CN209702838U - 一种真空蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型揭示了提供一种真空蒸镀设备，该真空蒸镀设备包括蒸镀室，设置在蒸镀室内的支撑组件，扣合在所述支撑组件上的防污盖板，安装在防污盖板下方的挡板组件，及与挡板组件相连接的驱动组件，所述防污盖板上设置有开口。所述挡板组件与所述开口相匹配，所述挡板组件包括能够翻转并相互闭合的第一挡板及第二挡板；所述驱动组件与所述第一挡板及第二挡板传动连接，所述驱动组件能够驱动所述第一挡板与第二挡板翻转闭合，遮挡所述开口。该装置提高了生产效率和精度，节约了成产成本；减少了蒸发源平面的空间，有利于在同一台设备上布置更多的蒸发源；且该装置在使用过程中可控制挡板的关闭与开启速度。

Description

一种真空蒸镀设备

技术领域

本实用新型涉及一种真空蒸镀设备，属于蒸镀设备技术领域。

背景技术

目前OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，大有取代传统液晶屏的趋势。真空镀膜设备作为OLED产业链的上游产业，每年都有大量的市场需求。国内的真空镀膜设备相比国外结构原理较为简单，机构运用也较少。真空镀膜设备的设计提出可有效增强国内设备的合理性与机械性能，该设备在使用过程中不但提高了生产效率，也提高了产品同进口设备的竞争力。

在OLED进行蒸镀生产时，为了提高生产效率与精度，节约材料成本，在连续蒸镀或蒸镀结束时均需要对蒸发源进行遮挡以防止材料的进一步蒸镀而影响膜厚的准确性。现有技术普遍采用以下三种解决方案：

1、使用磁流体在基片盘下方通过对称旋转的方式对蒸发源进行遮挡；

2、使用电机通过旋转叶片的方式对蒸发源进行遮挡；

3、使用气缸带动金属片旋转升降的方式对蒸发源进行遮挡。

以上几种方式在使用过程中，其挡板占用平面面积大，工作效率低下，精度不够精准，因此研究一种可提高精度和能控制挡板开启与关闭速度的真空蒸镀设备构就成为亟待解决的问题。

发明内容

本实用新型的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题，提出一种真空蒸镀设备。

本实用新型的目的将通过以下技术方案得以实现：一种真空蒸镀设备，包括蒸镀室，设置在蒸镀室内的支撑组件，扣合在所述支撑组件上的防污盖板，安装在防污盖板下方的挡板组件，及与挡板组件相连接的驱动组件，所述防污盖板上设置有开口；所述挡板组件与所述开口相匹配，所述挡板组件包括能够相互配合封闭所述开口的第一挡板及第二挡板；所述驱动组件与所述第一挡板及第二挡板传动连接，所述驱动组件能够驱动所述第一挡板与第二挡板翻转闭合，遮挡所述开口。

优选地，所述支撑组件包括固定设置在蒸镀室内壁上的多个支撑块，及固定设置在支撑块上的防污折弯板，所述防污折弯板与所述蒸镀室的内侧壁密封贴合。

优选地，所述挡板组件还包括分别与所述第一挡板及第二挡板的一端固定连接的第一转轴和第二转轴，所述第一转轴及第二转轴转动设置在所述支撑块上，所述驱动组件分别与所述第一转轴和第二转轴传动连接。

优选地，所述第一挡板与第二挡板镜像对称设置，所述驱动组件包括分别与第一转轴及第二转轴传动连接的两个驱动结构。

优选地，所述驱动结构包括设置在蒸镀室外部的连杆组件及气缸，两个驱动结构的所述连杆组件分别将气缸伸缩杆的直线运动转化成第一转轴及第二转轴的旋转运动。

优选地，所述驱动结构还包括磁流体密封件，两个所述驱动结构的连杆组件分别通过磁流体密封件与所述第一转轴及第二转轴连接，所述磁流体密封件贯穿设置在蒸镀室的腔壁上。

优选地，所述支撑组件还包括固定设置在所述支撑块上的多个轴套，所述第一转轴及第二转轴的两端转动设置在所述轴套内。

优选地，所述第一挡板与所述第二挡板的对接处具有相互匹配的台阶状结构，使所述第一挡板与所述第二挡板对接后能够闭合挡板间的缝隙。

本实用新型技术方案的优点主要体现在：该装置减少了蒸发源平面的空间，有利于在同一台设备上布置更多的蒸发源。该装置提高了生产效率和精度，节约了生产成本，适合在产业上推广使用。

附图说明

图1是本实用新型的真空蒸镀设备的立体示意图。

图2是本实用新型的真空蒸镀设备的结构分解示意图。

图3是本实用新型的第一挡板与第二挡板的结构示意图。

图4是本实用新型的第一挡板与第二挡板的结构示意图。

图5是本实用新型的真空蒸镀设备内部结构示意图。

图6是本实用新型的图5中A处的局部放大示意图。

具体实施方式

本实用新型的目的、优点和特点，将通过下面优选实施例的非限制性说明进行图示和解释。这些实施例仅是应用本实用新型技术方案的典型范例，凡采取等同替换或者等效变换而形成的技术方案，均落在本实用新型要求保护的范围之内。

本实用新型揭示了一种真空蒸镀设备，如图1和图2所示，该真空蒸镀设备包括蒸镀室，设置在蒸镀室内的支撑组件10，扣合在所述支撑组件上的防污盖板20，安装在防污盖板下方的挡板组件30，及与挡板组件相连接的驱动组件40。

如图1和图2所示，所述防污盖板上设置有开口21，所述挡板组件30与所述开口21相匹配，所述挡板组件30包括相互配合封闭所述开口的第一挡板31及第二挡板32。如图3所示，在本技术方案中，所述第一挡板31与第二挡板32镜像对称设置，第一挡板31与第二挡板32闭合后的形状与防污盖板的开口形状相匹配。所述驱动组件40与所述第一挡板31及第二挡板32传动连接，所述驱动组件40能够驱动所述第一挡板31与第二挡板32翻转闭合，遮挡所述开口21，所述第一挡板31和第二挡板32向下开合，所述第一挡板31和第二挡板32的开合角度为0°～90°。

具体地，如图3及图4所示，所述第一挡板31与所述第二挡板32的对接处具有相互匹配的台阶状结构，所述第一挡板31与第二挡板32闭合时，所述第一挡板31与所述第二挡板32上的台阶状结构能够相互重叠配合，使得所述第一挡板31与所述第二挡板32对接后能够闭合第一挡板31与第二挡板32之间的缝隙。本实施例中，当所述第一挡板31与第二挡板32闭合时，第一挡板31先关闭，然后第二挡板32再关闭，使得所述第二挡板32上的台阶结构与第一挡板31上的台阶状结构对接匹配。

可选的，如图4所示，所述台阶状结构为相互匹配的连续凹凸结构，进一步保证了所述第一挡板31与所述第二挡板32对接处的密封性。

如图2所示，所述支撑组件10包括固定设置在蒸镀室内侧壁上的多个支撑块11，及固定设置在支撑块11上的多个防污折弯板，所述防污折弯板与所述蒸镀室的内侧壁密封贴合，防止蒸发物从内侧壁与防污折弯板的缝隙进入上层空间，影响膜厚的准确性。在本技术方案中，所述蒸镀室优选为长方体形，所述防污折弯板包括分别与所述蒸镀室四个侧壁贴合的第一防污折弯板12、第二防污折弯板13、第三防污折弯板14和第四防污折弯板15，所述第一防污折弯板12、第二防污折弯板13、第三防污折弯板14和第四防污折弯板15的设置可保证挡板以外空间的密闭性，从而保证上方基片盘与下方蒸发源的隔绝。

如图5所示，所述挡板组件30还包括分别与所述第一挡板31及第二挡板32的一端固定连接的两个转轴，两个所述转轴分别为第一转轴33和第二转轴34，所述第一转轴33及第二转轴34转动设置在所述支撑块11上，各支撑块对称设置于蒸镀室内壁的四个角。

如图6所示，所述驱动组件40包括分别与第一转轴33及第二转轴34传动连接的两个驱动结构。所述驱动结构包括设置在蒸镀室外部的连杆组件411及气缸412，驱动结构的所述连杆组件将气缸伸缩杆的直线运动转化成所述转轴的旋转运动。所述驱动结构还包括磁流体密封件413，所述连杆组件411通过磁流体密封件413穿过蒸镀室的腔壁与所述转轴连接。所述连杆组件411包括两个相互铰接的第一连杆和第二连杆，所述第一连杆远离第二连杆的一端与气缸伸缩杆铰接，所述第二连杆远离第一连杆的一端通过磁流体密封件与所述转轴连接。进一步地，所述转轴的一端设置有联轴器414，所述转轴与磁流体密封件413之间通过联轴器414连接。

所述支撑组件还包括固定设置在所述支撑块上的多个轴套35，所述第一转轴33及第二转轴34的两端转动设置在所述轴套35内。

工作时，气缸工作带动连杆组件运动，将直线运动转换为圆周运动，从而带动第一转轴33及第二转轴34旋转，实现第一挡板31与第二挡板32的翻转闭合，遮盖防污盖板20的开口，对蒸发源进行遮挡，实现蒸镀室内部蒸发源上方空间的开启与关闭，保证上方基片盘与下方蒸发源的隔绝。气缸412及连杆组件411设置在蒸镀室外部，不占用蒸镀室内部的体积，同时利用磁流体密封件实现转轴的传动，保证内部气密性；进一步地，通过控制所述气缸的工作速度即可控制所述挡板组件的闭合及开启速度。

本实用新型利用翻转结构的挡板组件遮挡蒸发源，减少了平面的空间，有利于在同一台设备上布置更多的蒸发源，提高了生产效率和精度，节约了生产成本，适合在产业上推广使用。

本实用新型尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种真空蒸镀设备，其特征在于：包括蒸镀室，设置在蒸镀室内的支撑组件（10），扣合在所述支撑组件上的防污盖板（20），安装在防污盖板下方的挡板组件（30），及与挡板组件相连接的驱动组件（40），所述防污盖板上设置有开口（21）；所述挡板组件（30）与所述开口（21）相匹配，所述挡板组件（30）包括能够相互配合封闭所述开口的第一挡板（31）及第二挡板（32）；所述驱动组件（40）与所述第一挡板（31）及第二挡板（32）传动连接，所述驱动组件（40）能够驱动所述第一挡板（31）与第二挡板（32）翻转闭合，遮挡所述开口（21）。

2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述支撑组件（10）包括固定设置在蒸镀室内壁上的多个支撑块（11），及固定设置在支撑块上的防污折弯板，所述防污折弯板与所述蒸镀室的内侧壁密封贴合。

3.根据权利要求2所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述挡板组件（30）还包括分别与所述第一挡板（31）及第二挡板（32）的一端固定连接的第一转轴（33）和第二转轴（34），所述第一转轴（33）及第二转轴（34）转动设置在所述支撑块（11）上，所述驱动组件（40）分别与所述第一转轴（33）和第二转轴（34）传动连接。

4.根据权利要求3所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述第一挡板（31）与第二挡板（32）镜像对称设置，所述驱动组件（40）包括分别与第一转轴（33）及第二转轴（34）传动连接的两个驱动结构。

5.根据权利要求4所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述驱动结构包括设置在蒸镀室外部的连杆组件（411）及气缸（412），两个驱动结构的所述连杆组件（411）分别将气缸伸缩杆的直线运动转化成第一转轴（33）及第二转轴（34）的旋转运动。

6.根据权利要求4所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述驱动结构还包括磁流体密封件（413），两个所述驱动结构的连杆组件（411）分别通过磁流体密封件（413）与所述第一转轴（33）及第二转轴（34）连接，所述磁流体密封件（413）贯穿设置在蒸镀室的腔壁上。

7.根据权利要求3所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述支撑组件还包括固定设置在所述支撑块上的多个轴套（35），所述第一转轴（33）及第二转轴（34）的两端转动设置在所述轴套（35）内。

8.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于：所述第一挡板（31）与所述第二挡板（32）的对接处具有相互匹配的台阶状结构，使所述第一挡板（31）与所述第二挡板（32）对接后能够闭合挡板间的缝隙。