CN209262587U - 吸附式支撑装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种吸附式支撑装置，包括一支撑模组及一吸附结构。支撑模组用于承载一显示模组，并包含一基座。吸附结构设置于该基座一侧，吸附结构包含一固定件及一吸盘，吸盘可滑动地与固定件相接，吸盘具有一滑动件、一吸附垫及一凹陷空间，该滑动件的一第一中央穿孔、该吸附垫的一第二中央穿孔及凹陷空间连通。当该基座设置于一平面上，该吸盘沿轴线相对于固定件滑动到一第一位置，塞柱遮挡该第二中央穿孔、该第一中央穿孔及该凹陷空间，使该第二中央穿孔、该第一中央穿孔及该凹陷空间形成一低真空状态，该吸附垫吸附平面。

Description

吸附式支撑装置

技术领域

本实用新型涉及一种吸附式支撑装置，具体而言涉及一种吸附于一平面上，且用于承载一显示模组的吸附式支撑装置。

背景技术

现有支撑装置通常摆放于一桌面上，用于承载一显示模组，然，由于现有支撑装置通常未锁固于桌面上，因此遇到晃动时(例如地震或者是使用者移动桌面)，现有支撑装置都很容易受到摇晃而倒下，加上显示模组有一定的重量，显示模组不仅会连带被摔坏，倒下时也很容易伤及使用者。

实用新型内容

本实用新型的一主要目的在于提供一种吸附式支撑装置，包括一吸附结构设置于底座，通过吸附结构吸附一桌面，可使支撑装置稳固地紧贴于桌面上。

为达上述目的，本实用新型公开一种吸附式支撑装置，用于支撑一显示模组，该吸附式支撑装置包括一支撑模组及一吸附结构。该支撑模组用于承载该显示模组，并包含一基座。该吸附结构设于该基座一侧，该吸附结构包含一固定件及一吸盘。该固定件与该基座固接，可相对于一第一位置、一过渡位置及一第二位置间转换，该固定件具有一塞柱，该吸盘沿一轴线可滑动地与该固定件相接，该吸盘具有一滑动件、一吸附垫及一凹陷空间，该吸附垫与该滑动件连接，并可分离地吸附于一平面上，该滑动件的一第一中央穿孔、该吸附垫的一第二中央穿孔及该凹陷空间连通。当该支撑模组以该基座设置于一平面上，且该固定件于该第一位置时，该塞柱遮挡该第二中央穿孔，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间形成一低真空状态，该吸附垫吸附该平面。当施加一外力将该支撑模组朝远离该平面方向移动，该固定件进入该过渡位置，此时该吸附垫仍保持与该平面接触，而该固定件随该支撑模组逐渐远离该平面，并相对该滑动件滑动，且该塞柱随着远离该第二中央穿孔，让该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间与一外界连通，借此解除该低真空状态，最后该固定件进入该第二位置，不再相对该滑动件滑动，并连动该滑动件及该吸附垫，使该吸附垫能脱离该平面。

当该基座设置于该平面上，且该固定件位于该第二位置时，该塞柱远离该第二中央穿孔，由于该支撑模组及该固定件受一重力作用，该固定件相对该滑动件滑动而朝该平面靠近，进入该过渡位置，该吸附垫碰触该平面，同时该吸附垫受挤压，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间内的流体被推挤而向该外界排出，直至该固定件回到该第一位置，即该塞柱遮挡该第二中央穿孔，形成该低真空状态，该吸附垫吸附该平面。

该固定件具有一第一本体及多个勾体，所述勾***于该第一本体的一周缘，该塞柱设置于该第一本体，该吸盘具有一滑动件，该滑动件具有一侧表面及多个滑槽，所述滑槽形成于该滑动件的该侧表面，所述勾体可滑动地勾于所述滑槽中，以使该滑动件沿该轴线相对于该固定件于该第一位置及该第二位置间移动。

该吸附垫还具有一第一吸附体及一第二吸附体，该第一吸附体具有一第一内凹面，该第二吸附体具有一第二内凹面，该第一内凹面及该第二内凹面共同界定出该凹陷空间。该第一吸附体夹设于该滑动件与该第二吸附体间。

该固定件还具有多个导槽，所述导槽形成于该第一本体上，且围绕该塞柱，该滑动件还具有一上表面及多个凸起，所述凸起位于该上表面，且所述凸起可滑动地设置于所述导槽中。

该滑动件具有一内凹面区，该内凹面区形成于该滑动件的该上表面，该滑动件的该上表面与该侧表面相接，该内凹面区与该第二内凹面相对，该第二中央穿孔形成于该内凹面区，该第一中央穿孔形成于该第二吸附体的一主体，且该第一中央穿孔与该第二中央穿孔连通，当该固定件位于该第一位置，该塞柱以一外凸弧面贴附于该内凹面区，而遮挡该第二中央穿孔，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间形成该低真空状态。

该滑动件具有与该上表面相连接的一环体，该第一吸附体具有多个第一定位孔，该滑动件具有位于该环体的多个第二定位孔，该第二吸附体具有形成于该主体上的多个定位柱，所述定位柱通过所述第一定位孔设置于所述第二定位孔中，使该第一吸附体通过该第二吸附体固定于该滑动件的该环体。

于本实用新型一实施例中，该固定件与该基座一体成形。该第一吸附体、该第二吸附体及该滑动件为一体成形。该第二吸附体的一硬度大于或等于该第一吸附体的一硬度。

为让上述目的、技术特征、和优点能更明显易懂，下文以优选实施例配合附图进行详细说明。

附图说明

图1为本实用新型吸附式支撑装置的一立体示意图；

图2为本实用新型吸附式支撑装置的另一立体示意图；

图3为本实用新型吸附式支撑装置的一局部分解示意图；

图4为本实用新型吸附式支撑装置的一局部作动剖面示意图；

图5为本实用新型吸附式支撑装置的另一局部作动剖面示意图；以及

图6为本实用新型吸附式支撑装置的另一局部作动剖面示意图。

附图标记说明

1000 吸附式支撑装置

100 支撑模组

1 基座

2 支撑件

200 吸附结构

3 固定件

31 第一本体

32 勾体

33 塞柱

331 外凸弧面

34 导槽

4 吸盘

41 滑动件

411 上表面

4111 内凹面区

412 侧表面

413 环体

4131 柱

414 凸起

415 第二凹槽

417 第二中央穿孔

418 第二定位孔

419 滑槽

42 吸附垫

421 第一吸附体

4211 第一内凹面

4212 第一凹槽

4213 中空孔

4214 第一定位孔

422 第二吸附体

4221 主体

42211 圆柱

4222 第二内凹面

4223 第一中央穿孔

4224 定位柱

P 平面

S 凹陷空间

具体实施方式

请同时参照图1及图2，本实用新型吸附式支撑装置1000包括一支撑模组100及一吸附结构200，支撑模组100用于承载一显示模组(未图示)，且支撑模组100设置于一平面P(例如一桌面)时，能通过吸附结构200吸附定位于平面P上。以下将详述各元件的结构及结合方式。

支撑模组100包含一基座1及一支撑件2，支撑件2设置于基座1一侧上，且支撑件2用于承载显示模组。吸附结构200设于基座1另一侧。

承上所述，如图3及图4所示，吸附结构200包含一固定件3及一吸盘4。于本实施例中，固定件3与基座1一体成形，且远离支撑件2。固定件3具有一第一本体31、八勾体32、一塞柱33及四导槽34。第一本体31概略呈中空圆筒状，所述勾体32设于第一本体31的一周缘，塞柱33设置于第一本体31的中央处，所述导槽34形成于第一本体31上并环绕塞柱33。

吸盘4具有一滑动件41及一吸附垫42。滑动件41概略呈环状，且沿一轴线X可动地容设在该第一本体31中，吸附垫42与滑动件41连接，并可分离地吸附于平面P上；其中，吸附垫42具有一第一吸附体421及一第二吸附体422，第一吸附体421及第二吸附体422皆概略呈圆盘状，且第一吸附体421设置于滑动件41及第二吸附体422之间，第一吸附体421具有一第一内凹面4211、一第一凹槽4212、一中空孔4213及四第一定位孔4214。第一内凹面4211沿轴线X内凹向固定件3，且吸附结构200定位于平面P上时，第一内凹面4211面对平面P。第一凹槽4212形成于第一内凹面4211的中央处，中空孔4213形成于第一凹槽4212，所述第一定位孔4214同样形成于第一凹槽4212并围绕中空孔4213。

第二吸附体422具有一主体4221、一第二内凹面4222、一第一中央穿孔4223、四定位柱4224，主体4221具有一圆柱42211，第二内凹面4222位于主体4221的一侧，并与圆柱42211相对，且第二内凹面4222与第一内凹面4211的内凹方向相同，同样也是沿轴线X内凹向固定件3，且吸附结构200定位于平面P上时，第二内凹面4222面对平面P。所述定位柱4224设置于主体4221另一侧上并环绕圆柱42211，而与第二内凹面4222相对，第一中央穿孔4223穿透圆柱42211。

接着说明第一吸附体421与第二吸附体422的结合方式。第二吸附体422局部地设置于第一凹槽4212中，且所述定位柱4224通过第一定位孔4214并突出于第一凹槽4212之外，而圆柱42211穿设于中空孔4213中。第一吸附体421与第二吸附体422结合后，第一内凹面4211与第二内凹面4222共同界定一凹陷空间S(请参照图5)，第一中央穿孔4223与凹陷空间S连通，当支撑模组100设置于平面P上时，第一内凹面4211及第二内凹面4222共同面对平面P。

接着说明滑动件41的详细结构，以及滑动件41、第一吸附体421和第二吸附体422的连接关系。滑动件41具有一上表面411、一侧表面412、一环体413、四凸起414、一第二凹槽415、一第二中央穿孔417、四第二定位孔418及八滑槽419。于本实施例中，侧表面412为一环形表面且环绕环体413，并连接上表面411，上表面411连接于环体413一面；所述滑槽419间隔的形成于侧表面412，上表面411的中央处具有一内凹面区4111，环体413有一柱4131，柱4131穿设于中空孔4213中，而圆柱42211穿设于柱4131中(也就是中空孔4213具有的空间最大以容纳柱4131，而柱4131具有次大的空间可进一步容纳圆柱42211)，所述凸起414设于上表面411并环绕内凹面区4111，第二中央穿孔417形成于内凹面区4111上，并穿透柱4131，也就是连通第一中央穿孔4223；第二凹槽415形成于滑动件41的环体413的另一面，所述第二定位孔418形成于第二凹槽415。

承上所述，固定件3的所述勾体32可滑动地设置于滑动件41的所述滑槽419中，通过所述勾体32与所述滑槽419的搭配，滑动件41可与固定件3保持连接，亦可相对固定件3滑动。滑动件41的所述凸起414可滑动地设于固定件3的所述导槽34中，借此可确保滑动件41是沿轴线X相对于固定件3滑动，而不会让滑动路径有所偏移。

第一吸附体421设置于第二凹槽415中，第二吸附体422的所述定位柱4224穿过所述第一定位孔4214后，对应设于所述第二定位孔418中，使得第一吸附体421通过第二吸附体422与滑动件41固接。第二吸附体422的第一中央穿孔4223对应与第二中央穿孔417连通，也就是，第一中央穿孔4223、凹陷空间S与第二中央穿孔417连通。

须说明的是，于本实用新型其他实施例中，塞柱33的位置可进行调整而偏离第一本体31的中央，第一中央穿孔4223及第二中央穿孔417的位置也可对应塞柱33的位置进行调整，只要让第一中央穿孔4223及第二中央穿孔417与塞柱33对齐即可，于此不限制塞柱33、第一中央穿孔4223及第二中央穿孔417的位置。此外，于本实用新型其他实施例中，定位柱4224及滑槽419的数量也可依照需求进行调整。

如图4所示，此段落将说明吸附结构200吸附平面P的状态。当基座1设置于平面P上时，固定件3沿轴线X相对于吸盘4位于一第一位置(也就是勾体32位于滑槽419的最底处)，塞柱33的一外凸弧面331贴附于滑动件41的内凹面区4111，塞柱33封住第一中央穿孔4223及第二中央穿孔417，使得第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S形成一低真空状态，第一吸附体421及第二吸附体422因此得吸附平面P，此时，支撑模组100通过吸附结构200吸附于平面P上，即使受到外力造成晃动也不易倾倒。

要解除吸附结构200的吸附状态时，首先施一外力将基座1(连同固定件3)沿轴线X移动而远离平面P，如图5所示，所述勾体32沿轴线X朝支撑件2方向于所述滑槽419中滑动，也就是固定件3沿轴线X相对于吸盘4由第一位置进入一过渡位置，所述凸起414同样也沿轴线X朝支撑件2方向于所述导槽34滑动，此时外凸弧面331远离内凹面区4111，外界流体开始进入到凹陷空间S、第二中央穿孔417及第一中央穿孔4223中。而如图6所示，所述勾体32沿轴线X于所述滑槽419中滑动至滑槽419的最顶端而不再滑动，此时固定件3沿轴线X相对吸盘4移动至一第二位置，而所述勾体32仍勾于所述滑槽419中，让滑动件41不会完全脱离固定件3，外凸弧面331也完全远离内凹面区4111，使第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S与外界连通，使得低真空状态解除，第一吸附体421及第二吸附体422便可脱离平面P，以解除吸附结构200对支撑模组100于平面P的定位。

又，当固定件3位于第二位置(即图6所示的位置)，若要重新回到吸附结构200的吸附状态时(即固定件34位于图4所示的第一位置)，先移除外力，则支撑模组100及固定件3开始沿轴线X朝平面P移动，当固定件3进入过渡位置(如图5所示)，勾体32于滑槽419中沿轴线X朝平面P移动，塞柱33更加靠近内凹面区4111，此时，支撑模组100及固定件3因本身的重力，而将第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S中的流体开始慢慢朝外界推挤而出(举例而言，如图5所示，吸盘4位于过渡位置，且吸附垫42碰触平面P时，支撑模组100及固定件3通过本身的重力挤压掉存在于第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S中约略一半的流体)，直到固定件3重新位于第一位置(如图4所示)，勾体32沿轴线X移动至滑槽419的最底处，塞柱33重新封住第一中央穿孔4223及第二中央穿孔417，则支撑模组100及固定件3通过本身的重力已完全将第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S中的流体完全挤压至外界，让第一中央穿孔4223、第二中央穿孔417及凹陷空间S重新形成低真空状态。

于本实施例中，第一吸附体421的材质为橡胶，第二吸附体422及滑动件41的材质为ABS塑胶，也就是第二吸附体422的硬度大于第一吸附体421的硬度，好处在于，由于第二吸附体422及滑动件41的硬度较高，因此可避免因自身的变形而导致第一中央穿孔4223或第二中央穿孔417堵塞。然，吸附结构200于本实用新型其他实施例中，不仅限于上述材质，且于本实用新型其他实施例中，固定件3可为另一独立的元件设置于基座1上，吸盘4可为一体成形的元件(也就是滑动件41、第一吸附体421及第二吸附体422三者一体成形)。

综上所述，本实用新型通过吸附结构设置于支撑模组的基座，吸附结构得吸附于一平面上，使支撑模组能减少因晃动而倾倒损坏的机率，也可避免使用者被砸伤，提升吸附式支撑装置的安全性。又，只要通过向上提起基座远离该平面，便可轻易地解除吸附结构的低真空状态，让使用者能够更轻松的搬动吸附式支撑装置。

上述的实施例仅用来例举本实用新型的实施例，以及阐释本实用新型的技术特征，并非用来限制本实用新型的保护范围。任何熟悉本领域技术人员可轻易完成的改变或均等性的安排均属于本实用新型所主张的范围，本实用新型的权利保护范围应以权利要求为准。

Claims (11)

1.一种吸附式支撑装置，其特征在于，用于支撑一显示模组，该吸附式支撑装置包括：

一支撑模组，用于承载该显示模组，并包含一基座；以及

一吸附结构，设于该基座一侧，该吸附结构包含：

一固定件，与该基座固接，可相对于一第一位置、一过渡位置及一第二位置间转换，且该固定件具有一塞柱；以及

一吸盘，沿一轴线可滑动地与该固定件相接，并具有一滑动件、一吸附垫及一凹陷空间，该吸附垫与该滑动件连接，并可分离地吸附于一平面上，该滑动件的一第一中央穿孔、该吸附垫的一第二中央穿孔及该凹陷空间连通；

其中，当该支撑模组以该基座设置于该平面上，且该固定件于该第一位置时，该塞柱遮挡该第二中央穿孔，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间形成一低真空状态，且该吸附垫吸附该平面，当施加一外力将该支撑模组朝远离该平面方向移动，该固定件进入该过渡位置，此时该吸附垫仍保持与该平面接触，而该固定件随该支撑模组逐渐远离该平面，并相对该滑动件滑动，且该塞柱随着远离该第二中央穿孔，让该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间与一外界连通，借此解除该低真空状态，最后该固定件进入该第二位置，不再相对该滑动件滑动，并连动该滑动件及该吸附垫，使该吸附垫能脱离该平面。

2.根据权利要求1所述的吸附式支撑装置，其特征在于，当该基座设置于该平面上，且该固定件位于该第二位置时，该塞柱远离该第二中央穿孔，由于该支撑模组及该固定件受一重力作用，该固定件相对该滑动件滑动而朝该平面靠近，进入该过渡位置，该吸附垫碰触该平面而受挤压，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间内的流体被推挤而向该外界排出，直至该固定件回到该第一位置，即该塞柱遮挡该第二中央穿孔，形成该低真空状态，该吸附垫吸附该平面。

3.根据权利要求2所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该固定件具有一第一本体及多个勾体，所述勾***于该第一本体的一周缘，该塞柱设置于该第一本体，该滑动件具有一侧表面及多个滑槽，所述滑槽形成于该滑动件的该侧表面，所述勾体可滑动地勾于所述滑槽中，以使该固定件沿该轴线相对于该滑动件于该第一位置、该过渡位置及该第二位置间移动。

4.根据权利要求3所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该吸附垫还具有一第一吸附体及一第二吸附体，该第一吸附体具有一第一内凹面，该第二吸附体具有一第二内凹面，该第一内凹面及该第二内凹面共同界定出该凹陷空间。

5.根据权利要求4所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该第一吸附体夹设于该滑动件与该第二吸附体间。

6.根据权利要求5所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该固定件还具有多个导槽，所述导槽形成于该第一本体上，且围绕该塞柱，该滑动件还具有一上表面及多个凸起，所述凸起位于该上表面，且所述凸起可滑动地设置于所述导槽中。

7.根据权利要求6所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该滑动件具有一内凹面区，该内凹面区形成于该滑动件的该上表面，该滑动件的该上表面与该侧表面相接，该内凹面区与该第二内凹面相对，该第二中央穿孔形成于该内凹面区，该第一中央穿孔形成于该第二吸附体的一主体，且该第一中央穿孔与该第二中央穿孔连通，当该固定件位于该第一位置，该塞柱以一外凸弧面贴附于该内凹面区，而遮挡该第二中央穿孔，使该第一中央穿孔、该第二中央穿孔及该凹陷空间形成该低真空状态。

8.根据权利要求7所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该滑动件具有与该上表面相连接的一环体，该第一吸附体具有多个第一定位孔，该滑动件具有位于该环体的多个第二定位孔，该第二吸附体具有形成于该主体上的多个定位柱，所述定位柱通过所述第一定位孔设置于所述第二定位孔中，使该第一吸附体通过该第二吸附体固定于该滑动件的该环体。

9.根据权利要求8所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该固定件与该基座一体成形。

10.根据权利要求4至9中任一项所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该第一吸附体、该第二吸附体及该滑动件为一体成形。

11.根据权利要求4至9中任一项所述的吸附式支撑装置，其特征在于，其中该第二吸附体的一硬度大于或等于该第一吸附体的一硬度。