CN206869704U - 一种新型地面抛光磨块 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型地面抛光磨块，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体，所述研磨体上设置有多个抛光块，至少一个抛光块的抛光面是由抛光平面与斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为斜面的最高边，所述的多个抛光块之间通过纵横交错的凹槽相连通。本实用新型优点的优点在于：结构简单，能够快速处理地坪及大理石花岗岩的翻新以及剪口打磨，快速抛光、提高了工作效率。同时，由于在抛光块的抛光面上斜面的设置，使得抛光平面与地面接触打磨的过程中，产生的粉屑能够及时经由斜面滑落于各个抛光块之间的凹槽中，然后沿着凹槽画出研磨体，粉屑的及时排出，在提供磨块打磨抛光效率的同时，延长了抛光磨块的使用寿命。

Description

一种新型地面抛光磨块

技术领域

本实用新型涉及磨具磨料，尤其涉及一种新型地面抛光磨块。

背景技术

近年来，研磨用磨块从普通的碳化硅、普通磨块发展到耐磨锋利的金刚石磨块。现有的金刚石磨块结构较为复杂，加工工艺比较繁琐，耗时耗力。此外，在快速的对地面进行打磨石材抛光时，所产生的粉屑容易残留于磨块的间隙中，不便于清理，工作者在进行地面打磨时效率低，增加了人力成本，同时也降低了磨块的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种新型地面抛光磨块，以解决现有地面抛光磨块结构复杂，打磨抛光效率低、产生粉屑不利于清理导致使用寿命缩短等问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种新型地面抛光磨块，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体，所述研磨体上设置有多个抛光块，且至少一个抛光块的抛光面是由抛光平面与斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为斜面的最高边，所述的多个抛光块之间通过纵横交错的凹槽相连通。

进一步地，本实用新型所述抛光面由一个抛光平面和一个或者两个斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为各斜面的最高边。

进一步地，本实用新型所述抛光平面是由一个抛光平面和两个斜面组成的抛光块数量为4个，分别分布于研磨体的圆心位置的左上、右上、左下、右下位置，4个抛光块大小相同、且以研磨体的圆心为旋转对称中心旋转对称，旋转角为π/2。

进一步地，本实用新型所述研磨体包括正面和反面，所述抛光块设置于研磨体的正面，所述研磨体的反面还设置有魔术贴毛面，所述魔术贴毛面通过胶黏剂固定在所述研磨体上，所述研磨体与抛光块一体热压成型。

进一步地，本实用新型所述抛光磨块的厚度为5-15mm。

进一步地，本实用新型所述研磨体的直径为80-84mm。

进一步地，本实用新型所述研磨体和抛光块均为高分子树脂材料为结合剂的金刚石研磨体和抛光块。

本实用新型具有以下优点：本实用新型提供的新型地面抛光磨块，结构简单，能够快速处理地坪及大理石花岗岩的翻新以及剪口打磨，快速抛光、提高了工作效率。同时，由于在抛光块的抛光面上斜面的设置，使得抛光平面与地面接触打磨的过程中，产生的粉屑能够及时经由斜面滑落于各个抛光块之间的凹槽中，然后沿着凹槽画出研磨体，粉屑的及时排出，在提供磨块打磨抛光效率的同时，延长了抛光磨块的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型一实施例涉及的新型地面抛光磨块的结构示意图；

图2为本实用新型一实施例涉及的新型地面抛光磨块的俯视示意图；

图3为本实用新型一实施例涉及的新型地面抛光磨块的主视示意图；

附图标记说明：

1、研磨体；

2、抛光块；

31、抛光平面；32、斜面；

4、凹槽；

5、魔术贴毛面；

具体实施方式

为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。

如图1至3所示，本实用新型的技术方案是这样实现的：一种新型地面抛光磨块，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体1，所述研磨体1上设置有多个抛光块2，至少一个抛光块2的抛光面是由抛光平面31与斜面32组成，所述斜面32与抛光平面31共用边为斜面32的最高边，所述的多个抛光块2之间通过纵横交错的凹槽4相连通。本实用新型地面抛光磨块主要用于对金刚砂地坪或者大理石地坪进行剪口打磨、整平以及抛光，使得地面富有光泽、更加的美观大方；金刚石研磨体1作为整个磨块的主体，主要用于承载抛光块2以及将整个抛光磨块与打磨机械(地坪研磨机)连接，使用机械操控抛光磨块打磨进一步提高工作效率；抛光块2用于对待打磨、抛光的地坪、地面进行整平、上光，具体的，通过抛光块2的抛光面与地面直接进行接触，通过来回往复的摩擦对地坪上微小的不平整之处进行整平、上光，从而增加消费者的美观体验。

抛光平面31直接与地面接触，在抛光平面31与地面接触时，因为斜面32与抛光平面31共用边为斜面32的最高边，所以斜面32与地坪直接会有间隙出现，那么在抛光平面31与地坪接触打磨过程中产生的粉屑就会沿着斜面32落入到抛光块2之间设置的凹槽4中，及时的将粉屑排出，从而防止粉屑未及时排出，在抛光块2与地坪打磨过程中，较大的压力的作用下，使得粉屑吸附在地坪或者抛光平面31上，影响抛光磨块的打磨抛光效果、工作效率，缩短抛光磨块的使用寿命。此外，在整个抛光面分割出与地坪直接接触的抛光平面31与斜面32，在抛光平面31与地坪直接接触时，斜面32与地坪之间形成间隙，这种结构的设置较之与整个抛光面与地面接触，与地面接触的面积变小，在相同的作用力压强增大产生的切削力使得其打磨、抛光的效率进一步提高，抛光效果更好。

请参阅图1和图3，优选的实施例中，我们可以在设置于研磨体1上的所有的抛光块2的抛光面上都分割出抛光平面31与斜面32，从而达到好的粉屑排出效果、提高切削、打磨效率，提高抛光效果；当然了，是否在抛光面上设置斜面32结构，需要生产者根据各磨块抛光面的面积大小确定，如图1所示的，位于研磨体1边缘处的抛光块2的面积较小，此时我们就没有设置斜面32的必要，设置斜面32必然导致抛光平面31的面积变小，抛光平面31面积过小容易导致与该平面接触处的切削打磨力过大，使得打磨出现不均匀的情况，从而影响打磨抛光效果。

如图1所示的，进一步的实施例中，本实用新型所述抛光面由一个抛光平面31和一个或者两个斜面32组成，所述斜面32与抛光平面31共用边为各斜面32的最高边。抛光面上设置一个抛光平面31和一个斜面32，那么抛光平面31与地坪接触打磨过程中产生的粉屑，少量的粉屑由抛光平面31边缘直接落入到凹槽4中，大部分粉屑沿着斜面32落入到凹槽4中，排屑效果较好；抛光面上设置一个抛光平面31和两个斜面32，抛光平面31位于两个斜面32之间，斜面32与抛光平面31共用边为各斜面32的最高边，抛光平面31与地坪接触打磨过程中产生的粉屑，沿着两个斜面32落入到凹槽4中，这种结构的抛光块2排屑的效果更好。抛光块2的抛光面是由一个抛光平面31和一个斜面32组成，还是由一个抛光平面31和两个甚至多个斜面32组成，主要根据实际生产中抛光块2以及抛光面的大小确定。

请参阅图1和图3，在具体的实施例中，本实用新型所述抛平面是由一个抛光平面31和两个斜面32组成的抛光块2数量为4个，分别分布于研磨体1的圆心位置的左上、右上、左下、右下位置，4个抛光块2大小相同、且以圆心为旋转对称中心旋转对称，旋转角为π/2。在图1所示的抛光磨块中，抛光块2根据所设置的位置以及抛光面面积的大小，设置了三种不同样式的抛光块2，只设有抛光平面31的4个抛光块2，设有一个抛光平面31和一个斜面32的4个抛光块2，均以圆心为旋转对称中心旋转对称，旋转角为π/2。这种结构的新型地面抛光磨块，结构设置合理，外观也较为美观大方，极具市场前景。

如图2所示的实施例中，本实用新型所述研磨体1包括正面和反面，所述抛光块2设置于研磨体1的正面，所述研磨体1的反面还设置有魔术贴毛面5，所述魔术贴毛面5通过胶黏剂固定在所述研磨体1上，所述研磨体1与抛光块2一体热压成型。热压成型是塑料加工业中简单、普遍之加工方法，主要是利用加热加工模具后，注入试料，以压力将模型固定于加热板，控制试料之熔融温度及时间，以达融化后硬化、冷却，再予以取出模型成品即可。研磨体1与抛光块2一体热压成型加工制造简单，而且研磨体1与抛光块2之间固定的更加牢固。魔术贴毛面5用来与地坪研磨机上的魔术贴进行粘合固定，并且采用这种固定方式，结构简单、固定方便、牢固，能够大大提高抛光磨块与地坪研磨机的固定连接效率。进一步的实施例中，本实用新型所述抛光磨块的厚度为5-15mm；研磨体1的直径为80-84mm。

进一步的实施例中，本实用新型所述研磨体1和抛光块2均为高分子树脂材料为结合剂的金刚石研磨体1和抛光块2。本实用新型抛光磨块主要成分为金刚石和树脂，金刚石树脂硬度高、强度大、研磨能力强、主要用于研磨高而硬的合金、非金属材料、切割硬而脆硬质合金、非金属矿物等，如硬质合金、陶瓷、玛瑙、光学玻璃、半导体材料和耐磨铸铁、石材等。

本实用新型优点的优点在于：本实用新型提供的新型地面抛光磨块，结构简单，能够快速处理地坪及大理石花岗岩的翻新以及剪口打磨，快速抛光、提高了工作效率。同时，由于在抛光块的抛光面上斜面的设置，使得抛光平面与地面接触打磨的过程中，产生的粉屑能够及时经由斜面滑落于各个抛光块之间的凹槽中，然后沿着凹槽画出研磨体，粉屑的及时排出，在提供磨块打磨抛光效率的同时，延长了抛光磨块的使用寿命。

尽管已经对上述各实施例进行了描述，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改，所以以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利保护范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围之内。

Claims (6)

1.一种新型地面抛光磨块，其特征在于，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体，所述研磨体上设置有多个抛光块，且至少一个抛光块的抛光面是由抛光平面与斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为斜面的最高边，所述的多个抛光块之间通过纵横交错的凹槽相连通；所述研磨体包括正面和反面，所述抛光块设置于研磨体的正面，所述研磨体的反面还设置有魔术贴毛面，所述魔术贴毛面通过胶黏剂固定在所述研磨体上，所述研磨体与抛光块一体热压成型。

2.如权利要求1所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光面由一个抛光平面和一个或者两个斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为各斜面的最高边。

3.如权利要求2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光平面是由一个抛光平面和两个斜面组成的抛光块数量为4个，分别分布于研磨体的圆心位置的左上、右上、左下、右下位置，4个抛光块大小相同、且以研磨体的圆心为旋转对称中心旋转对称，旋转角为π/2。

4.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光磨块的厚度为5-15mm。

5.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述研磨体的直径为80-84mm。

6.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述研磨体和抛光块均为高分子树脂材料为结合剂的金刚石研磨体和抛光块。