CN209496875U - 显示基板、显示面板及具有该显示面板的显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种显示基板、显示面板及具有该显示面板的显示装置，其中所涉及的显示基板包括无机膜以及覆于所述无机膜至少一表面的有机膜，所述显示基板在显示面板用于形成通孔的位置处具有通孔形成区，所述显示基板于所述通孔形成区不具有所述无机膜；基于本实用新型所提供显示基板的具体结构，在显示面板需要设置通孔的具体应用场景中，可以防止因打孔造成显示基板的无机膜产生裂纹损伤，避免外部水氧进入基板内部，进而确保显示面板的整体质量。

Description

显示基板、显示面板及具有该显示面板的显示装置

技术领域

本实用新型实施例涉及有机发光显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示面板及具有该显示面板的显示装置。

背景技术

有机发光显示器(OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、可视角大、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示技术。随着OLED显示技术的发展，全面屏以其具有较大的屏占比、超窄的边框，与普通的显示屏相比，可以大大提高观看者的视觉效果，从而受到了广泛的关注。

目前，在采用全面屏的诸如手机等显示装置中，为了实现自拍、可视通话以及指纹识别的功能，通常都会在显示面板的显示区域内设置前置摄像头、听筒、指纹识别器件或实体按键等。而为了实现在显示区域内设置前置摄像头、听筒、指纹识别器件或实体按键等，就需要在全面屏的显示区域内形成贯穿显示面板的通孔，该通孔通常采用激光打孔方式成型。

在激光打孔的过程中，需要穿透构成显示面板的基板，基板通常包括层叠设置的有机膜与无机膜，其中所涉及的无机膜在被激光直接切割时容易产生裂纹现象，如此外界的水氧即可通过裂纹渗入到基板内，进而影响显示面板的整体质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术存在的技术问题，为实现上述实用新型目的，本实用新型提供了一种显示基板，其具体设计方式如下。

一种显示基板，用于制作具有通孔的显示面板，其包括无机膜以及覆于所述无机膜至少一表面的有机膜，所述显示基板具有用于形成所述通孔的通孔形成区，所述显示基板于所述通孔形成区不具有所述无机膜。

进一步，所述显示基板包括两层有机膜，两层所述有机膜分别覆于所述无机膜两不同表面。

进一步，所述显示基板还具有邻接设置于所述通孔形成区周边的缓冲区，所述显示基板于所述缓冲区内若干间隔分散的区域不具有所述无机膜。

进一步，所述通孔形成区与所述缓冲区内不具有所述无机膜的区域于所述无机膜所在层面上均设置有硬度小于所述无机膜硬度的填充物；

优选地，所述填充物为聚酰亚胺。

进一步，于远离所述通孔形成区中心的方向上，所述缓冲区内不具有所述无机膜的若干区域的分布密度呈逐渐变稀趋势。

进一步，所述无机膜的材料为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一种或多种。

进一步，所述有机膜的材料为聚酰亚胺。

本实用新型还提供了一种OLED显示面板，其包括以上所述的显示基板以及依序层叠设置于所述显示基板上的控制电路层与有机发光层，所述显示面板具有上下贯穿且位于所述通孔形成区所在位置的通孔。

进一步，所述通孔位于所述通孔形成区的边界范围内侧。

本实用新型还提供了一种显示装置，显示装置具有以上所述的显示面板。

本实用新型的有益效果是：基于本实用新型所提供显示基板的具体结构，在显示面板需要设置通孔的具体应用场景中，可以防止因打孔造成显示基板的无机膜产生裂纹损伤，避免外部水氧进入基板内部，进而确保显示面板的整体质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1所示为本实用新型显示基板成型前的一种状态示意图；

图2所示为图1所示结构中无机膜形成有第一孔、第二孔的状态示意图；

图3所示为本实用新型显示基板的一种实施结构示意图；

图4所示为本实用新型中显示面板打孔前的状态示意图；

图5所示为本实用新型中显示面板打孔后的状态示意图

图6所示为本实用新型显示基板中无机膜的一种平面示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

正如背景技术所述，在OLED显示面板需要设置通孔的具体应用场景中，采用激光打孔时，会使得基板的无机膜产生裂纹现象，如此外界的水氧即可通过裂纹渗入到基板内，进而影响显示面板的整体质量。

具体而言，构成显示面板的基板通常由有机膜与无机膜层叠设置构成，其中，无机膜密度高，水氧渗透率低，可以有效阻止水氧穿过基板；而有机膜具有较好的柔韧性，可以确保基板具有较好的柔软度。但在基板上形成通孔的过程中，无机膜由于脆性较强，激光直接打在无机膜上时较为容易导致无机膜产生裂纹，而水氧通过该裂纹极易进入基板内部，进而穿过基板影响显示面板的质量。

基于以上原因，本实用新型提供了一种不同于传统结构的显示基板，该显示基板用于制作具有通孔的显示面板，该显示基板包括无机膜11以及覆于无机膜11至少一表面的有机膜12，具体而言，即本实用新型中的显示基板可以是由无机膜11及覆于无机膜11两不同表面的有机膜12构成，也可以是由无机膜11及仅覆于无机膜11一表面的有机膜12构成。

参考图3所示，其展示了本实用新型显示基板的一种优选实施结构，本实施例中所涉及的显示基板包括无机膜11以及覆于无机膜11两不同表面的两层有机膜12。如图中所示，第一有机膜121与第二有机膜122分别覆于无机膜11的下表面和上表面，构成夹心结构。

本实施例中的无机膜11致密性高，可以有效阻止水氧穿过基板；第一有机膜121与第二有机膜122对无机膜11形成夹持可以克服单层无机膜易碎的缺陷，从而确保显示基板在弯折时具有更好的稳定性，进而能够适用于各类柔性OLED显示面板的应用场景。

结合图3、图5、图6所示，本实用新型中，显示基板具有用于形成通孔200的通孔形成区101，显示基板于通孔形成区101不具有无机膜。本具体实施例中是采用激光进行通孔的加工成型，由于显示基板于通孔形成区101不具有无机膜，在形成通孔200时，激光不用打在无机膜11上，从而避免脆性的无机膜11产生外部水氧可进入的损伤裂纹，可确保显示面板的整体质量。

可以理解的是，在本实用新型的其它实施例中，本实用新型中所涉及的显示基板也可以仅包含一层有机膜12，该有机膜12覆于无机膜11的一表面，如此结构的显示基板也兼具水氧渗透率低、可弯折的特点，具体在此不作赘述。

在具体实施过程中，本实用新型所涉及无机膜11的材料优选为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一种或多种。

此外，图3所示实施例中的第一有机膜121与第二有机膜122均为整面膜结构，整面膜是指膜内部无开口的一整张连续成型的膜，通常采用一体成型方式制作。第一有机膜121与第二有机膜122材质相同，作为优选实施方式，第一有机膜121与第二有机膜122均由聚酰亚胺层(polyimide)制成。在本实用新型的其它实施例中，第一有机膜121与第二有机膜122的材质也可以是聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚芳酯、聚碳酸脂、聚醚酰亚胺或聚醚砜中的一种或多种；本实用新型中所涉及的第一有机膜121与第二有机膜122的材质也可以不同，具体在此不作展开。

如图3中所示，本实施例中所涉及的显示基板还具有邻接设置于通孔形成区101周边的缓冲区102，显示基板于缓冲区102内的若干间隔分散的区域1020不具有无机膜。具体而言，若干间隔分散的区域1020环绕于通孔形成区101周边，其单个面积尺寸通常小于通孔形成区101的面积尺寸，缓冲区102构成一个应力缓冲带。更为具体地，在显示基板弯折时，无机膜11于通孔形成区101的边缘位置处会出现应力突变，该突变的应力在一定程度上可能会导致无机膜11于通孔形成区101的边缘位置产生断裂；而本实用新型中的缓冲区102可以缓冲该应力，大大降低无机膜11于通孔形成区101的边缘位置产生断裂的概率，提高显示基板的可靠性。

可以理解的是，本实用新型中的通孔形成区不具有无机膜，通孔形成区具有有机膜或者其他与无机膜材料不同的物质，或通孔形成区具有镂空区，根据实际情况进行选用。

本实施例中，通孔形成区101与缓冲区102内不具有无机膜的区域1020于无机膜11所在层面上均设置有硬度小于无机膜11硬度的填充物。该填充物的材质可以与有机膜12的材质相同，也可以与有机膜12的材质不同，具体材质的选择范围亦可参考有机膜12的选择范围，在此不做赘述。

为了更好的理解本实用新型，以下对图3所示实施结构显示基板的一种具体制作方法进行详细描述。

具体而言，其具体制作方法包括如下步骤：

S1：提供支撑衬底(图中未示出)。该支撑衬底可以是玻璃衬底、有机塑胶衬底等具有较大刚性且具有平整成型面的板材。

S2：在支撑衬底的成型面上形成第一有机膜121。具体地，可以选用涂布、喷涂、印刷等方式形成第一有机膜121，可以先提供形成第一有机膜121的有机材料涂布液，例如聚酰亚胺涂布液，然后通过涂布、喷涂、印刷等方式，将形成第一有机膜121的有机材料布液覆在支撑衬底上，待形成第一有机膜121的有机材料涂布液经烘烤干燥固化后，即可以形成第一有机膜121，其中第一有机膜121为均匀无缝隙的一整张膜。

S3：在第一有机膜121上形成无机膜11。参考图1所示，无机膜11可通过CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)等工艺成型于第一有机膜121上，构成材质一般为氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。

S4：参考图2所示，通过曝光、显影、刻蚀的方法在无机膜11上形成第一孔111、第二孔112。其中，曝光、显影、刻蚀均为本行业常规技术手段，细节在此不做赘述。可以理解的是，此处无机膜11上第一孔111所在位置与显示基板的通孔形成区101相对应，无机膜11上第二孔112所在位置与缓冲区102内不具有无机膜的区域相对应。

S5：在形成有第一孔111、第二孔112的无机膜11上形成第二有机膜122，以形成图3所示的一种显示基板。

在本制作方法中，第二有机膜122的具体成型方式可参考第一有机膜的成型方式，在第二有机膜122的成型过程中，其可以同步形成有分别填充第一孔111、第二孔112的第一突伸部1221及第二突伸部1222。参考图3所示，本具体实施例中，第二有机膜122具有填充第一孔111的第一突伸部1221以及填充第二孔112的第二突伸部1222，第一突伸部1221、第二突伸部1222具有与第二有机膜122相同的材质。基于突伸部对第一孔111、第二孔112的填充，可以增大无机膜11与第二有机膜122之间的结合力，降低通孔200形成后打孔位置处无机膜11与第二有机膜122之间分离的概率；而且在两层有机膜12夹持无机膜11的实施结构中，第一有机膜121与第二有机膜122可通过突伸部形成连接，从而对无机膜11形成更好的夹持保护，使得显示基板的整体稳定性更优。

结合图3、图6所示，作为本实施例的一种优选实施结构，于远离通孔形成区101中心的方向上，缓冲区102内不具有无机膜的若干区域1020的分布密度呈逐渐变稀的趋势。基于该结构，在显示基板的弯折过程中，于远离通孔形成区101中心的方向上，无机膜11于通孔形成区101的边缘位置处所受到的应力以渐变方式变化，从而可以更好避免无机膜11于通孔形成区101的边缘位置处产生断裂的情况。

可选地，在图示实施方式中，第一有机膜121的厚度、无机膜11的厚度和第二有机膜122的厚度可以根据实际需要和实际制备能力进行设定，例如，第一有机膜121的厚度和第二有机膜122的厚度可以大于或等于2μm，无机膜11的厚度可以为150nm～500nm等。

本实用新型所提供显示面板的一种具体结构参考图5所示，于本实施例中，所涉及的显示面板为OLED显示面板，该显示面板包括以上所提供的显示基板以及依序层叠设置于显示衬底上的控制电路层21与有机发光层22。本具体实施例中所采用的显示基板包括两层有机膜12，即分别覆于无机膜11两不同表面的第一有机膜121与第二有机膜122。

进一步结合图3、图5所示，显示面板具有上下贯穿且位于通孔形成区101所在位置的通孔200。

作为本实用新型的一种优选实施方式，结合图3、图5所示，本实施例中的通孔200位于通孔形成区101的边界范围内侧，即通孔200的边缘不与通孔形成区101的边界重合。如此在形成通孔200后，显示衬底的无机膜11不会暴露在通孔200内。从而在具体显示面板的制作过程中，即使通孔200的打孔位置存在一定的偏差，激光不会打在无机膜11上，进而可确保显示面板的打孔良率。

本实用新型所提供OLED显示面板具体结构的优点可参考以上显示基板的优点。此外，可以理解的是，本实施例OLED显示面板中所涉及显示基板的其它具体结构可以参考以上所述，在此均不作赘述。

本实用新型中所涉及的OLED显示面板可应用于手机、智能手表、智能手环中等显示装置中。其中，显示面板上形成的通孔200可用于设置前置摄像头、听筒、指纹识别器件或实体按键等元件。

本实用新型在以上显示基板的制作基础上，还提供了OLED显示面板的制作方法，其包括：在显示基板上依次成型控制电路层21与有机发光层22，具体可结合图4所示；然后采用激光工艺在通孔形成区101位置处形成通孔200，结合图5所示。当然可以理解的是，在通孔200形成后，还包括有封装步骤，具体在此不作进一步展开。

在具体实施过程中，在显示基板上形成的控制电路层21用于控制有机发光层22发光。其中，控制电路层21一般由金属层、半导体层、绝缘层等无机膜构成，通过对这些无机膜进行构图，可以形成控制有机发光层22发光的控制电路，其具体电路结构有多种实现方式，在此不赘述。并且，为了回避通孔200，控制电路层21在设计过程中于在通孔200位置处可以具有镂空区域。

有机发光层22一般可以包括空穴注入层、电子阻挡层、有机发光层、空穴阻挡层、电子注入层等膜，这些膜均为有机材料，通常采用精细金属掩模板(FMM)制作。本具体实施例中所涉及OLED显示面板为顶发光型显示面板，其中，有机发光层22的下表面还连接有与控制电路层21形成电性连接的阳极(图中未展示)，上表面连接有整面设置的阴极(图中未展示)。

应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种显示基板，用于制作具有通孔的显示面板，其特征在于，包括无机膜以及覆于所述无机膜至少一表面的有机膜，所述显示基板具有用于形成所述通孔的通孔形成区，所述显示基板于所述通孔形成区不具有所述无机膜。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括两层有机膜，两层所述有机膜分别覆于所述无机膜两不同表面。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还具有邻接设置于所述通孔形成区周边的缓冲区，所述显示基板于所述缓冲区内若干间隔分散的区域不具有所述无机膜。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述通孔形成区与所述缓冲区内不具有所述无机膜的区域于所述无机膜所在层面上设置有硬度小于所述无机膜硬度的填充物。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述填充物为聚酰亚胺。

6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，于远离所述通孔形成区中心的方向上，所述缓冲区内不具有所述无机膜的若干区域的分布密度呈逐渐变稀趋势。

7.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述无机膜的材料为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一种或多种。

8.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述有机膜的材料为聚酰亚胺。

9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的显示基板以及依序层叠设置于所述显示基板上的控制电路层与有机发光层，所述显示面板具有上下贯穿且位于所述通孔形成区所在位置的通孔。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述通孔位于所述通孔形成区的边界范围内侧。

11.一种显示装置，其特征在于，具有权利要求9-10任意一项所述的显示面板。