CN208182858U - 一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层与第三氮化硅层；第一氮化硅层的厚度为35～45nm、第一镍铬层的厚度为1～2nm、第一银层的厚度为5～8nm、第一氧化锌层的厚度为5～20nm、第二氮化硅层的厚度为65～90nm、第二镍铬层的厚度为0.5～1nm、第二银层的厚度为8～10nm、第二氧化锌层的厚度为5～20nm、第三氮化硅层的厚度为40～60nm；合理搭配各膜层厚度，钢化前后各性能参数稳定，透过率高，膜层结构稳定；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

Description

一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型涉及功能玻璃技术领域，具体是一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃。

背景技术

随着世界经济的高速增发展，以往用于建筑、汽车等领域的白玻璃逐渐被镀膜玻璃所取代。低辐射镀膜玻璃具有较高可见光透射比、节能降耗、美观等优点，在不影响正常采光的同时，大幅度降低了室内制冷、取暖所带来的能源消耗,因而得到了广泛的应用。

双银低辐射镀膜玻璃由于其膜层结构中存在两层银及膜层数目多等原因，导致膜系整体难以控制，多数表现为产品透过率偏低、钢后易出现色差、产品均匀性差等问题，其中高透产品尤为明显。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，该玻璃膜系结构合理，钢化前后各性能参数稳定，透过率高，膜层结构稳定。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层与第三氮化硅层；

所述第一氮化硅层的厚度为35～45nm、第一镍铬层的厚度为1～2nm、第一银层的厚度为5～8nm、第一氧化锌层的厚度为5～20nm、第二氮化硅层的厚度为65～90nm、第二镍铬层的厚度为0.5～1nm、第二银层的厚度为8～10nm、第二氧化锌层的厚度为5～20nm、第三氮化硅层的厚度为40～60nm。

本实用新型的有益效果是，采用玻璃基底/有第一氮化硅层/第一镍铬层/第一银层/第一氧化锌层/第二氮化硅层/第二镍铬层/第二银层/第二氧化锌层/第三氮化硅层的复合膜系结构，第一氮化硅层、第二氮化硅层与第三氮化硅层作为介质层，第一镍铬层与第二镍铬层作为保护层，并合理搭配各膜层厚度，膜系结构合理，钢化前后各性能参数稳定，透过率高，膜层结构稳定；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

实施例一

如图1所示，本实用新型提供一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底11，玻璃基底11顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层21、第一镍铬层22、第一银层23、第一氧化锌层24、第二氮化硅层25、第二镍铬层31、第二银层32、第二氧化锌层33与第三氮化硅层34；

所述第一氮化硅层21的厚度为45nm、第一镍铬层22的厚度为1nm、第一银层23的厚度为5nm、第一氧化锌层24的厚度为5nm、第二氮化硅层25的厚度为75nm、第二镍铬层31的厚度为1nm、第二银层32的厚度为10nm、第二氧化锌层33的厚度为5nm、第三氮化硅层34的厚度为40nm。

各膜层可采用磁控溅射工艺，通入工作气体与反应气体依次溅镀，为了得到更优质的产品，现用表格形式提供磁控溅射时的参数，见表1。

表1

对本实施例得到的产品进行光学检测，结果见表2。

表2

实施例二

如图1所示，本实用新型提供一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底11，玻璃基底11顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层21、第一镍铬层22、第一银层23、第一氧化锌层24、第二氮化硅层25、第二镍铬层31、第二银层32、第二氧化锌层33与第三氮化硅层34；

所述第一氮化硅层21的厚度为35nm、第一镍铬层22的厚度为1nm、第一银层23的厚度为8nm、第一氧化锌层24的厚度为20nm、第二氮化硅层25的厚度为65nm、第二镍铬层31的厚度为0.5nm、第二银层32的厚度为8nm、第二氧化锌层33的厚度为20nm、第三氮化硅层34的厚度为60nm。

各膜层可采用磁控溅射工艺，通入工作气体与反应气体依次溅镀，为了得到更优质的产品，现用表格形式提供磁控溅射时的参数，见表3。

表3

对本实施例得到的产品进行光学检测，结果见表4。

表4

实施例三

如图1所示，本实用新型提供一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底11，玻璃基底11顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层21、第一镍铬层22、第一银层23、第一氧化锌层24、第二氮化硅层25、第二镍铬层31、第二银层32、第二氧化锌层33与第三氮化硅层34；

所述第一氮化硅层21的厚度为40nm、第一镍铬层22的厚度为2nm、第一银层23的厚度为6nm、第一氧化锌层24的厚度为15nm、第二氮化硅层25的厚度为90nm、第二镍铬层31的厚度为0.5nm、第二银层32的厚度为9nm、第二氧化锌层33的厚度为10nm、第三氮化硅层34的厚度为50nm。

各膜层可采用磁控溅射工艺，通入工作气体与反应气体依次溅镀，为了得到更优质的产品，现用表格形式提供磁控溅射时的参数，见表5。

表5

对本实施例得到的产品进行光学检测，结果见表6。

表6

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。

Claims (1)

1.一种高透硅基可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层与第三氮化硅层；

所述第一氮化硅层的厚度为35～45nm、第一镍铬层的厚度为1～2nm、第一银层的厚度为5～8nm、第一氧化锌层的厚度为5～20nm、第二氮化硅层的厚度为65～90nm、第二镍铬层的厚度为0.5～1nm、第二银层的厚度为8～10nm、第二氧化锌层的厚度为5～20nm、第三氮化硅层的厚度为40～60nm。