使得第二丝杠806随着第二电机816的驱动而转动时，第二丝杠螺母804可以沿着第二丝杠806做螺旋上升或下降的运动，并带动与其连接的加热器升降平板802进行上升或下降，而加热器顶升平台800与加热器升降平板802连接，加热器80与加热器顶升平台800连接，从而加热器80可以随着第二电机816的转动而上升或下降，并且第二丝杠螺母804沿第二丝杠806运动，也是直线运动，而加热器升降平板802通过左右两侧的第二滑块818和导轨3连接，这样在第二丝杠806和导轨3的双重限制下，有利于进一步保证加热器80和载板8升降轨迹的稳定性和可靠性。

在另一些实施例中，第二升降组件包括齿轮齿条组件或链轮链条组件或皮带轮组件。

本实用新型第二方面的实施例提供了一种硅片加工设备，包括：镀膜装置；上述第一方面中任一项实施例的顶升装置，与镀膜装置相连。

在该实施例中，通过采用上述任一项实施例的顶升装置，从而具有了上述实施例的全部有益效果，在此不再赘述；顶升装置与镀膜装置相连，便于在硅片10预热后，直接送入镀膜装置进行工艺处理，以提升硅片10的工艺处理效果。

如前所述，物料加工设备并不仅限于硅片加工设备，也可以是螺钉的加工设备，或者装饰品的加工设备等。

根据本实用新型提出的一个具体实施例的顶升装置，包括壳体1，顶升支架2，导轨3，挂架4，传输装置40，托举块7，顶升立柱70，立柱顶升平台700，立柱升降平板702，第一丝杠螺母704，第一丝杠706，第一丝杠浮动端支撑轴承座708，第一丝杠固定端支撑轴承座710，第一支撑座712，第一联轴器714，第一电机716，第一滑块718，载板8，加热器80，加热器顶升平台800，加热器升降平板802，第二丝杠螺母804，第二丝杠806，第二丝杠浮动端支撑轴承座808，第二丝杠固定端支撑轴承座810，第二支撑座812，第二联轴器814，第二电机816，第二滑块818和波纹管9。

每个传输装置40带着一组挂架4直线运动。

顶升支架2安装在壳体1的底部，顶升支架2的左右两侧各安装一根导轨3，左侧的导轨3上设有两个滑块，即第一滑块718和第二滑块818，两个滑块都可以沿着导轨3滑动，右侧的导轨3上同样设有第一滑块718和第二滑块818，并可以沿着导轨3滑动。第一支撑座712、第二支撑座812固定顶升支架2上。第一丝杠固定端支撑轴承座710固定在第一支撑座712上，第二丝杠固定端支撑轴承座810固定在第二支撑座812上。第一丝杠706上下分别通过第一丝杠浮动端支撑轴承座708和第一丝杠固定端支撑轴承座710支撑旋转，第二丝杠806上下分别通过第二丝杠浮动端支撑轴承座808和第二丝杠固定端支撑轴承座810支撑旋转。

第一丝杠706上的第一丝杠螺母704和立柱升降平板702连接在一起，第一丝杠706的下端和第一联轴器714连接，第一联轴器714的另一端和第一电机716连接，此时第一电机716的动力就可以传递给第一丝杠706，第一丝杠706上的第一丝杠螺母704带动着立柱升降平板702沿导轨3的长度方向上下运动。立柱顶升平台700与立柱升降平板702固定在一起，立柱顶升平台700上安装着顶升立柱70，所以第一电机716的转动可以带动着顶升立柱70上下运动。

第二丝杠806上的第二丝杠螺母804和加热器升降平板802连接在一起，第二丝杠806的下端和第二联轴器814连接，第二联轴器814的另一端和第二电机816连接，此时第二电机816的动力就可以传递给第二丝杠806，第二丝杠806上的第二丝杠螺母804带动着加热器升降平板802沿导轨3的长度方向上下运动。加热器顶升平台800和加热器升降平板802固定在一起，加热器顶升平台800的上方设置有加热器80，载板8安装在加热器80上，所以第二电机816的转动可以带着载板8上下运动。

如果要对硅片10进行做工艺处理的话，执行如下的流程：

如图2所示，第一步，传输装置40将钩着未做工艺的硅片10的挂架4传输至工艺腔室，也就是将上层的挂架4传输至工艺腔室；

如图3和图10所示，第二步，第一电机716转动，带动立柱顶升平台700向上运动，顶升立柱70也会被带着向上运动，在顶升立柱70向上运动的过程中，顶升立柱70的上部会先和物料托举块7的下部接触，将物料托举块7脱离载板8的凹槽中，也就是脱离载板8的通孔82；

如图4所示，第三步，第一电机716继续转动，顶升立柱70上部的物料托举块7上面接触硅片10，并将硅片10脱离挂架4；

如图5所示，第四步，硅片10脱离上层的挂架4后，传输装置40将上层的挂架4传输至工艺腔室外；

如图6所示，第五步，在挂架4传输至脱离工艺腔室之后，第一电机716反向转动，带动立柱顶升平台700向下运动，顶升立柱70也会被带着向下运动，在顶升立柱70向下运动的过程中，物料托举块7会落入载板8的凹槽中，物料托举块7的上表面和载板8的上表面平齐，硅片10下部和载板8、托举块7的上部完全接触。由于载板8和托举块7一直处于加热器80的上方，一直处于加热的状态，自身的温度均匀性比较好，所以与之接触的硅片10的温度均匀性也会比较好。

将硅片10卸载到载板8之上后，第二电机816转动，带动着加热器80和载板8上升至指定的高度，执行工艺处理。

如果要对做完工艺的硅片10执行出腔操作，执行如下的流程：

如图7所示，第一步，第一电机716转动，带动立柱顶升平台700向上运动，顶升立柱70也会被带着向上运动，在顶升立柱70向上运动的过程中，顶升立柱70的上部会先和托举块7的下部接触，将托举块7脱离载板8的凹槽中；

如图8所示，第二步，另一个传输装置40将下层的挂架4传输至工艺腔室，也就是位于下方的传输装置40将位于下方的挂架传输至工艺腔室；

第三步，在下层的挂架4传输至工艺腔室之后，第一电机716反向转动，带动立柱顶升平台700向下运动，顶升立柱70也会被带着向下运动，在顶升立柱70向下运动的过程中，硅片10会被下层的挂架4上的支撑部50勾住，硅片10落入下层的挂架4的卡槽中。第一电机716继续反向转动，直至托举块7落入载板8的凹槽(通孔82)之中。

以上结合附图详细说明了本实用新型的技术方案，通过本实用新型的技术方案，有效地避免了载板时冷时热的情况，减少了能源的浪费，提升了载板、物料温度的均匀性，有利于提升物料的工艺处理效果。

在本实用新型中，术语“第一”、“第二”、仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本实用新型的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种顶升装置，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体内设有腔室；

运料组件，可活动地设于所述壳体上，所述运料组件用于传送物料；

载板，设于所述腔室内，所述载板用于承载物料，所述载板上设有多个通孔；

加热器，与所述载板相连，所述加热器用于为所述载板加热，

多个顶升立柱，可升降地设置，每个所述顶升立柱与一个所述通孔对应设置，其中，所述顶升立柱用于穿过所述通孔，将所述物料从所述运料组件上取下，并输送至所述载板上，或将所述物料从所述载板上输送至所述运料组件上。

2.根据权利要求1所述的顶升装置，其特征在于，

所述运料组件包括至少一组挂架，所述挂架用于将所述物料送入或送出所述腔室。

3.根据权利要求2所述的顶升装置，其特征在于，

所述挂架包括多个挂钩，每个所述挂钩上设有向相邻所述挂钩伸出的支撑部，相邻的所述支撑部用于支撑所述物料，且相邻的所述支撑部之间间隔设置。

4.根据权利要求2或3所述的顶升装置，其特征在于，

所述运料组件还包括：至少一组传输装置，每组所述传输装置与一组所述挂架连接，并用于传输所述挂架。

5.根据权利要求1或2所述的顶升装置，其特征在于，还包括：

托举块，所述通孔为台阶孔，所述托举块设于所述台阶孔的台阶上，或所述通孔为锥形孔，所述托举块设于所述锥形孔内；

所述托举块用于被所述顶升立柱托举，并承载所述物料。

6.根据权利要求5所述的顶升装置，其特征在于，

所述托举块位于所述通孔中时，与所述载板平齐。

7.根据权利要求1或2所述的顶升装置，其特征在于，还包括：

顶升支架，设于所述壳体的底部；

导轨，所述顶升支架的两侧分别设有一个所述导轨；

第一升降组件，可升降地设于所述导轨上，所述第一升降组件还与所述顶升立柱连接，并驱动所述顶升立柱升降；

第二升降组件，可升降地设于所述导轨上，所述第二升降组件与所述加热器连接，所述第二升降组件用于驱动所述加热器升降。

8.根据权利要求7所述的顶升装置，其特征在于，

所述第一升降组件包括：第一滑块，与所述导轨滑动连接；

立柱升降平板，与所述第一滑块连接；

立柱顶升平台，与所述立柱升降平板相连，所述顶升立柱设于所述立柱顶升平台上；

第一丝杠螺母，固定在所述立柱升降平板上；

第一丝杠，与所述第一丝杠螺母栓接；

第一支撑座，设于所述顶升支架上；

第一丝杠固定端支撑轴承座，设于所述第一支撑座上；

第一丝杠浮动端支撑轴承座，设于所述顶升支架上，所述第一丝杠可转动地设于所述第一丝杠固定端支撑轴承座和所述第一丝杠浮动端支撑轴承座上；

第一电机和第一联轴器，所述第一丝杠通过所述第一联轴器与所述第一电机相连，所述第一电机用于驱动所述第一丝杠旋转。

9.根据权利要求7所述的顶升装置，其特征在于，

所述第二升降组件包括：第二滑块，与所述导轨滑动连接；

加热器升降平板，与所述第二滑块连接；

加热器顶升平台，与所述加热器升降平板相连，所述加热器与所述加热器顶升平台相连；

第二丝杠螺母，固定在所述加热器升降平板上；

第二丝杠，与所述第二丝杠螺母栓接；

第二支撑座，设于所述顶升支架上；

第二丝杠固定端支撑轴承座，设于所述第二支撑座上；

第二丝杠浮动端支撑轴承座，设于所述顶升支架上，所述第二丝杠可转地设于所述第二丝杠固定端支撑轴承座和所述第二丝杠浮动端支撑轴承座上；

第二电机和第二联轴器，所述第二丝杠通过所述第二联轴器与所述第二电机相连，所述第二电机用于驱动所述第二丝杠旋转。

10.一种物料加工设备，其特征在于，包括：

镀膜装置；

权利要求1-9中任一项所述的顶升装置，与所述镀膜装置相连。

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