CN206796141U - 一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，它包括传动装置和施釉装置，该传动装置设置在流水线平台上，该施釉装置设置在流水线顶蓬和流水线平台上，该传动装置包括第一传动组件和第二传动组件，且所述第一传动组件和所述第二传动组件平行设置；该施釉装置包括第一施釉组件、第二施釉组件和吸附组件，该第一施釉组件悬垂设置在流水线顶蓬上，该第二施釉组件固定设置在流水线平台上，吸附组件悬垂在所述流水线顶蓬上。利用两组传送带，将已经施釉完全的陶瓷工件和未完全施釉的陶瓷工件完全分开，避免上釉不全面或上釉重复的现象，此装置能够可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低的陶瓷正反面自动上釉装置。

Description

一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷施釉领域，具体而言，涉及一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置。

背景技术

陶瓷的工艺流程分为练泥、拉坯、印坯、利坯、晒坯、刻花、施釉、烧窑等十几道工序，施釉在陶瓷制作过程中，在烧制好的毛坯上涂覆上一层玻璃质的釉层，主要起到保护和装饰作用。

但现目前的施釉技术还处于手工上釉的阶段，要么采用手工浸釉法，要么采用手工喷釉法。手工浸釉法能够将釉料均匀的敷在陶瓷胚体表面，即时再复杂的形体也不例外，但是在使用这种方法时，为了使坯体能整个的浸入釉浆中，需要较多量的釉浆，因此并不适用与大型坯体，并且浸泡的时间也不好确定，时间太短，釉液太薄，时间太长，釉液太厚，不易掌握。而手工喷釉法则是由工人手持喷釉枪进行喷釉，但是这种方式因为手持喷枪具有不稳定性，难以控制各件陶瓷坯件总体喷釉时间，也难以控制每件陶瓷坯件各个部位喷釉时间均匀，难以确保各个部位喷釉均匀，同样存在釉层不均匀的质量问题。

综上所述，手工上釉不仅工作量大，浪费釉液，还导致增加陶瓷产品的制作时间，质量也得不到保证，不能实现大规模的量产。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，利用两组传送带，将已经施釉完全的陶瓷工件和未完全施釉的陶瓷工件完全分开，避免上釉不全面或上釉重复的现象，此装置能够可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低的陶瓷正反面自动上釉装置。

本实用新型的实施例是这样实现的：

一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，它包括传动装置和施釉装置，传动装置设置在流水线平台上，施釉装置设置在流水线顶蓬和流水线平台上，传动装置包括第一传动组件和第二传动组件，且第一传动组件和第二传动组件平行设置；施釉装置包括第一施釉组件、第二施釉组件和吸附组件，第一施釉组件悬垂设置在流水线顶蓬上，第二施釉组件固定设置在流水线平台上，吸附组件悬垂在流水线顶蓬上。

在本实用新型的较佳实施例中，第一传动组件包括第一输送带、第一传送滚轴、第二传送滚轴和传动电机，第二传动组件包括第二输送带、第三传送滚轴、第四传送滚轴和传动电机，第一输送带和第二输送带平行设置，且中间留有间隙，第一传送滚轴和第二传送滚轴设置在第一输送带内，第三传送滚轴和第四传送滚轴设置在第二输送带内，传送电机与所有传送滚轴连接。

在本实用新型的较佳实施例中，第一施釉组件包括釉液桶、第一釉液管道、釉液雾化器、釉液喷头，釉液桶固定设置在流水线顶蓬上，釉液桶设置有第一开口和第二开口，第一开口上设置有螺纹突起，第二开口设置在第一开口相对一侧，第一釉液管道与第二开口连接，釉液雾化器与第一釉液管道连接设置，釉液喷头设置在釉液管道尾端。

在本实用新型的较佳实施例中，釉液桶中还设置有搅拌电机、搅拌轴承和搅拌叶片，搅拌电机悬垂固定设置在釉液桶顶端，搅拌轴承与搅拌电机固定设置在一起，搅拌叶片与搅拌轴承相连接。

在本实用新型的较佳实施例中，第二施釉组件在第一施釉组件的基础上还包括增压泵，增压泵设置在釉液雾化器与釉液喷头之间，并与第一釉液管道连接。

在本实用新型的较佳实施例中，吸附组件包括微型真空泵、吸附吸盘、横向滑轨、纵向滑轨以及连接杆，微型真空泵设置在流水线顶蓬上并与横向滑轨连接，横向滑轨固定设置在流水线顶蓬上，并与第一传送带垂直设置，纵向滑轨与横向滑轨连接，悬垂设置在横向滑轨上，连接杆与纵向滑轨连接设置，吸附吸盘设置在连接杆上。

在本实用新型的较佳实施例中，全方位施釉装置还包括釉液回收装置，釉液回收装置设置在流水线平台下。

在本实用新型的较佳实施例中，釉液回收装置包括釉液过滤组件和釉液再利用组件，釉液过滤装置设置在流水线平台下，釉液再利用组件与釉液过滤装置和釉液桶连接。

在本实用新型的较佳实施例中，釉液过滤组件包括釉液回收罩、釉液过滤槽、第二釉液管道和过滤滤网，釉液回收罩设置在整个施釉装置***，釉液过滤槽固定设置在流水线平台下方，并在过滤槽中间位置设置有第三开口，过滤滤网设置在釉液过滤槽底部，第二釉液管道与第三开口连接设置。

在本实用新型的较佳实施例中，釉液再利用组件包括釉液回收槽、第三釉液管道和回收搅拌器，釉液回收槽为桶状封闭装置，并设置有第四开口和第五开口，第二釉液管道与第四开口相连，第五开口与第三釉液管道相连，回收搅拌器设置在釉液回收槽内。

本实用新型实施例的有益效果是：利用两组传送带，将已经施釉完全的陶瓷工件和未完全施釉的陶瓷工件完全分开，避免上釉不全面或上釉重复的现象，此装置能够可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低的陶瓷正反面自动上釉装置。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本实用新型实施例的全方位施釉装置结构图；

图2为本实用新型实施例的传动装置结构图；

图3为本实用新型实施例的施釉装置结构图；

图4为本实用新型实施例的釉液回收装置结构图。

图标：100-传动装置；200-施釉装置；300-釉液回收装置；A-流水线顶蓬；B-流水线平台；110-第一传动组件；120-第二传动组件；111-第一输送带；121-第二输送带；122-第三传送滚轴；123-第四传送滚轴；210-第一施釉组件；220-第二施釉组件；230-吸附组件；211-釉液桶；212-第一釉液管道；213-釉液雾化器；214-釉液喷头；215-搅拌电机；216-搅拌轴承；217-搅拌叶片；231-微型真空泵；232-吸附吸盘；233-横向滑轨；234-纵向滑轨；235-连接杆；310-釉液过滤组件；320-釉液再利用组件；311-釉液回收罩；312-釉液过滤槽；313-第二釉液管道；314-过滤滤网；321-釉液回收槽；322-第三釉液管道；323-回收搅拌器；324-回收搅拌电机；325-回收搅拌轴承；326-回收搅拌叶片；221-增压泵。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，术语“水平”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

第一实施例

请参见图1，一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置200，它包括传动装置100、施釉装置200和釉液回收装置300。

传动装置100设置在流水线平台B上，施釉装置200设置在流水线顶蓬A和流水线平台B上，釉液回收装置300与施釉装置200连接设置在流水线平台B下方。

请参见图2，传动装置100包括第一传动组件110和第二传动组件120，第一传动组件110和第二传动组件120平行设置，其中第一传动组件110包括第一输送带111、第一传送滚轴、第二传送滚轴和传动电机，第二传动组件120包括第二输送带121、第三传送滚轴122、第四传送滚轴123和传动电机。

第一输送带111和第二输送带121平行设置，并中间留有间隙，第一传送滚轴和第二传送滚轴设置在第一输送带111内，第三传送滚轴122和第四传送滚轴123设置在第二输送带121内，传送电机与第一传送滚轴、第二传送滚轴、第三传送滚轴122和第四传送滚轴123连接。

请参见图1，施釉装置200包括第一施釉组件210，第二施釉组件220和吸附组件230。第一施釉组件210悬垂设置在流水线顶蓬A上，第二施釉组件220固定设置在流水线平台B上，吸附组件230悬垂在流水线顶蓬A上。

请参见图3，第一施釉组件210包括釉液桶211、第一釉液管道212、釉液雾化器213、釉液喷头214。釉液桶211固定设置在流水线顶蓬A上，釉液桶211上设置有第一开口和第二开口，第一开口上设置有螺纹突起，第二开口设置在第一开口相对一侧，第一釉液管道212与第二开口连接设置，釉液雾化器213与第一釉液管道212连接设置，釉液喷头214设置在釉液管道尾端。

第二施釉组件220和第一施釉组件210的部件大体相同，都包括釉液桶211、第一釉液管道212、釉液雾化器213、釉液喷头214，除此之外，第二施釉装置200还包括增压泵221，设置在釉液雾化器213与喷头之间，并与第一釉液管道212连接设置。第二施釉装置200的作用在于，为克服釉液因为重力原因导致的釉液喷洒不充分问题。

作为优化，釉液桶211中还设置有釉液搅拌器，包括搅拌电机215、搅拌轴承216和搅拌叶片217。搅拌电机215悬垂固定设置在釉液桶211顶端，搅拌轴承216与搅拌电机215固定设置在一起，搅拌叶片217与搅拌轴承216相连接。

请参见图1，吸附组件230包括微型真空泵231、吸附吸盘232、横向滑轨233、纵向滑轨234以及连接杆235。

微型真空泵231固定设置在流水线顶蓬A上，并与横向滑轨233和纵向滑轨234连接；横向滑轨233和纵向滑轨234经微型真空泵231驱动，横向或纵向移动，横向滑轨233固定设置在流水线顶蓬A上，并与第一传送带垂直设置；纵向滑轨234与横向滑轨233连接，悬垂设置在横向滑轨233上；连接杆235与纵向滑轨234连接设置，并平行于纵向滑轨234设置；吸附吸盘232设置在连接杆235上。

请参见图4，釉液回收装置300包括釉液过滤组件310和釉液再利用组件320。

釉液过滤组件310设置在流水线平台B下，它包括釉液回收罩311、釉液过滤槽312、第二釉液管道313和过滤滤网314。釉液回收罩311包裹在整个施釉装置200，并且釉液回收罩311内附着一层疏水性纳米涂层，使釉液在接触釉液回收罩311时立刻形成水珠滚落到釉液过滤槽312进行过滤，釉液回收罩311顶部还设置有并排通孔；釉液过滤槽312固定设置在流水线平台B下方，用于收集未使用的釉液，并且在过滤槽中间位置设置有第三开口；过滤滤网314设置在釉液过滤槽312底部；第二釉液管道313与第三开口连接设置。

釉液再利用组件320通过第二釉液管道313与釉液过滤组件310连接设置，它包括釉液回收槽321、第三釉液管道322、回收搅拌器323。釉液回收槽321为桶状封闭装置，并设置有第四开口和第五开口，第二釉液管道313与第四开口相连，第五开口与第三釉液管道322相连；第三釉液管道322与第五开口相连，并与釉液回收罩311中的通孔连接设置；回收搅拌器323设置在釉液回收槽321内，它包括回收搅拌电机324、回收搅拌轴承325和回收搅拌叶片326。回收搅拌电机324悬垂固定设置在釉液回收槽321顶端，回收搅拌轴承325与回收搅拌电机324固定设置在一起，回收搅拌叶片326与回收搅拌轴承325相连接。

请参见图1和图2该传动装置100的工作原理是电源开启后，传动电机使第一传动组件110的第一传送滚轴和第二传送滚轴匀速滚动，带动第一输送带111上的陶瓷工件匀速前进；进入到第一施釉组件210领域时，第一施釉组件210向下喷洒釉液；第一次施釉喷洒完毕后，进入吸附组件230领域，纵向导轨向下移动，连接杆235上的吸盘将陶瓷工件牢牢吸附，同时横向导轨第二施釉组件220领域移动；当横向导轨移动到第二施釉组件220领域时，第二施釉组件220向上喷射釉液；当第二次釉水喷射完毕后，横向导轨再向第二传动组件120移动，同时吸盘进气，陶瓷工件脱落到第二传动组件120处，同时传动电机驱使第三传送滚轴122和第四传送滚轴123匀速滚动，带动带有施釉全面的陶瓷工件的第二输送带121匀速前进。

该传动装置100由两个传动组件构成，将施釉未完全和全方位施釉完毕后的陶瓷工件分开，杜绝了施釉未完全混入施釉完全的陶瓷工件的情况，操作简单，提高效率。

请参见图1、2、3，该施釉装置200的工作原理是电源开启后釉液桶211中的搅拌电机215驱动搅拌轴承216旋转，搅拌轴承216带动搅拌叶片217旋转，使釉液均匀不会产生沉淀；搅拌均匀后的釉液经过第一釉液管道212进入釉液雾化器213，釉液雾化器213使釉液雾化后，使喷洒出的釉液厚度均匀，从釉液喷头214中喷洒出去完成第一次釉液喷洒；此时纵向导轨向下移动，使用真空吸盘方法，吸附力大，不易脱落，更不易破坏易碎的陶瓷工件，通过利用微型真空泵231加电后，吸气口产生的负压和外界大气压产生压力差，使吸附吸盘232和陶瓷工件牢牢吸住；随后，横向导轨向右移动，经过第二施釉组件220处，第二施釉组件220同样使用搅拌均匀后的釉液，并经过第一釉液管道212进入釉液雾化器213，此时第二施釉组件220中的增压泵221通过启动增压泵221内的离心泵使增压泵221中的叶轮快速转动以此增压后，进入釉液喷头214，完成第二次釉液喷洒；完成第二次釉液喷洒后，横向导轨继续往右移动，此时借助微型真空泵231中的电磁阀切换***气流方向，微型真空泵231中的电机反转充气，将外界空气充到吸盘内，快速释放陶瓷工件，施釉过程完毕。整个过程由数控设备进行喷洒釉液时间控制以及传送速度一致，以确保所有陶瓷工件施釉厚度一致。

请参见图1-4，釉液回收装置300的工作原理是在经过第一次釉液喷洒后，多余的釉液在接触釉液回收罩311后形成水滴顺着釉液回收罩311流下，流经釉液过滤槽312底部，经过过滤滤网314从第二釉液管道313流出，进入釉液回收槽321中，釉液回收槽321中的回收搅拌电机324开始运转，带动回收搅拌轴承325旋转，回收搅拌轴承325带动叶片旋转，使釉液搅拌均匀后经过釉液回收泵将搅拌均匀的釉液抽回釉液桶211中，实现二次利用。

综上所述，本实用新型利用两组传送带，将已经施釉完全的陶瓷工件和未完全施釉的陶瓷工件完全分开，避免上釉不全面或上釉重复的现象，此装置能够可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低的陶瓷正反面自动上釉装置。

本说明书描述了本实用新型的实施例的示例，并不意味着这些实施例说明并描述了本实用新型的所有可能形式。应理解，说明书中的实施例可以多种替代形式实施。附图无需按比例绘制；可放大或缩小一些特征以显示特定部件的细节。公开的具体结构和功能细节不应当作限定解释，仅仅是教导本领域技术人员以多种形式实施本实用新型的代表性基础。本领域内的技术人员应理解，参考任一附图说明和描述的多个特征可以与一个或多个其它附图中说明的特征组合以形成未明确说明或描述的实施例。说明的组合特征提供用于典型应用的代表实施例。然而，与本实用新型的教导一致的特征的多种组合和变型可以根据需要用于特定应用或实施。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，它包括传动装置和施釉装置，所述的传动装置设置在流水线平台上，所述的施釉装置设置在流水线顶蓬和流水线平台上，所述的传动装置包括第一传动组件和第二传动组件，且所述第一传动组件和所述第二传动组件平行设置；所述的施釉装置包括第一施釉组件、第二施釉组件和吸附组件，所述第一施釉组件设置在所述流水线顶蓬上，所述第二施釉组件固定设置在所述流水线平台上，所述吸附组件设置在所述流水线顶蓬上。

2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述第一传动组件包括第一输送带、第一传送滚轴、第二传送滚轴和传动电机，所述第二传动组件包括第二输送带、第三传送滚轴、第四传送滚轴和传动电机，所述第一输送带和所述第二输送带平行设置，且中间留有间隙，所述第一传送滚轴和所述第二传送滚轴设置在所述第一输送带内，所述第三传送滚轴和所述第四传送滚轴设置在所述第二输送带内，所述传送电机与所有传送滚轴连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述第一施釉组件包括釉液桶、第一釉液管道、釉液雾化器和釉液喷头，所述釉液桶固定设置在流水线顶蓬上，所述釉液桶设置有第一开口和第二开口，所述第一开口上设置有螺纹突起，所述第二开口设置在所述第一开口相对一侧，所述第一釉液管道与所述第二开口连接，所述釉液雾化器与所述第一釉液管道连接，所述釉液喷头设置在所述釉液管道的尾端。

4.根据权利要求3所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述釉液桶中还设置有搅拌组件，所述搅拌组件包括搅拌电机、搅拌轴承和搅拌叶片，所述搅拌电机悬垂固定设置在所述釉液桶顶端，所述搅拌轴承与所述搅拌电机固定设置在一起，所述搅拌叶片与所述搅拌轴承相连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述第二施釉组件包括增压泵，所述增压泵设置在釉液雾化器与釉液喷头之间，并且所述增压泵与第一釉液管道连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述吸附组件包括微型真空泵、吸附吸盘、横向滑轨、纵向滑轨以及连接杆，所述微型真空泵固定设置在流水线顶蓬上，所述横向滑轨固定设置在流水线顶蓬上，并与第一传送带垂直设置，所述纵向滑轨与横向滑轨连接，悬垂设置在横向滑轨上，所述连接杆与纵向滑轨连接设置，所述吸附吸盘设置在连接杆上。

7.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述全方位施釉装置还包括釉液回收装置，所述釉液回收装置设置在流水线平台下。

8.根据权利要求7所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述釉液回收装置包括釉液过滤组件和釉液再利用组件，釉液过滤装置设置在流水线平台下，釉液再利用组件与釉液过滤装置和釉液桶连接。

9.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，釉液过滤组件包括釉液回收罩、釉液过滤槽、第二釉液管道和过滤滤网，所述釉液回收罩设置在整个施釉装置***，所述釉液过滤槽固定设置在流水线平台下方，并在过滤槽中间位置设置有第三开口，所述过滤滤网设置在釉液过滤槽底部，所述第二釉液管道与第三开口连接设置。

10.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置，其特征在于，所述釉液再利用组件包括釉液回收槽、第三釉液管道和回收搅拌器，所述釉液回收槽为桶状封闭装置，并设置有第四开口和第五开口，第二釉液管道与第四开口相连，第五开口与所述第三釉液管道相连，所述回收搅拌器设置在釉液回收槽内。