CN211311630U - 一种镀铜均匀度改善装置 - Google Patents
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Abstract
一种镀铜均匀度改善装置,包括底座、电镀槽、清洗池、滑动轨道、驱动装置、支撑架和过滤装置;清洗池与电镀槽均设置在底座上;清洗池与电镀槽的两侧均设置有用于接收液体的托盘;电镀槽的内部设置有若干个阳极座;阳极座的顶部设置有接线柱;阳极座的一侧设置有挂架;过滤装置设置在电镀槽的外壳上;支撑架的两端分别于两侧的托盘连接,且支撑架位于清洗池、电镀槽之间;支撑架上安装有电源正极和电源负极;滑动轨道的底部设置有支架,滑动轨道呈环形设置在清洗池与电镀槽的上方;驱动装置设置在滑动轨道上,驱动装置的底部设置有安装架;本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,大大节省了厂商的投资成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域,尤其涉及一种镀铜均匀度改善装置。
背景技术
目前的镀铜线均匀度,在10um左右,而现有的垂直电镀线镀铜的均匀度能控制在5um左右,但是垂直电路线,只能做厚径比8:1以上的板子,再高会非常困难,而且更换料号的时候非常麻烦,一定要等前面料号走完了才可以走后面的料号,工作效率差,适合于批量版,后径比较小的板子。这类板在制造中属于中低端产品,而高端版,后劲比必须要求较大,镀铜的均匀度要求比较高的板,现在还没有电镀生产线可以满足。
为解决上述问题,本申请中提出一种镀铜均匀度改善装置。
实用新型内容
(一)实用新型目的
为解决背景技术中存在的目前的镀铜线均匀度,在10um左右,而现有的垂直电镀线镀铜的均匀度能控制在5um左右,但是垂直电路线,只能做厚径比8:1以上的板子,再高会非常困难,而且更换料号的时候非常麻烦,一定要等前面料号走完了才可以走后面的料号,工作效率差的技术问题,本实用新型提出一种镀铜均匀度改善装置,本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,确保生产出的产品均匀度在5um以下,厚径比可达到12:1的高质量的电镀线,大大节省了厂商的投资成本。
(二)技术方案
为解决上述问题,本实用新型提供了一种镀铜均匀度改善装置,包括底座、电镀槽、清洗池、滑动轨道、驱动装置、支撑架和过滤装置;
清洗池与电镀槽均设置在底座上;清洗池与电镀槽平行设置;清洗池与电镀槽的两侧均设置有用于接收液体的托盘;电镀槽的内部设置有若干个阳极座,阳极座上设置有多个通孔;阳极座的顶部设置有接线柱;阳极座的一侧设置有挂架,挂架上安装有第二喷流装置,第二喷流装置朝向阳极座内部方向喷流;电镀槽的外壁上设置有第一喷流装置,第一喷流装置朝向电镀槽内部喷流;过滤装置设置在电镀槽的外壳上,过滤装置沿着工件运动的方向设置有进液管,过滤装置沿着工件运动相反的方向设置有出液管;进液管和出液管均伸入电镀槽内部;过滤装置上设置有排污管;
支撑架的两端分别于两侧的托盘连接,且支撑架位于清洗池、电镀槽之间;支撑架与清洗池、电镀槽均为平行;支撑架上安装有电源正极和电源负极;电源正极通过导线与阳极座的接线柱连接;
滑动轨道的底部设置有支架,滑动轨道呈环形设置在清洗池与电镀槽的上方;驱动装置设置在滑动轨道上,驱动装置的底部设置有安装架,驱动装置驱动安装架沿着滑动轨道滑动;
优选的,安装架的底部设置有伸缩装置,伸缩装置的底部设置有用于夹持工件的夹持部;电源负极通过导线与夹持部连接;导线长度大于滑动轨道的长度。
优选的,电源正极与支撑件固定连接,电源负极与支撑架转动连接。
优选的,电镀槽朝向支撑架安装的一侧设置有供气装置,供气装置的出气端通过软管伸入电镀槽内部;供气装置的进气端朝向支撑架设置。
优选的,托盘的水平高度低于电镀槽槽口5cm。
优选的,清洗池的内部设置有多个隔板,清洗池分割成若干个独立的隔间;任意一个隔间均设置有排水管。
优选的,伸缩装置沿着竖直方向上下伸缩。
本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果:本实用新型中,工件通过夹持部夹持,驱动装置的底部设置有安装架,驱动装置驱动安装架沿着滑动轨道滑动,从而带动工件运行,伸缩装置沿着竖直方向上下伸缩,使得工件能够浸入溶液中;电源正极通过导线与阳极座的接线柱连接,电源负极通过导线与夹持部连接;导线长度大于滑动轨道的长度;在电镀槽内进行电化学反应,使得工件的表面均匀镀铜;本实用新型中设置有过滤装置,过滤装置不停的过滤出液体中的杂质,杂质最终会从排污管中排出,保持电镀槽内的溶液的洁净度;此外本实用新型设置有第一喷流装置和第二喷流装置,第一喷流装置和第二喷流装置能够增强电镀槽和阳极座内的液体流速,使得工件表面镀铜更加均匀;而电镀槽朝向支撑架安装的一侧设置有供气装置,供气装置的出气端通过软管伸入电镀槽内部;供气装置朝向电镀槽内供气,保持电镀槽内氧气充足,便于进行电化学反应;供气装置的进气端朝向支撑架设置,进气的同时对支撑架上的供电部件进行降温散热,延长使用寿命;本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,确保生产出的产品均匀度在5um以下,厚径比可达到12:1的高质量的电镀线,大大节省了厂商的投资成本。
附图说明
图1为本实用新型提出的镀铜均匀度改善装置的结构示意图。
图2为本实用新型提出的镀铜均匀度改善装置的俯视结构示意图。
图3为本实用新型提出的镀铜均匀度改善装置中阳极座的结构示意图。
附图标记:1、托盘;2、滑动轨道;3、驱动装置;4、安装架;5、伸缩装置;6、夹持部;7、支架;8、电镀槽;9、底座;10、过滤装置;11、出液管;12、进液管;13、清洗池;14、隔板;15、支撑架;16、电源正极;17、第一喷流装置;18、电源负极;19、供气装置;20、阳极座;21、排污管;22、通孔;23、第二喷流装置;24、挂架;25、接线柱。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了,下面结合具体实施方式并参照附图,对本实用新型进一步详细说明。应该理解,这些描述只是示例性的,而并非要限制本实用新型的范围。此外,在以下说明中,省略了对公知结构和技术的描述,以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
如图1-3所示,本实用新型提出的一种镀铜均匀度改善装置,包括底座9、电镀槽8、清洗池13、滑动轨道2、驱动装置3、支撑架15和过滤装置10;
清洗池13与电镀槽8均设置在底座9上;清洗池13与电镀槽8平行设置;清洗池13与电镀槽8的两侧均设置有用于接收液体的托盘1;电镀槽8的内部设置有若干个阳极座20,阳极座20上设置有多个通孔22,便于液体流动,电化学反应更加充分;阳极座20的顶部设置有接线柱25;阳极座20的一侧设置有挂架24,挂架24上安装有第二喷流装置23,第二喷流装置23朝向阳极座20内部方向喷流;电镀槽8的外壁上设置有第一喷流装置17,第一喷流装置17朝向电镀槽8内部喷流;过滤装置10设置在电镀槽8的外壳上,过滤装置10沿着工件运动的方向设置有进液管12,过滤装置10沿着工件运动相反的方向设置有出液管11;进液管12和出液管11均伸入电镀槽8内部;过滤装置10上设置有排污管21;
支撑架15的两端分别于两侧的托盘1连接,且支撑架15位于清洗池13、电镀槽8之间;支撑架15与清洗池13、电镀槽8均为平行;支撑架15上安装有电源正极16和电源负极18;电源正极16通过导线与阳极座20的接线柱25连接;
滑动轨道2的底部设置有支架7,滑动轨道2呈环形设置在清洗池13与电镀槽8的上方;驱动装置3设置在滑动轨道2上,驱动装置3的底部设置有安装架4,驱动装置3驱动安装架4沿着滑动轨道2滑动;
在一个可选的实施例中,安装架4的底部设置有伸缩装置5,伸缩装置5的底部设置有用于夹持工件的夹持部6;电源负极18通过导线与夹持部6连接;导线长度大于滑动轨道2的长度,电源正极16与支撑件固定连接,电源负极18与支撑架15转动连接;驱动装置3带动安装架4运动的过程中,导线足够长,且电源负极18与安装架4转动连接,导线不会发生缠绕现象。
在一个可选的实施例中,电镀槽8朝向支撑架15安装的一侧设置有供气装置19,供气装置19的出气端通过软管伸入电镀槽8内部;供气装置19的进气端朝向支撑架15设置。
在一个可选的实施例中,托盘1的水平高度低于电镀槽8槽口5cm,托盘1距离槽口较低,被工件带出的溶液滴落在托盘1上,不会向外四溅。
在一个可选的实施例中,清洗池13的内部设置有多个隔板14,清洗池13分割成若干个独立的隔间;任意一个隔间均设置有排水管。
在一个可选的实施例中,伸缩装置5沿着竖直方向上下伸缩。
本实用新型中,工件通过夹持部6夹持,驱动装置3的底部设置有安装架4,驱动装置3驱动安装架4沿着滑动轨道2滑动,从而带动工件运行,伸缩装置5沿着竖直方向上下伸缩,使得工件能够浸入溶液中;电源正极16通过导线与阳极座20的接线柱25连接,电源负极18通过导线与夹持部6连接;导线长度大于滑动轨道2的长度;在电镀槽8内进行电化学反应,使得工件的表面均匀镀铜;本实用新型中设置有过滤装置10,过滤装置20不停的过滤出液体中的杂质,杂质最终会从排污管21中排出,保持电镀槽8内的溶液的洁净度;此外本实用新型设置有第一喷流装置17和第二喷流装置23,第一喷流装置17和第二喷流装置23能够增强电镀槽8和阳极座20内的液体流速,使得工件表面镀铜更加均匀;而电镀槽8朝向支撑架15安装的一侧设置有供气装置19,供气装置19的出气端通过软管伸入电镀槽8内部;供气装置朝向电镀槽8内供气,保持电镀槽8内氧气充足,便于进行电化学反应;供气装置19的进气端朝向支撑架15设置,进气的同时对支撑架15上的供电部件进行降温散热,延长使用寿命;本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,确保生产出的产品均匀度在5um以下,厚径比可达到12:1的高质量的电镀线,大大节省了厂商的投资成本。
应当理解的是,本实用新型的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理,而不构成对本实用新型的限制。因此,在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外,本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
Claims (7)
1.一种镀铜均匀度改善装置,其特征在于,包括底座(9)、电镀槽(8)、清洗池(13)、滑动轨道(2)、驱动装置(3)、支撑架(15)和过滤装置(10);
清洗池(13)与电镀槽(8)均设置在底座(9)上;清洗池(13)与电镀槽(8)平行设置;清洗池(13)与电镀槽(8)的两侧均设置有用于接收液体的托盘(1);电镀槽(8)的内部设置有若干个阳极座(20),阳极座(20)上设置有多个通孔(22);阳极座(20)的顶部设置有接线柱(25);阳极座(20)的一侧设置有挂架(24),挂架(24)上安装有第二喷流装置(23),第二喷流装置(23)朝向阳极座(20)内部方向喷流;电镀槽(8)的外壁上设置有第一喷流装置(17),第一喷流装置(17)朝向电镀槽(8)内部喷流;过滤装置(10)设置在电镀槽(8)的外壳上,过滤装置(10)沿着工件运动的方向设置有进液管(12),过滤装置(10)沿着工件运动相反的方向设置有出液管(11);进液管(12)和出液管(11)均伸入电镀槽(8)内部;过滤装置(10)上设置有排污管(21);
支撑架(15)的两端分别于两侧的托盘(1)连接,且支撑架(15)位于清洗池(13)、电镀槽(8)之间;支撑架(15)与清洗池(13)、电镀槽(8)均为平行;支撑架(15)上安装有电源正极(16)和电源负极(18);电源正极(16)通过导线与阳极座(20)的接线柱(25)连接;
滑动轨道(2)的底部设置有支架(7),滑动轨道(2)呈环形设置在清洗池(13)与电镀槽(8)的上方;驱动装置(3)设置在滑动轨道(2)上,驱动装置(3)的底部设置有安装架(4),驱动装置(3)驱动安装架(4)沿着滑动轨道(2)滑动。
2.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,安装架(4) 的底部设置有伸缩装置(5),伸缩装置(5)的底部设置有用于夹持工件的夹持部(6);电源负极(18)通过导线与夹持部(6)连接;导线长度大于滑动轨道(2)的长度。
3.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,电源正极(16)与支撑件固定连接,电源负极(18)与支撑架(15)转动连接。
4.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,电镀槽(8)朝向支撑架(15)安装的一侧设置有供气装置(19),供气装置(19)的出气端通过软管伸入电镀槽(8)内部;供气装置(19)的进气端朝向支撑架(15)设置。
5.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,托盘(1)的水平高度低于电镀槽(8)槽口5cm。
6.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,清洗池(13)的内部设置有多个隔板(14),清洗池(13)分割成若干个独立的隔间;任意一个隔间均设置有排水管。
7.根据权利要求1所述的镀铜均匀度改善装置,其特征在于,伸缩装置(5)沿着竖直方向上下伸缩。
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