CN209566498U - 具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的3d打印机 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的3D打印机，其具有涂覆器(30)和涂覆器清洁装置(50)。涂覆器(30)具有容器(32)和用于排出颗粒状构造材料的排出区域(36)，所述容器(32)限定用于容纳颗粒状构造材料的内部中空空间(34)，并且所述涂覆器(30)可移动到清洁位置，在清洁位置处，所述涂覆器(30)布置在涂覆器清洁装置(50)上方。涂覆器清洁装置(50)包括用于擦拭排出区域(36)的擦拭构件(52)，所述擦拭构件由吸收性的材料制成，所述吸收性的材料被配置成在材料内部容纳液体清洁剂。

Description

具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的3D打印机
技术领域
本实用新型涉及具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的3D打印机。例如，本实用新型涉及一种3D打印机，所述3D打印机具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置。例如由DE 102009 056 687 A1已知该种类型的3D打印机。
背景技术
已知各种增材制造工艺(以及因此各种类型的3D打印机，即用于构建层中的部件的机器/装置)。
一些增材制造工艺有以下共同的步骤：
(1)首先，在构建区域(Baufeld)的整个表面上施加颗粒状材料，以便形成一层未固化的颗粒状材料。
(2)施加的未固化的颗粒状材料层选择性地在预定的部分区域中固化，例如通过选择性地打印处理剂，例如粘合剂(可替选地，例如，通过激光烧结)。
(3)重复步骤(1)和(2)，以制造所需部件。为此目的，在将新层施加在整个表面上之前，在其上以多层方式构建组件的构建平台例如可以分别降低一个层厚(可替选地，涂覆装置和打印装置例如可以分别升高一个层厚)。
(4)最后，可以拆开由松散的、未固化的颗粒状材料支撑和包围的制造部件。
在其中制造一个或多个部件的构建空间例如可以由所谓的构建箱(也称为“作业箱”)限定。这种类型的构建箱可以具有周向壁结构，该周向壁结构在向上方向上开口并且在竖直方向上延伸(例如由四个竖直侧壁形成)，例如，当从该上方观察时，该周向壁结构可以形成为矩形。高度可调节的构建平台可以容纳在构建箱中。在这方面，构建平台上方和竖直周向壁结构之间的空间例如可以至少有助于形成构建空间。例如，构建空间的上部区域可以称为构建区域。例如，在DE 10 2009 056 696 A1中描述了这种构建箱的示例。
涂覆装置(也称为“涂覆器”)通常用于上述步骤(1)中。已知用于3D打印机的各种涂覆装置，借助于该涂覆装置，颗粒状构造材料可以在整个表面上以均匀层的形式施加到构建区域(也称为构建表面或构建区)。
一种类型的涂覆装置使用辊(简称为“辊式涂覆装置”)，首先，在其前面放下一定量的颗粒状构造材料，然后，其被水平移动穿过构建区域，可以将颗粒状构造材料以均匀层的形式施加到构建区域。在这方面，辊可以与移动方向相反地旋转。尤其由于辊的可能的偏转，使用辊式涂覆装置难以实现具有较大长度的涂覆装置布置(以及因此具有大尺寸的3D打印机)。
另一种涂覆装置(所谓的“容器涂覆装置”，例如“狭缝涂覆装置”)使用容器，该容器限定用于容纳颗粒状构造材料的内腔，并且具有输出区域(例如，细长的输出区域)，例如包括(细长的)输出狭槽，用于输出颗粒状构造材料。例如，容器涂覆装置可以在构建区域上移位(例如水平地，例如横向于纵向方向)，使得颗粒状构造材料可以通过(细长的)输出区域输出到构建区域上，从而在构建区域的整个表面上施加均匀的构造材料层。涂覆装置可以是细长的，例如跨越或覆盖矩形构建区域的长度或宽度。使用容器涂覆装置，可以很好地实现具有大长度的涂覆装置(以及因此具有大尺寸的3D打印机)。
在上述步骤(2)中，例如可以使用具有打印头的打印装置，该打印装置以受控的方式将处理剂施加到之前施加的构造材料层的分区上。处理剂有助于分区中的构造材料层的(直接和/或稍后)固化。例如，处理剂可以是/含有粘合剂，例如多组分粘合剂的粘合剂组分。
可替选地，例如，可以在上述步骤(2)中使用激光来固化先前施加的构造材料层的分区，例如通过烧结或熔化分区中的构造材料。
本实用新型涉及一种3D打印机，其具有上述后一种类型的涂覆装置，简称：“容器涂覆装置”，例如“狭槽装置”。
这种涂覆装置例如可以设置有刮抹/清扫构件，通过该刮抹/清扫构件，施加到构建区域的构造材料被刮抹，从而压紧和/或平整构造材料。刮抹/清扫构件可以布置在输出狭槽附近和/或可以限定输出狭槽，并且可以与输出狭槽一起形成涂覆装置容器的所谓输出区域。
从DE 10 2009 056 689 A1已知了“狭槽涂覆装置”的实例。其中参见例如图 17至20。
从WO 2016/030417A1和WO 2016/030375A2中已知“狭槽涂覆装置”的另一实例，它们都描述了所谓的双向涂覆装置。参见例如WO 2016/030417 A1的图2、4、5、6、7。
此外，已知为3D打印机提供涂覆装置的清洁装置，借助于该涂覆装置的清洁装置，可以去除和/或擦拭粘附到容器下侧的构造材料，和/或通过该涂覆装置的清洁装置，如果需要，可以擦拭容器的纵向狭槽，以便释放障碍物。参见DE 10 2009 056 687 A1；其中，例如，参见图21、24和25。
由DE 10 2009 056 687 A1已知的涂覆装置的清洁装置包括细长的擦拭构件，该擦拭构件至少部分地容纳在涂覆装置容器下方的构造材料收集容器中。擦拭构件可旋转地支撑并且可以通过擦拭构件驱动机构可旋转地驱动。
实用新型内容
可以认为，本实用新型的目的是提供3D打印机，可以不断地保证要制造的组成部件的令人满意的质量，例如也可以保证大尺寸的3D打印机和/或用于以自动模式操作的3D打印机/涂覆装置(其中许多施工作业在没有操作员干预的情况下进行)和/或用于多种构造材料混合物和/或粘合剂***。
根据本实用新型的各个方面，可以提供一种具有涂覆装置和这种涂覆装置的清洁装置的3D打印机，通过该3D打印机可以实现和/或可以容易地实现和/ 或成本有效地实现改善/良好的清洁效果，例如对于长的涂覆装置和/或长尺寸的3D打印机，和/或以防故障且有效方式可靠地清洁涂覆装置，例如即使后者被牢固的粘合剂/沉积物污染也是如此，所述粘合剂/沉积物例如可以由化学反应产生和/或牢固地粘附在输出区域上。
根据本实用新型的多个方面，3D打印机设置有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置。涂覆装置具有容器，该容器限定用于容纳颗粒状构造材料的内腔，并且涂覆装置具有用于输出颗粒状构造材料的输出区域(例如，细长的输出区域)，并且其可以移动到清洁位置，在清洁位置处，其被布置在涂覆装置的清洁装置(及其擦拭构件，分别地)上方。涂覆装置的清洁装置包括用于擦拭输出区域的擦拭构件，该擦拭构件由吸收性的材料制成，该吸收性的材料被配置成自身吸收液体清洁剂。
由此，液体清洁剂(例如溶剂)可以被容纳在擦拭构件中，并且可以储存在其中以用于例如以限定或设定的量稍后/后续擦拭输出区域，使得输出区域 (例如，与涂覆装置的输出狭槽相邻布置的刮抹/清扫构件的刮抹表面)可以通过使用蘸有清洁剂的擦拭构件擦拭来清洁，从而可以有效地去除非常牢固的粘附/沉积物。
涂覆装置上的沉积物例如可以在施加湿粉末材料时发生，例如与液体粘合剂组分(例如液体催化剂)预混合的砂子。这些沉积物例如可以在所谓的刮抹 /擦拭叶片上出现，即在刮抹/清扫构件上出现。这种污染物可能会干扰/影响涂层工艺的质量，甚至可能导致制造工艺停止。污染物可随涂层长度和层数而增加。特别是在大型3D打印机和/或自动操作中：其中许多施工作业在没有操作员干预的情况下重复执行，这可能导致问题并且在施工作业停止的时间点时降低施工质量。如今，已知用于粉末施加装置的各种清洁单元；参见上文讨论的现有技术文献。这种类型的装置可以安全地清除松散的沉积物；然而，在施工工作期间形成的牢固和持久的粘附物(例如由于化学反应)更难以清洁。例如，这种类型的污染物可能是以下的结果：所谓的涂覆装置中/上的活化剂的蒸发或结晶，涂覆装置中/上的活化剂与已打印的粘合剂组分的蒸汽的非预期反应，旋涂和预先打印的粘合剂组分与活化剂一起粘附到涂覆装置的粘附物等。
根据本实用新型，可以使用适当的溶剂去除牢固和持久的污染物，所述溶剂通过吸收性擦拭构件输送到待清洁的输出区域。另外，去除的污染物(即溶解在其中的溶剂和污垢)可以可靠地容纳在吸收性擦拭构件中，从而可以可靠地去除污垢。
在这方面，擦拭构件例如可以由吸收性的、多孔的海绵或吸收性的纺织材料制成，例如吸收性无纺布或吸收性布。多孔的海绵(例如开孔型多孔的海绵) 例如可以由海绵橡胶制成，例如由天然橡胶制成，并且例如可以具有160至600 kg/m3的体积重量，例如大于或等于400kg/m3。擦拭构件例如可以以所谓的垫或清洁垫的形式提供。擦拭构件例如可以包括多个层(例如两个层)。擦拭构件例如可以包括用于擦拭输出区域的第一层(例如上/最上层)和连接(例如粘合)到第一层以支撑第一层的第二层。例如，第一层可以被配置成吸收液体清洁剂和溶解的污染物本身。例如，第二层可以被配置为本身不吸收任何清洁液体和/或提供用于将第一层按压到输出区域的接触压力。例如，第一层可以是开孔式/开放式。第一层例如可以由任何一种上述材料制成。例如，第二层可以是闭孔式/闭合式，例如以不吸收任何液体的方式。第二层例如可以由弹性泡沫制成。例如，第二层可以连接(例如粘合)到支撑板上。支撑板例如可以附接(例如，可移除地)到支撑结构(下面说明)。即使在实践中证明其使用多层结构的价值，本实用新型也可以使用单层擦拭构件进行。
例如，3D打印机可以被配置为执行最初描述的增材制造方法，该方法至少步骤(1)至(3)。
涂覆装置可以移动到的清洁位置和涂覆装置的清洁装置例如可以分别布置在构建区域附近。
涂覆装置的清洁装置例如可以被配置成静止的，即固定的。
例如，3D打印机可以包括如最初描述的构建空间，在构建空间中制造一个或多个组件，并且例如构建空间由所谓的构建箱(也被称为“工作箱”)限定。这种类型的构建箱可以具有周向壁结构，该周向壁结构在向上方向上开口，并且在竖直方向上延伸(例如由四个竖直侧壁形成)，例如，当从上方观看时，该周向壁结构可以形成为矩形。高度可调节的构建平台可以容纳在构建箱中。在这方面，构建平台上方和竖直周向壁结构之间的空间例如可以至少有助于形成构建空间。例如，构建空间的上部区域可以被称为构建区域。
例如，3D打印机可以包括具有打印头的打印装置，该打印头被配置为以受控的方式将处理剂施加到先前施加的构造材料层的部分区域上。在这方面，处理剂可有助于分区中的构造材料层的(直接和/或随后)固化。例如，处理剂可以是/包括粘合剂，例如多组分粘合剂的粘合剂组分。另外或可替选地，3D 打印机例如可以包括激光装置，该激光装置被配置为固化先前施加的构造材料层的分区，例如通过烧结或熔化分区中的构造材料。
涂覆装置(或“再涂覆器”)被配置成所谓的“容器涂覆装置”，例如“狭槽涂覆装置”(即具有排放狭槽)。例如，容器涂覆装置可以在构建区域中移动(例如水平地，例如横向于其纵向方向)，使得颗粒状构造材料可以通过(例如细长的)输出区域输出到构建区域上，因此，在构建区域的整个表面上施加均匀的构造材料层。涂覆装置可以是细长的，以便经过或覆盖例如矩形构建区域的长度或宽度。
例如，容器可以具有细长形状，以便经过或覆盖例如矩形构建区域的整个长度或整个宽度。容器的内腔例如可以形成轴/管道，该轴/管道的横截面例如在向下方向上(至少部分地)逐渐锥化和/或具有漏斗形状。用于容纳颗粒状构造材料的内腔例如可以通向(例如细长的)输出区域(例如(细长的)输出狭槽)，并且可以分别连接到该输出区域。
3D打印机例如可以包括固定的填充站，涂覆装置可以移动到该填充站中，以便用(新鲜的)构造材料填充容器。
例如，容器可以通过与其一起行进的装料容器供应构造材料。
用于分配构造材料的分配装置例如可以容纳在可选的装料容器和/或容器例如以分配蜗杆的形式。
根据各种实施例，擦拭构件例如可以从清洁装置的清洁位置移动到擦拭构件的清洁位置并回到原来的位置，在清洁装置的清洁位置处，擦拭构件调整为擦拭输出区域，在擦拭构件的清洁位置处，擦拭构件调整为清洁擦拭构件本身。由此，可以清洁擦拭构件本身，从而可以可靠地清洁涂覆装置。另外，擦拭构件可以用清洁剂(例如关于用过的粘合剂***的溶剂，用于选择性地固化相应的颗粒状材料层的颗粒状材料)渗透，以便随后清洁涂覆装置。涂覆装置的清洁位置例如可以竖直地位于擦拭构件的清洁位置上方。擦拭构件例如可以在涂覆装置的清洁位置向上定向，并且可以在擦拭构件的清洁位置向下定向。
根据各种实施例，涂覆装置的清洁装置例如可以包括清洁站，该清洁站被配置成当擦拭构件位于在其擦拭构件的清洁位置时，用液体清洁剂清洁擦拭构件并渗透擦拭构件。
根据各种实施例，清洁站例如可以包括液体清洁剂的清洁缸。清洁缸可以提供适量的清洁剂，用于清洁和渗透擦拭构件。在可行的实施例中，擦拭构件例如可以直接穿过清洁缸或者可以至少部分地(其下侧)浸入其中，以便由此实现擦拭构件的清洁和渗透。在这种情况下，可以(大致)通过清洁缸中的静止时间设定清洁和渗透的程度或量，这对于许多应用可能是足够的，以便始终确保待制造的组件的令人满意的质量。除了清洁缸之外或作为清洁缸的替代，例如可以提供一个或多个喷嘴，其用清洁剂“喷洗”在其清洁位置的擦拭构件，从而实现清洁和渗透擦拭构件。
清洁站例如可以包括液位传感器，通过该液位传感器可以确定清洁缸的液位，和/或可以包括传感器，通过该传感器，可以确定清洁缸的污染程度(通过擦拭构件转移到清洁缸中的，溶解的污垢和/或悬浮其中的污垢)。由此，可以实现擦拭构件的适当清洁和渗透，并且因此最终可以实现涂覆装置的适当清洁。
根据各种实施例，清洁站例如还可以包括擦拭构件清洁和清洁剂输送装置(Wischelementeinigungs-und-Reinigungsmittelübertragungs-Vorichtung)，其被配置成当擦拭构件位于其擦拭构件的清洁位置时，将清洁剂从清洁缸输送到擦拭构件，并清洁(例如剥离/擦拭)擦拭构件。擦拭构件清洁和清洁剂输送装置例如可以包括可旋转的辊(例如可旋转驱动的辊)，或由其形成，或者由其构成，所述辊具有吸收性的材料(例如海绵辊)，吸收性的材料被配置为本身吸收液体清洁剂。因此，一方面，可以改善对擦拭构件的清洁效果，另一方面，可以更好的方式控制擦拭构件中/由擦拭构件容纳的清洁剂的量，以确保擦拭构件中可再现的水分含量，并提高工艺稳定性。在这方面，显而易见的是，在各种应用中，如果擦拭构件太潮湿，则存在以下风险：湿气移动到涂覆装置的输出狭槽中和/或保留在涂覆装置上(例如在刮抹构件/剥离构件或所谓的“刮板部”，例如在输出区域的刮抹表面上)以及待施加的颗粒状材料凝集，这最终影响待制造的部件的质量。另一方面，如果擦拭构件太干，则在各种应用中存在清洁效果不充分的风险。另外，在各种应用中保持擦拭构件始终清洁可能是重要的，以便实现持续的清洁效果，以便确保待制造的部件的恒定质量。例如，可旋转辊可以在与擦拭构件的移动相反的方向上旋转，以便清洁擦拭构件。当擦拭构件处于其清洁位置时，可旋转辊例如可以布置在清洁缸和擦拭构件之间(例如，在竖直方向上)，并且例如可以浸入在清洁缸中并且在清洁缸的下部中，并且接触擦拭构件的上部，以实现擦拭构件的机械清洁或剥离，并将污垢从擦拭构件转移到辊上，然后从辊转移到清洁缸。
根据各种实施例，清洁站例如可以包括清洁剂的量调节装置，该清洁剂的量调节装置被配置为调节(例如限制)由擦拭构件清洁和清洁剂输送装置从清洁缸输送到擦拭构件的清洁剂的量。例如，通过将液体从可旋转辊的吸收性的材料中挤出。由此，甚至以更好的方式，也可以控制在擦拭构件的清洁位置的、在擦拭构件中/由擦拭构件容纳的清洁剂的量。清洁剂的量调节装置例如可以包括另一辊或者由另一辊形成或者由其构成。另一辊例如可以接触可旋转辊，另一辊的接触压力例如可变地调节，例如从而取决于应用(例如取决于颗粒状材料和/或使用的粘合剂***)，可以设置适当的接触压力。另一辊例如能够通过在与可旋转辊相反的方向上的旋转运动来驱动。
根据各种实施例，擦拭构件例如可以进一步移动到擦拭构件的调节位置，该擦拭构件的调节位置位于涂覆装置的清洁位置和擦拭构件的清洁位置之间，并且在擦拭构件的调节位置，容纳在擦拭构件中的清洁剂的量是可调节的(例如，决定性地和/或细微地)。由此，在擦拭构件(再次)移动到其涂覆装置的清洁位置之前，可以将擦拭构件中/由擦拭构件容纳的清洁剂的残余量调节到适于清洁涂覆装置的值。因此，可以有效地确保要制造的部件的令人满意的质量，因为一方面防止了凝集，另一方面，可以确保适当的清洁。
根据各种实施例，涂覆装置的清洁装置例如可以进一步包括调节站，该调节站被配置成例如当擦拭构件处于其擦拭构件的调节位置时，通过流体流将清洁剂带出/排出、和/或通过热驱出清洁剂和/或通过机械驱出清洁剂以将在擦拭构件中容纳的清洁剂从擦拭构件驱出，来调节、例如减少，在擦拭构件中容纳的清洁剂的量。
根据各种实施例，调节站例如可以包括剥离和/或挤压装置和/或可以挤压擦拭构件的辊，其中擦拭构件可以被剥离和/或清洁剂可以被挤出擦拭构件，用于将容纳在擦拭构件中的清洁剂的一部分从擦拭构件排出，其中，剥离和/或挤压装置例如可以布置在清洁缸上方，或者可以其他方式与清洁缸流体连通，从而剥离的和/或从擦拭构件挤出的清洁剂可以返回到清洁缸中。例如，剥离和/ 或挤压装置可包括辊或由辊形成或由辊组成，例如加压辊。可替选地或另外地，例如可以提供剥离刮板。
根据各种实施例，调节站例如可以包括流体流供应装置，该流体流供应装置被配置成将流体流(例如气体流，例如空气流)引导到擦拭构件上(或者更确切地说将流体流“吹”到后者上)，以通过流体流，将容纳在擦拭构件中的清洁剂的一部分从擦拭构件排出，其中流体流供应装置例如可以进一步被配置成设定气流的温度。例如，流体流供应装置可以与剥离和/或挤压装置一起提供，例如在剥离和/或挤压装置后面或者在其下游、并且在擦拭构件的移动方向上。然而，也可以仅提供流体流供应装置和剥离和/或挤压装置中的一个。通过各种应用中的流体流供应装置可以实现擦拭构件中残余量的清洁剂的精细/精确/适当的调节。流体流供应装置例如可以包括送风机和/或风扇，可选的流体引导结构(例如，以一个或多个偏转板的形式等)以及可选的加热装置。
调节站和清洁站例如可以一体成型和/或可以容纳在共同的壳体中。
根据各种实施例，3D打印机例如还可以包括传感器装置，通过该传感器装置，可以确定在擦拭构件中容纳的清洁剂的量。传感器装置例如可以包括一个或多个电容传感器和/或一个或多个电解传感器和/或一个或多个电阻传感器。传感器装置例如可以被配置成当擦拭构件位于从擦拭构件的调节位置选择的下列位置中的一个位置或多个位置或每一个位置时，确定擦拭构件中容纳的清洁剂的量，例如在流体流供应装置的流动路径，涂覆装置的清洁位置和擦拭构件的清洁位置。在这种情况下，还可以将传感器安装在擦拭构件本身中。例如，可以通过传感器装置确定是否适合用清洁剂进行对擦拭构件的(例如另一) 渗透，或者是否适合从擦拭构件去除(例如更多)清洁剂，或是否适合不进行任何上述动作(例如，因为已经实现了擦拭构件的目标水分/目标清洁剂的量)。因此，在擦拭构件(再次)移动到其涂覆装置的倾斜位置之前，可以以特别精确的方式将容纳在擦拭构件中/由擦拭构件容纳的清洁剂的量调节到适于清洁涂覆装置的值。因此，可以确保要制造的部件的令人满意的质量，因为一方面，可以防止凝集，另一方面，可以确保适当的清洁。
根据各种实施例，3D打印机例如还可以包括控制器，该控制器连接到传感器装置，并且可以被配置为基于从传感器装置接收的值来提示调节擦拭构件中的清洁剂的残余量，其表示在擦拭构件中容纳的清洁剂的量(例如，将擦拭构件干燥到残留水分和/或清洁剂的残留量)，这例如通过驱动/控制调节站，例如流体流供应装置和/或其剥离和/或挤压装置，和/或驱动/控制擦拭构件的驱动装置，和/或驱动/控制清洁站，为此目的，控制器还可以连接到调节站，例如，流体流供应装置和/或其剥离和/或挤压装置，和/或用于擦拭构件的驱动装置和 /或清洁站。例如，控制器可以根据使用的构造材料和/或粘合剂***和/或清洁剂和/或吸收性的材料的类型和/或涂覆装置的清洁间隔和/或涂覆装置的污染程度，设定擦拭构件中的清洁剂的残留量，出于该原因，例如，对应的图或表可以存储在控制器中。
例如，可以通过控制器来控制是否和/或何时清洁涂覆装置。例如，在将特定数量的颗粒状材料层施加到构建区域之后和/或在先前施加的层的选择性固化期间(例如通过打印装置)，可以考虑进行清洁。控制器例如可以以由软件控制的方式执行(整个)清洁过程。根据各种实施例，3D打印机例如可以包括传感器(“污染传感器”)，所述传感器检测涂覆装置的输出区域(例如光学地)的污染和/或堵塞，例如包括一定程度的污染和/或堵塞。在这种情况下，控制器例如可以被配置为基于传感器的信号提示清洁涂覆装置，和/或根据污染程度选择和执行相应的运动模式(见下文)。
根据各种实施例，例如可以提供控制器/控制单元(例如，上述控制器，其连接到传感器)，其被配置为根据不同的擦拭构件运动模式来控制驱动装置(例如其电动马达)。换句话说，各种运动模式可以存储在控制器中。第一运动模式例如可以包括/包含擦拭构件一直在一个方向上的运动。根据第二运动模式，擦拭构件例如可以交替地向左和向右移动。此外，例如，两个运动模式的不同之处在于，擦拭构件以不同的速度移动。提供不同的运动模式使得可以以有效的方式分别执行适当的清洁。例如，控制器可以根据所使用的构造材料和/或所使用的污染程度和/或所使用的溶剂和/或清洁间隔(即，两次连续清洁之间的时间延迟)来选择相应的运动模式。
根据各种实施例，涂覆装置的清洁装置例如可以还包括用于移动擦拭构件的驱动装置，该驱动装置被配置成当涂覆装置位于涂覆装置的清洁装置上方时，相对于输出区域移动擦拭构件，以对其进行清洁(例如，以直线运动方式 /沿直线)，和/或在涂覆装置的清洁位置和擦拭构件的清洁位置之间移动擦拭构件，以及可选地，在擦拭构件的调节位置之间。
驱动装置例如可以包括马达(例如电动马达)，其例如连接到控制器，例如上述控制器。根据各种实施例，驱动装置例如可以包括(例如细长的)承载结构(例如以带或者条的形式)，其例如可以由马达驱动，并且擦拭构件可被附接其上。例如，驱动装置可以进一步包括两个或多个偏转装置(例如以(带) 皮带轮和/或辊的形式)，(细长的)承载结构围绕该偏转装置缠绕/铺设/引导，使得通过驱动至少一个偏转装置(例如通过电动马达)，承载结构和由此的擦拭构件可相对于涂覆装置移动。例如，带或条的第一部分可以基本上在其纵向方向上以(略微)距离延伸到输出区域，和/或可以布置在输出区域的竖直下方和/或可以以直线配置，和/或可以平行于输出区域延伸和/或可以在输出区域和第二部分之间的高度方向上布置，其也可以形成为直线和/或可以平行于输出区域和/或第一路径部分延伸。
根据各种实施例，擦拭构件例如可以通过快速紧固件、例如可释放地附接到承载结构。因此，根据例如溶剂和/或粘合剂体系和/或颗粒状材料，可以将适当的擦拭构件附接到承载结构。另外，可以快速更换/替换磨损的擦拭构件，而无需更换/替换承载结构。
根据各种实施例，驱动装置例如可以被配置成将擦拭构件移动到降低位置，在该降低位置避免与涂覆装置的碰撞，其中擦拭构件例如在擦拭构件的清洁位置和/或擦拭构件的调节位置处，位于降低位置，而其在涂覆装置的清洁位置处，例如布置在升高位置。换句话说，擦拭构件可以被配置成可在高度方向上移动，其中，擦拭构件例如在涂覆装置的清洁位置处，布置成比在降低位置更高的位置处。因此，可以实现3D打印机的紧凑配置，因为涂覆装置的清洁装置可以布置在构建区域附近，或者可以在构建区域附近移动，而不影响涂覆装置的通常操作(例如，涂覆装置在第一次清洁和第二次清洁之间行进期间)。换句话说，因此，可以移动涂覆装置，而不会在经过清洁装置时有任何碰撞。
根据各种实施例，驱动装置例如可以被配置为：当涂覆装置位于涂覆装置的清洁装置上方时，或者当擦拭构件位于其涂覆装置的清洁位置时，移动擦拭构件，以沿着输出区域对输出区域进行清洁。这意味着即使涂覆装置位于涂覆装置的清洁装置上方，擦拭构件可借助于驱动装置移动，以沿着输出区域对输出区域进行清洁(即，基本上沿输出区域的纵向方向和/或基本上沿(输出区域的)长度，例如基本上沿着输出区域的整个长度或其一部分，该部分例如大于或等于整个长度的一半，例如大于或等于整个长度的3/4，例如大于或等于整个长度的5/6)。由此，除了在最初提到的现有技术中的输出区域被旋转擦拭构件在横向方向上擦拭之外，擦拭构件在纵向方向上擦拭输出区域。根据各种实施例，在纵向方向上擦拭输出区域(例如，至少一个刮抹表面)可以导致对其有效和/或高效地清洁，例如，与最初提到的传统清洁装置相比改善了清洁效果，和/或具有通过驱动装置克服了阻力，该阻力与最初提到的传统清洁装置相比减小了。根据各种实施例，同样，分别对于长的涂覆装置和长的输出区域，沿纵向擦拭输出区域(例如输出狭槽和/或至少一个刮抹表面)可以帮助以简单且成本有效的方式实现对其进行适当的清洁。在这方面，根据本实用新型的各个方面，例如，可以省去传统清洁装置所需的细长(例如辊形)擦拭构件，和/或可以减少擦拭构件的长度，并且，考虑到可以减小要克服的阻力，擦拭构件的驱动装置可以被配置成不那么牢固。例如，驱动装置可以被配置为沿着输出区域、沿直线/以直线方式移动擦拭构件。换句话说，擦拭构件可以沿着输出区域的纵向方向、以直线运动、沿输出区域通过/擦拭输出区域，以便清洁输出区域。
根据各种实施例，驱动装置例如可以被配置为当涂覆装置在涂覆装置的清洁位置时，沿着循环路径(例如，闭合路径/轨迹，例如包括两个直线部分和两个弯曲部分，例如半圆形部分)移动擦拭构件，其用第一路径部分沿输出区域延伸出(即，基本上沿其纵向方向和/或基本上沿着(输出区域的)长度，例如，基本上沿着其整个长度或沿着其基本部分)。根据该实施例，擦拭构件因此不会绕其自身的旋转轴进行任何适当的旋转运动，而是围绕外部点循环。第一路径部分例如可以以直线配置和/或可以平行于输出区域延伸或者在输出区域处/ 在输出区域中延伸。沿着循环路径移动擦拭构件是在此期间将擦拭构件移动到上述降低位置的可行方式。在这方面，循环路径例如可以包括第二路径部分，该第二路径部分竖直地布置在第一路径部分下方并且在输出区域的竖直下方；在这方面，第二路径部分也例如可以被配置成直线，和/或可以平行于第一路径部分延伸。当擦拭构件位于第二路径部分时，它例如可以向下定向，即避开输出区域，而当擦拭构件位于第一路径部分时，它向上定向。
根据各种实施例，输出区域例如可以包括细长的输出狭槽和/或至少一个 (例如一个或两个)细长的刮抹表面(例如由刮抹构件或刮抹刮板形成)，该细长刮抹表面被配置成刮抹从容器输出的构造材料，从而使输出构造材料平整和/或压紧输出构造材料，其中，例如，擦拭构件可以擦拭至少一个细长的刮抹表面。例如，总共两个刮抹表面可以沿横向设置在输出狭槽的不同侧上。擦拭构件例如可以在宽度方向上具有延伸部，该延伸部横向于输出狭槽/刮抹表面的纵向方向延伸，该延伸部大于或等于细长的刮抹表面的延伸部，该延伸部还大于或等于输出区域的延伸部。所述至少一个刮抹表面例如可以由刮抹构件提供，所述刮抹构件例如可以以所谓的刮抹杆/带和/或刮抹叶片的形式提供，例如通过沿向下方向定向的刮抹构件的一部分，所述刮抹构件例如可以向下突出 /伸出，例如以阶梯方式突出/伸出。例如，(相应的)刮抹表面可以被配置为平面和/或带的形状。一个或多个刮抹表面和刮抹构件可以分别例如布置在输出狭槽附近，和/或可以限定输出狭槽，例如每一者在横向方向上布置。例如，输出狭槽可以分别在两个刮抹表面和刮抹构件之间沿横向布置。因此，涂覆装置可以形成和/或操作为双向涂覆装置，位于行进方向后方的刮抹表面分别是活动的。在这方面，至少相应的活动刮抹表面(例如，整个涂覆装置)例如可以倾斜，以调节刮抹表面相对于构建区域的所谓的设定角度，从而调节颗粒状材料的压紧程度。一个或多个刮抹构件例如可以固定到涂覆装置的承载结构和/或悬挂在涂覆装置的承载结构上，一个或多个刮抹构件例如与可选的闭合装置一起，用于选择性地闭合输出狭槽。所述承载结构例如可以横向于涂覆装置的运动方向和/或在涂覆装置的纵向方向上延伸。容器也可以固定到承载结构，例如与可选的至少一个刮抹构件和/或可选的闭合装置分开。
例如，(细长的)输出区域和/或(细长的)输出狭槽和/或一个或多个(细长的)刮抹表面可以指向下，例如朝向构建区域。(细长的)输出区域和/或(细长的)输出狭槽和/或一个或多个(细长的)(有效的)刮抹表面可以具有在纵向方向上的第一延伸部和沿横向方向上的第二延伸部，第一延伸部比第二延伸部大例如至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、 18、19、20或更多倍。例如，当从上方观察时，(细长的)输出区域和/或(细长的)输出狭槽和/或相应的刮抹表面可以基本上具有矩形形状和/或带的形状。
根据各种实施例，涂覆装置的清洁装置例如可以包括多个擦拭构件，这些擦拭构件例如可以一起移动到相应的降低位置，以避免与涂覆装置的碰撞。这可以进行有效的清洁。
根据各种实施例，3D打印机例如还可以包括被配置为检测擦拭构件的位置的传感器(例如位置传感器)和/或被配置为检测清洁缸的填充水平的传感器。例如，对于前一传感器，传感器要检测的靶标可以附接到擦拭构件本身，和/ 或可以由擦拭构件形成，和/或可以附接到上述承载结构，和/或可以由上述承载结构组成。相应的传感器例如可以连接到控制器，例如连接到上述控制器。例如，控制器可以被配置为根据从位置传感器接收的位置信号来控制驱动装置 (例如，其电动马达)。因此，例如可以确保以可靠的方式并且根据需要进行清洁，和/或在清洁之后将擦拭构件布置在上述降低位置。
根据各种实施例，3D打印机例如可以还包括具有打印头的打印装置。可替选地或另外地，3D打印机例如可以包括激光装置。
根据本实用新型的各个方面，提供了一种用于清洁3D打印机的涂覆装置的方法，该涂覆装置包括容器，该容器限定用于容纳颗粒状构造材料的内腔，并且该涂覆装置具有用于输出颗粒状构造材料的输出区域，其中，该方法包括：
将涂覆装置移动到清洁位置，在清洁位置处，涂覆装置(例如竖直地)布置在涂覆装置的清洁装置上方，所述涂覆装置的清洁装置包括擦拭构件，所述擦拭构件由吸收性的材料制成，所述吸收性的材料被配置成自身吸收液体清洁剂，以及
在擦拭构件被液体清洁剂润湿(例如，渗透和/或浸透)的状态下，擦拭构件擦拭输出区域。
以上关于3D打印机提供的信息应类似地适用于清洁3D打印机的涂覆装置的方法。
根据各种实施例，用于清洁3D打印机的涂覆装置的方法例如可以进一步包括：
将擦拭构件移动到清洁站，并用清洁站中的清洁剂清洁擦拭构件，和/或渗透擦拭构件，和/或
将擦拭构件移动到调节站，例如在将擦拭构件移动到清洁站之后和/或在使用擦拭构件擦拭输出区域之前，例如取决于使用的构造材料和/或粘合剂***和 /或清洁剂，例如，将清洁剂从擦拭构件中驱出，这是通过以流体流将清洁剂带出/排出、和/或通过热驱出清洁剂和/或通过机械驱出清洁剂，和/或
例如使用传感器，例如在将擦拭构件移动到清洁站之后和/或在使用擦拭构件擦拭输出区域之前，确定擦拭构件中容纳的清洁剂的量，和/或
在使用擦拭构件擦拭输出区域之后，将擦拭构件移动到降低位置，以避免与涂覆装置碰撞，和/或
一旦擦拭构件磨损或为了适应于所使用的构造材料和/或粘合剂***和/或清洁剂，则用另一擦拭构件替换擦拭构件。
根据各种实施例，在用于清洁3D打印机的涂覆装置的方法中，例如，
输出区域可以具有细长形状，并且使用擦拭构件擦拭输出区域可以基本上在输出区域的纵向方向上进行，和/或
移动擦拭构件可以在闭合轨迹上进行，和/或
清洁涂覆装置的方法可以以软件可控的方式进行(例如，除了可行的更换擦拭构件的方法之外的整个方法)。
除此之外，以上针对3D打印机提供的信息类似地适用于该方法。
此外，以下内容适用于该方法以及一个或多个3D打印机：
本申请含义内的颗粒状构造材料可以理解为包含至少一种颗粒状材料(例如(砂的(粒)，例如铸造砂，和/或金属颗粒和/或合成材料的颗粒)的构造材料。几种不同类型的颗粒状材料也可以包括在构造材料中，例如新砂和再生砂的混合物，或细砂和粗砂的混合物，或两种不同类型的砂的混合物。此外，构造材料可包含至少一种液体组分，例如粘合剂组分，例如活化剂，和/或一种或多种固体和/或液体添加剂。在构造材料含有粘合剂组分的情况下，可以通过打印装置选择性地将另一种粘合剂组分(如呋喃树脂)打印到预先施加的构造材料层上，以使该层在预定区域中固化。取决于待制造的部件，例如铸模或铸造型芯，可以使用为此目的专门制备的构造材料组合物。在这方面，构造材料组合物可以由所用组分的数量以及相应类型和构造材料(混合物)中所含组分的各自份额来定义。在这方面，构造材料的滴流或流动行为以及化学诱导粘附到涂覆装置的反应性或风险可以根据构造材料的组成而显著变化。相应地，污染的暂时出现和/或污染程度，以及因此必要的清洁可根据所用构造材料的组成而变化。
根据各种实施例，涂覆装置例如可以设置有振动器，通过该振动器，容纳在内腔中的颗粒状材料可以被振动以影响(例如，支持)颗粒构造材料或从输出区域排出的颗粒状构造材料的流动或滴流行为。这种类型的振动器例如可以由振动器形成，借助于该振动器，容器的至少一个壁部分振动或遭受摇动，以影响颗粒状构造材料的排出。根据各种实施例，还可以使用振动器适当地振动具有差的滴流或流动行为的颗粒状构造材料，和/或可以将容纳构造材料的容器的壁部遭受使用振动器的适当的摇动。
根据各种实施例，涂覆装置例如可以在容器内部设置迷宫结构，其可以防止构造材料在涂覆装置静止时流出/逸出，和/或具有能够选择性地闭合输出区域(例如，输出狭槽)的闭合装置，并且包括例如附接到涂覆装置的闭合构件。
附图说明
附图中示出了本实用新型的示例性但非限制性实施例，并在下文中详细描述。
图1和图2示出了根据本实用新型的实施例的3D打印机的涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的侧视图，在图1中省略了涂覆装置的清洁装置的部分。
图3示出了根据图1和图2所示实施例的涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的横截面图，擦拭构件布置在其涂覆装置的清洁位置。
具体实施例
在下面的详细描述中，参考并入本文中的附图，并且其中通过图示的方式示出了具体实施例，根据这些实施例可以执行本实用新型。在这方面，参考所述图中的方向，使用了术语“上”、“下”、“前”、“后”等。由于实施例的组件可以定位在许多不同的方向上，因此，指示不同方向的术语用于说明而不以任何方式限制。
应当理解，在不脱离本实用新型的保护范围的情况下，可以使用其他实施例并且可以进行结构或逻辑上的改变。不言而喻，除非另有说明，否则这里描述的各种示例性实施例的特征可以进行组合。因此，以下详细描述不应被理解为限制性的，并且本实用新型的保护范围应由所附权利要求限定。
在本说明书中，术语诸如“连接”、“附接”和“联结”可用于描述直接和间接连接、直接或间接附接以及直接或间接接合。
在附图中，相同或相似的构件在适当的情况下提供有相同的附图标记。
图1和图2示出了涂覆装置30的简化侧视图，为了清洁其输出区域36，该涂覆装置30移动到清洁位置，在该清洁位置，涂覆装置30竖直地布置在涂覆装置的清洁装置50上方；在这方面，为了清楚起见，在图1中省略了涂覆装置的清洁装置50的部分(例如，驱动装置的电动马达、各种传感器、和控制器，它们都在图2中示出)。涂覆装置30和涂覆装置的清洁装置50形成3D 打印机10的一部分，并且清洁位置例如可以位于3D打印机10的构建区域附近，该构建区域未示出。
如本文所示，涂覆装置30包括容器32，容器32限定用于容纳颗粒状构造材料的内腔34(参看图3)。此外，这里所示的涂覆装置30具有输出区域36，用于将颗粒状构造材料输出到构建区域上。输出区域36例如可以是细长的。
这里所示的涂覆装置30和本文所示的容器32每一者例如可以具有细长形状，即具有在纵向方向L上的延伸部，其延伸部大于在横向方向Q上的延伸部(也参见图3)。这同样适用于输出区域36，输出区域36也可以在纵向方向 L上具有延伸部，该延伸部大于在横向方向Q上的延伸部。例如，图1和图2 中的输出区域36可以基本上在容器32的整个长度上延伸。
这里示出的涂覆装置的清洁装置50包括擦拭构件52。涂覆装置的清洁装置50例如可以包括用于移动擦拭构件52的可选驱动装置54(例如使用电动马达)。例如，擦拭构件例如可以可释放地固定到驱动装置54的承载结构56。承载结构56例如可以以无端带的形式配置。擦拭构件52由吸收性的材料制成，吸收性的材料被配置成自身吸收液体清洁剂。这里，作为示例示出了擦拭构件 52，其被配置成方形吸收性的、多孔的海绵(也参见图3)。然而，擦拭构件的形状和材料不限于此。擦拭构件例如可以具有辊或棱镜的形状。此外，擦拭构件例如可以是吸收性无纺布。涂覆装置的清洁装置50例如还可以包括更多这种类型的擦拭构件52，其例如以规则间距沿着承载结构的一部分固定到承载结构56上/布置在承载结构56上。擦拭构件52例如可以通过快速紧固件(未示出)固定到承载结构56。
由于擦拭构件52由适于自身吸收液体清洁剂的吸收性的材料制成的事实，特别是先前吸收的清洁剂正在使用时，可以有效且高效地清洁涂覆装置30的输出区域36。
驱动装置54例如可以被配置成当涂覆装置30处于涂覆装置的清洁位置时，沿着循环路径移动用于清洁输出区域36的擦拭构件52，该循环路径用第一路径部分沿着输出区域36延伸，因此，擦拭输出区域36可以基本上在输出区域36的纵向方向上进行。第一路径部分例如可以形成为线性的。例如，第二路径部分例如可以延伸到第一路径部分下方，第二路径部分例如也可以形成为线性的。
另外，驱动装置54例如可以被配置成使擦拭构件52在涂覆装置的清洁位置、擦拭构件的清洁位置和擦拭构件的调节位置之间往复运动(见下文)。
驱动装置54例如还可以包括第一盘和第二盘或偏转滑轮58、60，其中一个能够例如通过电动马达驱动，以移动承载结构56，从而移动擦拭构件52。
图1中所示的擦拭构件52位于位置A，位置A对应于擦拭构件的清洁位置。在擦拭构件的清洁位置处，擦拭构件52例如可以用液体清洁剂清洁和渗透。擦拭构件的清洁位置不一定必须对应于单个位置A，而是可以对应于清洁构件被液体清洁剂清洁和渗入的多个位置。
例如，擦拭构件的清洁位置的特征可在于，擦拭构件位于清洁站70上/清洁站70中，通过清洁站70，擦拭构件用液体清洁剂清洁并渗入。为此目的，清洁站例如可以包括清洁缸72和擦拭构件清洁和清洁剂输送装置74，擦拭构件清洁和清洁剂输送装置74例如可以被配置为可旋转的辊76。可旋转的辊76 的弯曲表面区域例如可以由与擦拭构件52相同的吸收性的材料制成。清洁缸 72例如可以包含有机溶剂或表面活性剂的水溶液。
可旋转辊76例如可以以可旋转辊76的弯曲表面区域的一部分位于清洁缸 72中或浸入清洁缸中的方式布置，使得辊76的壳体可以吸收来自清洁缸72 的清洁剂。辊76的旋转轴线和由清洁缸72的液面形成的平面例如可以是平行的。辊76的弯曲表面区域的、与辊76的弯曲表面区域的所述一部分相对的部分例如可以接触擦拭构件52或者例如可以触摸擦拭构件52，使得当辊旋转 180°时，壳体可以将先前吸收的清洁剂传递给擦拭构件52。
辊76例如可以通过驱动器84(例如通过电动马达)驱动。例如，辊76 可以能够通过两个旋转方向上的旋转运动来驱动。例如，辊76可以通过在与擦拭构件52的运动方向相反的方向上的旋转运动来驱动。即，当图1和图2 中的擦拭构件52分别沿着一个方向从位置A移动到位置B处，辊可以优选地顺时针旋转。
为了用清洁剂清洁擦拭构件52并用清洁剂渗透擦拭构件52，擦拭构件52 的用于清洁输出区域36的一侧例如可以在辊76上移动；在这种情况下，辊76 例如可以沿与擦拭构件52的运动方向相反的方向移动。因此，擦拭构件52的表面可以通过摩擦机械地清洁，并且新的清洁剂可以从清洁缸72输送到擦拭构件/输送在擦拭构件中。另外，辊76可以通过清洁缸72的清洁剂清洁。根据擦拭构件52的污染程度，擦拭构件52例如可以在辊76上往复运动若干次。为此目的，驱动装置54例如可以配置成使得承载结构56在两个方向上移动。
另外，3D打印机例如可以包括传感器82，传感器82被配置为检测清洁缸72的填充水平。清洁缸的填充水平有助于例如确定辊76的弯曲的表面区域是否浸入到清洁缸72中。因此，通过辊76可以确保擦拭构件52的清洁和清洁剂输送到擦拭构件52/输送在擦拭构件52中，或者用清洁剂渗透擦拭构件。
为了避免擦拭构件52被清洁剂过度渗透，清洁站70例如可以包括清洁剂的量调节装置78。该装置例如可以以辊80的形式提供，例如，其旋转轴可以平行于辊76的旋转轴线布置，并且其例如可以接触或触摸可旋转辊76，使得一部分液体可以再次被挤出可旋转辊76的吸收性的材料。例如，辊80可以是可旋转的(例如，在与辊76相反的方向上)，并且例如可以布置成使得两个辊 76和80的接触点或触摸点位于可旋转辊76的弯曲表面区域浸入清洁缸中的位置，以及辊76的弯曲表面区域触摸擦拭构件52的位置之间。辊80例如可以以这样的方式配置：辊80的旋转轴可以前后移位，或者在辊76的旋转轴的方向上调节。由此，可以设定辊80相对于辊76的接触压力，从而可以控制挤压出辊76的清洁剂的量。
涂覆装置的清洁装置50例如还可以包括调节站90，该调节站90可以被配置成调节在擦拭构件52中吸收的残余清洁剂的量。为此目的，擦拭构件52在擦拭构件的清洁位置通过清洁剂清洁并渗入清洁剂之后，例如可以移动到其擦拭构件的调节位置。位置B和C示出了擦拭构件的调节位置的两个选定位置。即，擦拭构件的调节位置可以由多个位置形成，这些位置将在下面更详细地说明。
待容纳在擦拭构件52中的(残留)量的清洁剂例如可以根据使用的构造材料和/或粘合剂***和/或清洁剂和/或污染程度和/或清洁程度等而变化，并且例如可以通过控制器来设置。
通常，可以通过擦拭构件52中吸收的清洁剂来实现对涂覆装置30或其输出区域36的清洁。因此，其中太少量的清洁剂被吸收的擦拭构件52的清洁效果可能是不够的。然而，当涂覆装置30或其输出区域36被擦拭时，太大量的清洁剂可能导致清洁剂的一部分粘附到涂覆装置或其输出区域36，这可能导致由涂覆装置输出的构造材料凝集。因此，可优选设定容纳在擦拭构件52中的清洁剂的所需量。
接着，调节站90例如可以包括剥离和/或挤压装置92，其中擦拭构件52 可以被剥离和/或清洁剂可以被挤出擦拭构件52，以从擦拭构件排出容纳在擦拭构件中的清洁剂的一部分。剥离和/或挤压装置92例如可以是辊94，其例如是可旋转的。例如，辊94可以以当擦拭构件移过辊94时(图1和2中的位置 B)，辊94接触擦拭构件52的方式布置，使得擦拭构件中吸收的清洁剂的一部分从擦拭构件挤出。辊94例如可以布置在清洁缸72上方，使得从辊上剥离/ 挤出的清洁剂可以返回到清洁缸72中。
例如，调节站90还可以包括流体流供应装置96，其可以被配置为将流体流引导到擦拭构件52上，以通过流体流，将擦拭构件52中吸收的清洁剂的一部分从擦拭构件52排出。例如，擦拭构件52可以首先在辊94上被剥离/挤出，然后可以通过流体流供应装置96进一步处理，直到在擦拭构件52中容纳/存在所需量的清洁剂。为此目的，擦拭构件52例如可以移动到图示的位置C，并且可以通过流体流进行处理。流体流供应装置96例如可以包括流体流温度调节装置(未示出)，以设定流体流的温度。流体流的温度例如可以设定在25℃至200℃之间。
为了确定擦拭构件52中容纳的清洁剂的量，3D打印机10例如还可以包括具有一个或多个传感器112的传感器装置110，传感器装置110可以被配置为确定在该擦拭构件52中容纳的清洁剂的量。例如，电容传感器、电解传感器或电阻传感器可以用作传感器112。如图2所示，传感器112例如可以位于擦拭构件的调节站中。传感器112例如可以以当流体流供应装置96处理擦拭构件时扫描擦拭构件52的方式布置。由此，可以向擦拭构件52供应流体流，直到实现擦拭构件中容纳期望量的清洁剂。可替选地或另外，传感器例如可以集成在擦拭构件52中。可替选地或另外，传感器例如也可以布置成跟随流体流供应装置96或者在流体流供应装置96之后，即，在图1和图2中的流体流供应装置96的左手侧。此外，可替选地或另外，传感器例如可以布置在涂覆装置的清洁站70上/中。
例如，3D打印机可以进一步包括控制器C，控制器C例如分别连接到传感器装置110和传感器112、驱动装置54、调节站90、流体流供应装置96、驱动器84和/或传感器82。例如，控制器可以被配置为基于从传感器112接收的值来提示调节擦拭构件52中的残余量的清洁剂，其表示容纳在擦拭构件52 中的清洁剂的量。为此目的，控制器例如可以通过驱动/控制驱动装置54来执行擦拭构件在位置A、B和C之间的移动。例如，当在位置C的传感器检测到残余量太低时，擦拭构件52可以再次移动到辊76上，以便再次用清洁剂渗透到擦拭构件52上。可替选地，控制器C例如可以在擦拭构件位于位置C并且检测到擦拭构件包括优选的残余量的清洁剂时停止流体流。例如，优选的是，擦拭构件首先用足量的清洁剂渗透，然后，以不需要另一次渗透的方式进行调节。
涂覆装置的清洁装置50例如还可以包括传感器170，传感器170被配置成检测承载结构56的循环位置，并因此检测擦拭构件52的位置。为此，可以布置传感器目标172在承载结构56上或者使得传感器目标172附接到承载结构 56。可替选地或者另外，擦拭构件54本身例如可以包括这种类型的传感器目标172。
这里所示的涂覆装置的清洁装置50例如还可以包括可选的壳体130，清洁站70和调节站90分别容纳和布置在壳体130中。在这种情况下，可选的固定装置150例如可以连接到壳体上或者可以布置在壳体上，以便将壳体或清洁站 70和调节站90固定在期望的位置。
如图3所示，输出区域36例如可以包括细长的输出狭槽40和/或至少一个细长的刮抹表面，该刮抹表面可以被配置成刮抹从容器32输出的构造材料，从而使得输出构造材料平整和/或压紧输出构造材料。涂覆装置30例如可以被配置成双向涂覆装置，其能够在两个方向上将层施加到构建区域上(即，在跨越构建区域的向左和向右行进和/或在去程期间和返程期间)，为此，涂覆装置可以设置有两个细长的刮抹表面，这里可以由两个条形的刮抹构件38a和38b 形成，或者更确切地说由它们各自的下侧形成。例如，两个刮抹构件38a，38b可以沿涂覆装置的横向方向(涂覆装置可以在该横向方向上水平移动穿过构建区域)在输出狭槽40的相对侧上布置，并且可以在横向方向上对其进行限定。应该理解的是，涂覆装置例如也可以被配置成单向涂覆装置，其具有例如仅一个刮抹表面和/或一个刮抹构件。例如，也可以实现涂覆装置，而不需要刮抹表面/刮抹构件。
如图3进一步所示，擦拭构件52例如可以在输出区域36的横向方向上完全地覆盖输出区域36，即，输出狭槽40和两个刮抹表面都可以由面向构建区域的相应的刮抹构件38a，38b的下侧形成。
图1和图2尤其示出了处于降低位置的状态或位置A，其中擦拭构件另外沿向下方向定向，以通过清洁剂清洁处于清洁站处的擦拭构件，并且渗透擦拭构件。图3示出了擦拭构件处于升高位置并且向上定向(参见图1和图2中的状态或位置D)以清洁输出区域的状态。
在3D打印机10的正常操作中，擦拭构件可以移动到任何降低位置并且可以沿向下方向定向，使得涂覆装置30可以移动到清洁位置并且越过清洁位置而不发生碰撞。如果要清洁涂覆装置30或其输出区域36，则可将其移动到清洁装置50上方的位置并且可以使得其停止。然后，(例如通过控制器C)可以打开驱动器54或者可以旋转/移动两个盘/偏转滑轮58,60中的一个，擦拭构件 52从其降低位置向上移动，擦拭构件52中容纳有适当量的清洁剂，或者擦拭构件52渗入适量的清洁剂。通过擦拭构件52或承载结构56相对于涂覆装置的适当运动模式可以实现期望的清洁效果。例如，当擦拭构件处于向上定向的升高位置D时，承载结构56可以一直在一个方向上移动，或者承载结构56 可以交替地向左和向右移动。在已经充分清洁输出区域36之后，擦拭构件可以再次向下移动，以使擦拭构件52能够被清洁并且被供应新的清洁剂，并且使得涂覆装置30能够移动穿过清洁位置而不发生碰撞。在涂覆装置的清洁过程中，也可以使用擦拭构件的新清洁剂进行中间清洁和渗透。
已经出于说明和描述的目的呈现了本实用新型的示例性的具体实施例的先前描述。其并非旨在穷举或将本实用新型限制于所公开的确切形式，并且应理解，根据上文公开的教导，可以进行各种修改和变型。已经选择和描述了示例性实施例，以解释本实用新型的某些原理及其实际应用，从而使得本领域技术人员能够制造和使用本实用新型的各种示例性实施例以及其各种替换和修改。本实用新型的保护范围旨在由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (23)

1.一种具有涂覆装置和涂覆装置的清洁装置的3D打印机(10)，其具有涂覆装置(30)和涂覆装置的清洁装置(50)，其特征在于，
所述涂覆装置(30)包括容器(32)和输出区域(36)，所述容器(32)限定用于容纳颗粒状构造材料的内腔(34)，所述输出区域(36)用于输出所述颗粒状构造材料，并且所述涂覆装置(30)能够移动到清洁位置，在所述清洁位置处，所述涂覆装置(30)位于所述涂覆装置的清洁装置(50)上方，
所述涂覆装置的清洁装置(50)包括用于擦拭所述输出区域(36)的、由吸收性的材料制成的擦拭构件(52)，所述吸收性的材料被配置成自身吸收液体清洁剂。
2.根据权利要求1所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述擦拭构件(52)由吸收性的、多孔的海绵或吸收性的纺织材料制成。
3.根据权利要求1或2所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述擦拭构件(52)能够从清洁装置的清洁位置移动到擦拭构件的清洁位置并且能够返回到所述清洁装置的清洁位置，在所述清洁装置的清洁位置处，所述擦拭构件(52)调整为擦拭所述输出区域(36)，在所述擦拭构件的清洁位置处，所述擦拭构件(52)调整为清洁所述擦拭构件(52)本身。
4.根据权利要求3所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述涂覆装置的清洁装置(50)包括清洁站(70)，所述清洁站被配置成当所述擦拭构件(52)位于其擦拭构件的清洁位置时，用液体清洁剂清洁所述擦拭构件(52)并渗透所述擦拭构件(52)。
5.根据权利要求4所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述清洁站(70)包括所述液体清洁剂的清洁缸(72)。
6.根据权利要求5所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述清洁站(70)包括擦拭构件清洁和清洁剂输送装置(74)，其被配置成当所述擦拭构件(52)位于其擦拭构件的清洁位置时，将清洁剂从所述清洁缸(72)输送到所述擦拭构件(52)，并且清洁所述擦拭构件(52)，其中，所述擦拭构件清洁和清洁剂输送装置(74)包括具有吸收性的材料的、可旋转的辊(76)，所述辊(76)被配置成自身吸收液体清洁剂。
7.根据权利要求6所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述清洁站(70)包括清洁剂的量调节装置(78)，所述清洁剂的量调节装置(78)被配置为，通过将液体从可旋转滚筒的吸收性的材料中挤出，来调节由所述擦拭构件清洁和清洁剂输送装置(74)从所述清洁缸(72)输送到擦拭构件(52)的清洁剂的量。
8.根据权利要求5所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述擦拭构件(52)还能够移动到所述擦拭构件的调节位置，所述擦拭构件的调节位置位于所述涂覆装置的清洁位置和所述擦拭构件的清洁位置之间，并且其中容纳在所述擦拭构件(52)中的清洁剂的量是能够调节的。
9.根据权利要求8所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述涂覆装置的清洁装置(50)包括调节站(90)，所述调节站(90)被配置成当所述擦拭构件(52)处于其擦拭构件的调节位置时，通过流体流将清洁剂带出/排出和/或通过热驱出清洁剂和/或通过机械驱出清洁剂以将在所述擦拭构件(52)中容纳的清洁剂从所述擦拭构件(52)驱出，来调节在所述擦拭构件(52)中容纳的清洁剂的量。
10.根据权利要求9所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述调节站(90)包括剥离和/或挤压装置(92)和/或辊(94)，其中，所述擦拭构件(52)能够被剥离和/或清洁剂能够从所述擦拭构件(52)被挤出，以便将容纳在所述擦拭构件(52)中的清洁剂的一部分从所述擦拭构件(52)中排出，其中所述剥离和/或挤压装置(92)被布置在所述清洁缸(72)上方与清洁缸(72)流体连通，使得从所述擦拭构件(52)剥离和/或挤出的清洁剂能够返回到所述清洁缸(72)，所述擦拭构件(52)能够被所述辊(94)挤压。
11.根据权利要求9或10所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述调节站(90)包括流体流供应装置(96)，所述流体流供应装置(96)被配置成将流体流引导到所述擦拭构件(52)上，以通过流体流将容纳在所述擦拭构件(52)中的清洁剂的一部分从所述擦拭构件(52)排出，其中，所述流体流供应装置(96)还被配置为设定气体流的温度。
12.根据权利要求9所述的3D打印机(10)，其特征在于，还包括传感器装置(110)，通过所述传感器装置(110)能够确定在所述擦拭构件(52)中容纳的清洁剂的量，其中，所述传感器装置(110)包括一个或多个电容传感器(112)和/或一个或多个电解传感器(112)和/或一个或多个电阻传感器(112)，其中，所述传感器装置(110)被配置为当所述擦拭构件(52)位于选自所述擦拭构件的调节位置的以下位置中的一个或多个位置或每一位置时，确定所述擦拭构件(52)中容纳的清洁剂的量，所述调节位置的以下位置为在流体流供应装置(96)的流动路径中的位置、涂覆装置的清洁位置和擦拭构件的清洁位置。
13.根据权利要求12所述的3D打印机(10)，其特征在于，还包括控制器(C)，所述控制器(C)连接到所述传感器装置(110)，并且被配置为基于从所述传感器装置(110)接收的值来提示对所述擦拭构件(52)中的清洁剂的残余量，其表示所述擦拭构件(52)中容纳的清洁剂的量进行调节，借助于控制所述调节站(90)，和/或控制所述擦拭构件(52)的驱动器，和/或控制所述清洁站(70)，其中，所述控制器(C)根据以下来设定所述擦拭构件(52)中的清洁剂的残留量：所使用的构造材料和/或粘合剂***和/或清洁剂和/或吸收性的材料的类型和/或所述涂覆装置的清洁间隔和/或所述涂覆装置的污染程度。
14.根据权利要求1所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述涂覆装置的清洁装置(50)还包括用于移动所述擦拭构件(52)的驱动装置(54)，所述驱动装置(54)被配置成当所述涂覆装置(30)位于所述涂覆装置的清洁装置(50)上方时，相对于所述输出区域(36)移动所述擦拭构件(52)以对其进行清洁，和/或在涂覆装置的清洁位置、擦拭构件的清洁位置和擦拭构件的调节位置之间移动所述擦拭构件(52)。
15.根据权利要求14所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述驱动装置(54)包括以带的形式的承载结构(56)，所述擦拭构件(52)可释放地附接到所述承载结构(56)。
16.根据权利要求14或15所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述驱动装置(54)被配置为将所述擦拭构件(52)移动到降低位置，在所述降低位置避免与所述涂覆装置(30)的碰撞，其中，所述擦拭构件(52)在所述擦拭构件的清洁位置和/或所述擦拭构件的调节位置处位于所述降低位置，而所述擦拭构件(52)在涂覆装置的清洁位置处布置在升高位置。
17.根据权利要求14或15所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述驱动装置(54)被配置为在所述涂覆装置(30)位于涂覆装置的清洁装置(50)的上方时，移动所述擦拭构件(52)，以沿着所述擦拭构件(52)清洁所述输出区域(36)，其中，所述驱动装置(54)被配置成当所述涂覆装置(30)处于涂覆装置的清洁位置时，沿着循环路径移动所述擦拭构件(52)，所述循环路径以第一路径部分沿着输出区域(36)延伸，其中，所述驱动装置(54)包括细长的承载结构(56)，所述擦拭构件(52)附接到所述承载结构(56)，并且能够在纵向方向上以围绕外部点旋转的方式移动，从而沿着其循环路径移动所述擦拭构件(52)。
18.根据权利要求1或2所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述输出区域(36)包括细长的输出狭槽(40)和/或至少一个细长的刮抹表面，所述细长的刮抹表面被配置成用于刮抹从所述容器(32)输出的构造材料，从而使所输出的构造材料平整和/或压紧所输出的构造材料，其中，至少一个细长的刮抹表面能够被擦拭构件(52)擦拭，和/或其中，所述擦拭构件(52)在宽度方向上具有延伸部，所述延伸部横向于刮抹表面的纵向方向延伸，所述延伸部大于或等于细长刮抹表面的延伸部。
19.根据权利要求1或2所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述涂覆装置的清洁装置(50)包括多个擦拭构件(52)，所述擦拭构件可一起移动到相应的降低位置，以避免与所述涂覆装置(30)碰撞。
20.根据权利要求1或2所述的3D打印机(10)，其特征在于，还包括被配置为检测所述擦拭构件(52)的位置的传感器(170)，和/或被配置为检测清洁缸(72)的填充水平的传感器(82)。
21.根据权利要求1或2所述的3D打印机(10)，其特征在于，还包括具有打印头的打印装置，所述打印头用于选择性地固化借助于所述涂覆装置施加的构造材料层的部分区域，和/或用于选择性地将处理剂打印到通过所述涂覆装置所施加的构造材料层上。
22.根据权利要求2所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述吸收性的纺织材料为吸收性的无纺布。
23.根据权利要求18所述的3D打印机(10)，其特征在于，所述擦拭构件(52)在宽度方向上的延伸部大于或等于输出区域(36)的延伸部。
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