CN208819843U - 液体处理装置及表面处理*** - Google Patents

Abstract

一种液体处理装置及表面处理***，表面处理***包含液体处理装置，所述液体处理装置包括容器、第一隔板、以及第二隔板。所述容器界定出腔室，腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口。所述第一隔板设置于所述容器的腔室并邻近进液口，且第一隔板由腔室底面向上并朝腔室顶端处的方向斜向延伸。所述第二隔板设置于容器的腔室并邻近腔室顶端处，且第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的最高点。液体流经所述液体处理装置，溶解于液体中的含泡气体沿第一隔板上升而浮于液体表面，并被第二隔板留滞于腔室的顶端，含泡气体由排气口排出。

Description

液体处理装置及表面处理***

技术领域

本实用新型涉及一种液体处理装置，特别是涉及一种用于去除在液体管路中的液体内的含泡气体的液体处理装置。

背景技术

一般来说，目前于半导体产业的制程中，在半导体晶圆或印刷电路板进行湿式处理的过程时，贮存于容置槽内例如用于湿式处理的液体药剂，会经由制程管路传输至处理室内，以对放置于处理室内的半导体晶圆或印刷电路板进行表面处理。

然而，若所述液体药剂中含有含泡气体，会导致制程管路内的液体药剂的压力不足，因而影响浓度侦测器所测量到的液体药剂的浓度的准确性，或影响液体药剂的流量控制的稳定度，致使实际供应至处理室的液体药剂浓度或流量不精确，进而影响半导体晶圆或印刷电路板的质量及其制程良率。甚至，含有含泡气体的液体药剂更可能导致制程管路内的液体药剂的流量不均，让流量计误判流量值或者是侦测不到当前的液体药剂的流量，而导致设备机台停机的情况。

发明内容

因此，本实用新型的其中一目的，即于可供一种液体处理装置，以改善上述先前技术的缺点以及不足。

于是，本实用新型液体处理装置在一些实施态样中，是包含容器、第一隔板，以及第二隔板。所述容器界定出腔室，所述腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口。所述第一隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近所述进液口，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸。所述第二隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近所述腔室顶端处，且所述第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的所述最高点。

在一些实施态样中，所述第二隔板是朝向所述出液口的方向斜向延伸。

在一些实施态样中，所述腔室具有底壁，所述第一隔板由所述底壁向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸。

在一些实施态样中，所述腔室具有与所述底壁相对的顶壁，且所述第二隔板是由所述顶壁向下斜向延伸，且所述第二隔板远离于所述顶壁的一端朝向所述出液口的方向。

在一些实施态样中，所述腔室具有由所述底壁的周缘向上延伸的围绕壁，且所述第二隔板连接于所述围绕壁的相反两侧并朝向所述出液口的方向向下斜向延伸。

在一些实施态样中，所述进液口形成于所述腔室的所述底壁，且所述出液口形成于所述腔室的所述底壁的与所述进液口相对的另一侧。

在一些实施态样中，所述腔室具有由所述底壁的周缘向上延伸的围绕壁，所述进液口形成于所述腔室的所述围绕壁并邻近于所述底壁，所述出液口形成于所述腔室的所述围绕壁并邻近于所述底壁且与所述进液口相对。

在一些实施态样中，所述第一隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近于所述进液口且位于所述排气口的垂直中线的一侧，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述排气口的方向斜向延伸，所述第二隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近于所述排气口且位于所述垂直中线的另一侧。

在一些实施态样中，还包含连接于所述排气口的排气单元。

因此，本实用新型的另一目的，即于可供一种表面处理***，以改善上述先前技术的缺点以及不足。

于是，本实用新型表面处理***在一些实施态样中，其利用液体对物件进行表面处理，并包含液体供应源、表面处理室、管路单元，以及液体处理装置。所述液体供应源用于贮存及供应所述液体。所述表面处理室其利用所述液体对所述物件进行表面处理。所述管路单元连接于所述液体供应源与所述表面处理室之间以输送所述液体。所述液体处理装置设置于所述管路单元中，用于排除所述液体中的含泡气体。

在一些实施态样中，还包含设置于所述管路单元并位于所述液体处理装置与所述表面处理室之间的侦测单元，其中，所述液体经由所述液体处理装置排除所述液体中的含泡气体，所述侦测单元用于侦测所述液体的流量或压力，所述表面处理室利用所述液体对所述物件进行表面处理。

本实用新型的有益效果在于：通过所述第一隔板以及所述第二隔板的搭配设计，且由于所述液体于所述液体处理装置内的流动路径具有单一方向的特性，亦即所述液体由所述进液口进入至所述腔室，经由所述第一隔板的导引朝上，再向下朝所述出液口的方向流动并自所述出液口流出，而使得溶解于所述液体中的所述含泡气体沿着所述第一隔板上升而浮于所述液体表面，并被所述第二隔板留滞于所述腔室的顶端处，所述含泡气体再经由所述排气口排出，借此，可避免所述侦测单元因为所述液体中的所述含泡气体而造成侦测的失误或误判，同时确保所述液体进入至所述表面处理室的浓度、流量的准确性。

附图说明

图1是一示意图，说明本实用新型表面处理***的一第一实施例、一第二实施例、一第三实施例、一第四实施例及一第五实施例；

图2、3分别是一示意图，说明所述第一实施例的一液体处理装置；

图4是一示意图，说明所述第二实施例的一液体处理装置；

图5是一示意图，说明所述第三实施例的一液体处理装置；

图6是一示意图，说明所述第四实施例的一液体处理装置；及

图7是一示意图，说明所述第五实施例的一液体处理装置。

具体实施方式

在本实用新型被详细描述前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以相同的编号来表示。

参阅图1至图3，是本实用新型表面处理***10的一第一实施例，其利用一液体对于一物件进行表面处理，所述表面处理***10包含一液体供应源1、一表面处理室2、一管路单元3、一驱动单元4、一侦测单元5，以及一液体处理装置6，在本实施例中，所述液体是以例如含有含泡气体的化学药剂的处理液为例。

具体而言，所述液体供应源1贮存有所述液体并用于供应所述液体至所述表面处理室2。所述表面处理室2用于利用所述液体对所述物件进行表面处理，例如一湿式处理制程。本实施例的所述物件例如为半导体晶圆，但不以公开内容为限，在其他实施态样中，所述物件可以是液晶显示装置用的基板、电浆显示器用的基板、光罩用的基板、陶瓷基板、太阳能电池用的基板、印刷电路板，以及载板形式等，并且可为圆型、方型，但不以公开内容为限。并且借由本实用新型的液体处理装置6及表面处理***10可应用于基板湿制程(蚀刻、清洗、干燥等)，例：单基板湿制程、多基板湿制程、单一方晶片锡球下金属蚀刻、薄化晶圆支撑/剥离、贴合/剥离制程、碳化硅再生晶圆、再生硅晶圆等，但不以公开内容为限。

所述管路单元3连接于所述液体供应源1与所述表面处理室2两者之间，并用于输送所述液体于其内部流动。所述驱动单元4设置于所述管路单元3且邻近于所述液体供应源1，并用于驱动所述液体由所述液体供应源1流动至所述表面处理室2，在本实施例中，所述驱动单元4例如为泵。所述侦测单元5设置于所述管路单元3且邻近于所述表面处理室2，并用于侦测所述液体而能产生一侦测讯号，本实施例的所述侦测单元5例如是一侦测沿着所述管路单元3流动的所述液体的流量的流量计，或者是一侦测沿着所述管路单元3流动的所述液体的压力的压力计。

参阅图3，所述液体处理装置6设置于所述管路单元3，并安装于所述驱动单元4以及所述侦测单元5两者之间，所述液体处理装置 6用于排除溶解于所述液体中的所述含泡气体。所述液体处理装置6 包含一容器61、一第一隔板62、一第二隔板63，以及一排气单元64。

具体来说，所述容器61界定出一腔室614，且所述腔室614具有一底壁611、一与所述底壁611相对的顶壁612，以及一由所述底壁 611的周缘向上延伸至所述顶壁612的围绕壁613，且所述腔室614 形成有位于相对两侧的一进液口613a与一出液口613b，以及一排气口612a。在本实施例中，所述进液口613a形成于所述腔室614的侧边位置，亦即在所述围绕壁613并邻近于所述底壁611处，所述出液口613b则形成于所述围绕壁613并邻近于所述底壁611，且所述出液口613b与所述进液口613a呈相对设置。而所述排气口612a形成于所述腔室614顶端处(亦即所述顶壁612)。

所述第一隔板62设置于所述容器61的所述腔室614，并邻近于所述进液口613a的位置，且所述第一隔板62由所述腔室614的底面 (亦即所述底壁611)向上并朝所述腔室614顶端处的方向斜向延伸。因此，所述底壁611与所述第一隔板62共同界定出一外角A，且所述外角A的角度范围为91～150度，但所述外角A不以本实施例的公开内容为限。

所述第二隔板63设置于所述容器61的所述腔室614，并邻近于所述腔室614顶端处(亦即所述顶壁612)，在本实施例中，所述第二隔板63是由所述腔室614的顶面(亦即所述顶壁612)向下并朝所述出液口613b的方向由上往下斜向延伸，且所述第二隔板63远离于所述顶壁612的一端朝向所述出液口613b的方向，此外，所述第二隔板63的一最高点高于所述第一隔板62的一最高点，而所述第二隔板63的一最低点低于所述第一隔板62的所述最高点。

特别要说明的是，设计、制造者当能依据实际使用需要作调整，所述排气口612a、所述第一隔板62与所述第二隔板63的设置方式不以本实施例的公开内容为限，同样可以达到所述排气口612a、所述第一隔板62与所述第二隔板63的功效者，均视为本实施态样的常规变化。在其他实施态样中，所述排气口612a形成于所述腔室614顶端处(亦即所述顶壁612)，并靠近所述顶壁612中央处。所述第一隔板62可以位于所述排气口612a的一垂直中线L的一侧，换句话说，所述第一隔板62远离于所述底壁611的一端朝向所述排气口612a的方向，并且所述第二隔板63邻近于所述排气口612a的位置且位于所述垂直中线L的另一侧，而呈现如图2中所绘制的态样。

参阅图2与图3，所述排气单元64连接于所述排气口612a，并用于调整所述容器61的所述腔室614内的气体压力。所述排气单元 64可在一第一状态以及一第二状态之间切换，在所述排气单元64在所述第一状态，所述排气单元64与所述排气口612a不连通；而在所述排气单元64在所述第二状态，所述排气单元64则与所述排气口 612a相连通，此时，所述排气单元64便可释放、排出所述容器61 的所述腔室614内的气体，借此，使得所述容器61的所述腔室614 的气体压力值维持稳定状态。

参阅图1与图2，详细来说，所述液体由所述液体供应源1朝所述管路单元3的下游端方向，并通过所述驱动单元4加压排出而推送至所述表面处理室2。在所述液体流经所述液体处理装置6时，所述液体处理装置6的所述第一隔板62可以控制所述液体在所述液体处理装置6的所述腔室614内的表面高度H(如图2中所绘制的横向虚线)，使所述液体于所述腔室614的表面高度H高于所述出液口613b，同时，所述液体的流动路径具有单一方向性，亦即所述液体是由所述进液口613a进入至所述容器61的所述腔室614，并经由所述第一隔板62的导引而朝上流动，所述液体在通过所述第一隔板62后，随即因重力的作用向下，并朝所述出液口613b的方向流动，且由所述出液口613b流出，再往所述侦测单元5的方向流动而流至所述表面处理室2。

另一方面，由于所述液体被所述第一隔板62向上推挤，驱使所述液体中的所述含泡气体的分子挤开周围的所述液体的分子，同时，溶解于所述液体内的所述含泡气体所受的浮力逐渐增加，使得所述含泡气体缓缓地由所述底壁611朝所述顶壁612的方向窜升，并上浮于所述液体表面，而且所述含泡气体被所述第二隔板63拦阻而堆积于所述第二隔板63远离于所述出液口613b的一侧面，而不至于被液体夹带至所述出液口613b。

而在所述容器61的所述腔室614内因堆积所述含泡气体所产生的气体压力不断增大至一临界值，便会减缓、阻止所述液体中所溶解的所述含泡气体向上扩散至所述腔室614顶端，或者甚至使浮出所述液体表面的所述含泡气体再次被压回并挤入至所述液体内。此时，则需要将所述排气单元64由所述第一状态切换至所述第二状态，使得所述容器61的所述腔室614的气体压力，以及滞留于所述容器61的所述腔室614顶端的所述含泡气体能经由所述排气口612a而向外排出、宣泄。

参阅图1与图4，是本实用新型表面处理***10的一第二实施例。在本实施例中，所述表面处理***10的整体结构，大致与前述第一实施例相同，而所述第二实施例与前述第一实施例的主要不同处在于所述液体处理装置6的细部结构。

在本实施例中，所述液体处理装置6的所述进液口613a是形成于所述腔室614的所述底壁611，并位于所述第一隔板62与所述围绕壁613两者之间，且所述出液口613b是形成于所述腔室614的所述底壁611的与所述进液口613a相对的另一侧，并位于所述第二隔板63与所述围绕壁613两者之间。

参阅图1与图5，是本实用新型表面处理***10的一第三实施例。在本实施例中，所述表面处理***10的整体结构，大致与前述第一实施例相同，而所述第三实施例与前述第一实施例的主要不同处在于所述液体处理装置6的细部结构。

在本实施例中，所述第二隔板63是由所述顶壁612垂直向下，并朝所述底壁611的方向延伸。

参阅图1与图6，是本实用新型表面处理***10的一第四实施例。在本实施例中，所述表面处理***10的整体结构，大致与前述第一实施例相同，而所述第四实施例与前述第一实施例的主要不同处在于所述液体处理装置6的细部结构。

在本实施例中，所述第二隔板63连接于所述围绕壁613的相反两侧，并朝向所述底壁611的方向而垂直向下延伸，除此之外，所述第二隔板63的一最高点高于所述液体的表面高度H(亦即高于所述第一隔板62的最高点)，所述第二隔板63不接触所述顶壁612，借此，以避免部分所述液体越过所述第二隔板63，而所述含泡气体堆积于所述第二隔板63邻近于所述出液口613b的一侧，却无法经由所述排气口612a而向外排出的问题。

参阅图1与图7，是本实用新型表面处理***10的一第五实施例。在本实施例中，所述表面处理***10的整体结构，大致与前述第四实施例相同，而所述第五实施例与前述第四实施例的主要不同处在于所述液体处理装置6的细部结构。

在本实施例中，所述第二隔板63连接于所述围绕壁613的相反两侧，并朝向所述出液口613b的方向向下斜向延伸，所述第二隔板 63不接触所述顶壁612，借此，以避免部分所述液体越过所述第二隔板63，而所述含泡气体堆积于所述第二隔板63邻近于所述出液口613b的一侧，却无法经由所述排气口612a而向外排出的问题。

综上所述，本实用新型表面处理***10，通过所述第一隔板62 以及所述第二隔板63的搭配设计，且借由所述液体于所述液体处理装置6内的流动路径具有单一方向的特性，亦即所述液体由所述进液口613a进入至所述腔室614，经由所述第一隔板62的导引朝上，再向下朝所述出液口613b的方向流动并自所述出液口613b流出，而使得溶解于所述液体中的所述含泡气体沿着所述第一隔板62上升而浮于所述液体表面，并被所述第二隔板63留滞于所述腔室614的顶端处，所述含泡气体再经由所述排气口612a排出。借此，可避免所述侦测单元5因为所述液体中的所述含泡气体而造成侦测的失误或误判，同时确保所述液体进入至所述表面处理室2的浓度、流量的准确性，所以确实能达成本实用新型的目的。

惟以上所述者，只为本实用新型的实施例而已，当不能以此限定本实用新型实施的范围，凡是依本实用新型权利要求书及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本实用新型涵盖的范围内。

Claims (11)

1.一种液体处理装置；其特征在于：所述的液体处理装置包含：

容器，界定出腔室，所述腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口；

第一隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述进液口，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸；及

第二隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述腔室顶端处，且所述第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的所述最高点。

2.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于：所述第二隔板是朝向所述出液口的方向斜向延伸。

3.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有底壁，所述第一隔板由所述底壁向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸。

4.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有与所述底壁相对的顶壁，且所述第二隔板是由所述顶壁向下斜向延伸，且所述第二隔板远离于所述顶壁的一端朝向所述出液口的方向。

5.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有由所述底壁的周缘向上延伸的围绕壁，且所述第二隔板连接于所述围绕壁的相反两侧并朝向所述出液口的方向向下斜向延伸。

6.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述进液口形成于所述腔室的所述底壁，且所述出液口形成于所述腔室的所述底壁的与所述进液口相对的另一侧。

7.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有由所述底壁的周缘向上延伸的围绕壁，所述进液口形成于所述腔室的所述围绕壁并邻近于所述底壁，所述出液口形成于所述腔室的所述围绕壁并邻近于所述底壁且与所述进液口相对。

8.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于：所述第一隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近于所述进液口且位于所述排气口的垂直中线的一侧，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述排气口的方向斜向延伸，所述第二隔板设置于所述容器的所述腔室并邻近于所述排气口且位于所述垂直中线的另一侧。

9.根据权利要求1至8其中任一权利要求所述的液体处理装置，其特征在于：还包含连接于所述排气口的排气单元。

10.一种表面处理***，其特征在于：其利用液体对物件进行表面处理，并包含：

液体供应源，用于贮存及供应所述液体；

表面处理室，其利用所述液体对所述物件进行表面处理；

管路单元，连接于所述液体供应源与所述表面处理室之间以输送所述液体；及

如权利要求1至9其中任一权利要求所述的液体处理装置，所述液体处理装置设置于所述管路单元中，用于排除所述液体中的含泡气体。

11.根据权利要求10所述的表面处理***，其特征在于：还包含设置于所述管路单元并位于所述液体处理装置与所述表面处理室之间的侦测单元，其中，所述液体经由所述液体处理装置排除所述液体中的含泡气体，所述侦测单元用于侦测所述液体的流量或压力，所述表面处理室利用所述液体对所述物件进行表面处理。