CN210506094U - 一种ito透明导电玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种ITO透明导电玻璃,包括依次层叠的基层玻璃、第一高折射率层、第一低折射率层、ITO层、第二高折射率层、第二低折射率层；所述第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层的厚度可根据所述ITO层的厚度来调节；本实用新型涉及导电玻璃技术领域，ITO层两边都设有高低折射率层的组合方式能够减少光的反射提高透过率并减轻ITO层的颜色影响，提升视觉效果，具有很大的推广价值。
Description
技术领域
本实用新型涉及导电玻璃技术领域，具体的说涉及一种ITO透明导电玻璃。
背景技术
ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的，ITO导电玻璃广泛应用于液晶显示器和透明线路板，这种应用于液晶显示器和透明线路板的ITO导电玻璃电阻一般很小，小电阻的ITO厚度往往比较厚，使得ITO层透过率变低，屏幕亮度变低，严重影响显示效果。
目前，一般制作ITO导电玻璃的方法是在基层玻璃镀ITO之前镀上一层二氧化硅阻挡层，虽然二氧化硅阻挡层的透过率比较高，但是ITO层与二氧化硅阻挡层的透过率差别比较明显，所以这种工艺并不能解决上述小电阻ITO透过率低的问题。
实用新型内容
针对现有技术中的不足，本实用新型要解决的技术问题在于提供了一种小电阻ITO，仍然能达到比较高透过率的透明导电玻璃。
为解决上述技术问题，本实用新型通过以下方案来实现：一种ITO透明导电玻璃包括依次层叠的基层玻璃、第一高折射率层、第一低折射率层、ITO层、第二高折射率层、第二低折射率层。
进一步的，所述基层玻璃为普通透明玻璃，厚度为0.2～2mm。
进一步的，所述第一高折射率的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，层厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。
进一步的，所述第一低折射率层的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。
进一步的，所述ITO层为氧化铟锡膜，厚度为800Å～2700Å，所述ITO层的电阻小于10Ω。
进一步的，所述第二高折射率层的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。
进一步的，所述第二低折射率层的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。
进一步的，所述第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层的厚度可根据所述ITO层的厚度来调节。
相对于现有技术，本实用新型的有益效果在于：
1.ITO层设置于高低折射率层中间，可以根据ITO膜的厚度来调节高低折射率层的厚度，从而减少光射向玻璃产生的大量反射，保证ITO厚度在一定范围内有较高的透过率，这种方式对电阻小、厚度大的ITO膜提高透过率有明显的效果。
2.ITO层两边都设有高低折射率层，通过这种匹配组合方式可以减轻ITO层颜色的影响，折射光产生干涉作用，增加玻璃的透明度，增强视觉效果。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型另一种结构示意图。
附图中，1、基层玻璃，2、第一高折射率层，3、第一低折射率层，4、ITO层， 5、第二高折射率层，6、第二低折射率层。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
实施例1
参照附图1，本实用新型的一种ITO透明导电玻璃，包括依次层叠的基层玻璃1、第一高折射率层2、第一低折射率层3、ITO层4、第二高折射率层5、第二低折射率层6。
优选的，基层玻璃1为普通透明玻璃，厚度为1mm。
优选的，第一高折射率层2的材料为氧化铌，折射率为2.3，厚度为20nm；第一高折射率层2不仅可以阻挡基层玻璃中的金属离子流出，还可以调节光的干涉。
优选的，第一低折射率层3的材料为氟化镁, 折射率为1.38，厚度为30nm；第一低折射率层3用来调节光的干涉。
优选的，ITO层4为氧化铟锡膜，厚度为1000Å；ITO层有很强的导电能力。
优选的，第二高折射率层5材料为氧化铌，折射率为2.3，厚度为25nm；第二高折射率层5用来调节光的干涉。
优选的，第二低折射率层6的材料为氟化镁，折射率为1.38，厚度为30nm，第二低折射率层6用来调节光的干涉。
实施例2
参照附图1，本实用新型的一种ITO透明导电玻璃，包括依次层叠的基层玻璃1、第一高折射率层2、第一低折射率层3、ITO层4、第二高折射率层5、第二低折射率层6。
优选的，基层玻璃1为普通透明玻璃，厚度为2mm。
优选的，第一高折射率层2的材料为氧化钛，折射率为2.35，厚度为50nm；第一高折射率层2不仅可以阻挡基层玻璃中的金属离子流出，还可以调节光的干涉。
优选的，第一低折射率层3的材料为氟化钡，折射率为1.40，厚度为60nm；第一低折射率层3用来调节光的干涉。
优选的，ITO层4为氧化铟锡膜，厚度为1200Å；ITO层有很强的导电能力。
优选的，第二高折射率层5材料为氧化钛，折射率为2.35，厚度为55nm；第二高折射率层5用来调节光的干涉。
优选的，第二低折射率层6的材料为氟化钡，折射率为1.40，厚度为60nm，第二低折射率层6用来调节光的干涉。
上述优选实施例的ITO透明导电玻璃均通过以下步骤来制作：
S1：抛光清洗基层玻璃，干燥后放置于磁控溅射区域；
S2：真空镀第一高折射率层；
S3：真空镀第一低折射率层；
S4：真空镀ITO层；
S5：真空镀第二高折射率层；
S6：真空镀第二低折射率层。
以上S2～S4都采用磁控溅射的方式进行镀膜，本实用新型的的ITO透明导电玻璃性能稳定，ITO层两边都设有高低折射率层，可以根据ITO膜的厚度来调节高低折射率层的厚度，通过多层膜的干涉作用从而减少光射向玻璃产生的大量反射，保证ITO厚度在一定范围内有较高的透过率，对低电阻的ITO膜也有高透过率的效果。ITO膜两边都设有高低折射率层，还能够减轻ITO层的颜色影响，提升视觉效果。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种ITO透明导电玻璃，其特征在于：包括依次叠层的基层玻璃（1）、第一高折射率层（2）、第一低折射率层（3）、ITO层（4）、第二高折射率层（5）、第二低折射率层（6）。
2.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述基层玻璃（1）为普通透明玻璃，厚度为0.2～2mm。
3.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述第一高折射率层（2）的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。
4.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述第一低折射率层（3）的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。
5.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述ITO层（4）为氧化铟锡膜，厚度为800Å～2700Å，所述ITO层（4）的电阻小于10Ω。
6.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述第二高折射率层（5）的材料为氧化铌或氧化钛或氧化锆或氧化铪或氧化钽，厚度为10nm～150nm，折射率为2～2.7。
7.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述第二低折射率层（6）的材料为氟化镁或氟化镧或氟化钇或氟化钡，厚度为10nm～150nm，折射率为1.38～1.6。
8.根据权利要求1所述的ITO透明导电玻璃，其特征在于：所述第一高折射率层（2）、第一低折射率层（3）、第二高折射率层（5）、第二低折射率层（6）的厚度可根据所述ITO层（4）的厚度来调节。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201921401934.0U CN210506094U (zh) | 2019-08-27 | 2019-08-27 | 一种ito透明导电玻璃 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN210506094U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115857234A (zh) * | 2022-11-15 | 2023-03-28 | 佛山纳诺特科技有限公司 | 一种彩色调光膜及其制备方法 |
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2019
- 2019-08-27 CN CN201921401934.0U patent/CN210506094U/zh active Active
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