CN206275338U - 一种指甲抛光条 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿的底部固定在基板上。该抛光条能够将指甲表面打磨抛光，使指甲表面呈现光亮美观的色泽，无需使用对人体有危害的指甲油或洗甲水即可美化指甲表面，达到美甲的效果。

Description

一种指甲抛光条

技术领域

本实用新型涉及一种美容器具，具体涉及一种指甲抛光条。

背景技术

人类的指甲是皮肤附件之一，属于***。指甲甲床的血管和神经特别丰富，指甲也是肝脏毒素的一个***口，同时指甲更是爱美女士手部护理的最重要部分，拥有靓丽的指甲是很多女士的梦想。

常用的指甲油多含有丙酮、乙酸乙酯、邻苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化学物质，对人体有害无益，长期涂覆指甲油会损害指甲健康，再加上指甲油对指甲的包裹使指甲不能及时排除肝脏毒素，这更是对肝脏的一种损伤。当指甲长出一部分时，新长出部分就没有指甲油覆盖，为了美观不得不用洗甲水清洗指甲油而重新涂覆，洗甲水主要原料为丙酮，对人体的伤害更甚于指甲油，长期接触指甲油和洗甲水将对人体造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生产制造和使用后产生的废料也会对环境造成一定的污染。

发明内容

为了解决上述技术问题，本实用新型公开一种指甲抛光条，该抛光条能够将指甲表面打磨抛光，使指甲表面呈现光亮美观的色泽，无需使用对人体有危害的指甲油或洗甲水即可美化指甲表面，达到美甲的效果。

本实用新型通过下述技术方案实现：

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿的底部固定在基板上。

指甲是皮肤附件之一，属于***。指甲甲床的血管和神经特别丰富，指甲也是肝脏毒素的一个***口，目前指甲的护理美化多采用涂覆指甲油的方式，常用的指甲油含有丙酮、乙酸乙酯、邻苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化学物质，对人体有害无益，长期涂覆指甲油会损害指甲健康，再加上指甲油对指甲的包裹使指甲不能及时排除肝脏毒素，这更是对肝脏的一种损伤。涂覆指甲油的同时难免还需要使用洗甲水，洗甲水主要原料为丙酮，对人体的伤害更甚于指甲油，长期接触指甲油和洗甲水将对人体造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生产制造和使用后产生的废料也会对环境造成一定的污染。

本实用新型一种指甲抛光条，通过在基板上加工一层抛光层，抛光层包含密集分布抛光齿，利用大量微小的抛光齿对指甲表面进行打磨抛光，消除指甲表面原有凹凸不平的纹理，使指甲表面平整光滑细腻，并带有亮丽的光泽，达到类似涂覆指甲油后的视觉效果，因此本实用新型抛光条在无需使用指甲油的情况下，能够使指甲达到光洁亮丽的视觉效果，美化指甲外观，避免指甲和人体遭受指甲油和洗甲水的危害。既保证了指甲美观，又使人体免于有毒化学物质的损害，达到安全健康的美甲效果。

所述抛光齿呈垂直于基板的柱形，抛光齿径向最大宽度为150～250μm，抛光齿间的间距为80～150μm。

本申请发明人做了大量尝试，发现当抛光齿径向最大宽度在150～250μm，抛光齿间的间距在80～150μm范围内时，抛光条能够对指甲表面进行抛光，消除指甲表面凹凸不平的纹理和瑕疵，使指甲表面光泽细腻，可替代指甲油对指甲表面进行美化处理，避免人体遭受指甲油和洗甲水的侵害。

当抛光齿径向最大宽度超出150～250μm范围，抛光齿间的间距超出80～150μm范围时，其抛光后的指甲表面较粗糙，光泽度差，或者无法进行抛光打磨，难以在不使用指甲油的情况下使指甲美观。

所述抛光齿呈垂直于基板的柱形，抛光齿径向最大宽度为180～220μm，抛光齿间的间距为100～110μm。

在发明人的大量反复试验过程中，发现当抛光齿径向最大宽度为180～220μm，抛光齿间的间距为100～110μm时，抛光条的抛光效果最佳，抛光后的指甲表面光滑细腻，光泽度高，能够完全替代指甲油使指甲表面美观亮丽。

所述抛光齿高度为18～22μm。当抛光齿高度低于18μm时，抛光过程中指甲碎屑容易很快将抛光齿间间隙填充满，使抛光条无法继续抛光，需要经过清理抛光齿间隙后使用，影响抛光效率和用户体验。

所述抛光齿形状为圆柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一种。

本实用新型是利用微米级的抛光齿顶面边缘的棱角作用于指甲表面，对指甲表面进行切削，将现有打磨工具难以处理的指甲表面最细微的突起或瑕疵处理干净，使指甲表面光滑细腻，并产生亮丽的光泽，达到打磨抛光指甲的效果，美化指甲。

抛光齿底部与基板连接为一体式。

所述基板和抛光齿的材质为玻璃。

所述基板和抛光齿的材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。

由于基板和抛光齿材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃这一类硬度较高的玻璃，而人体指甲相对硬度低，因此抛光齿顶面能够对指甲进行打磨抛光且自身难以被磨损，延长其使用寿命，且不会因为抛光齿磨损变形而影响抛光效果。

所述抛光齿顶部覆有一层铬层。铬层硬度高于玻璃，其厚度为100nm，用于保护抛光齿顶面不被硬物磨损，同时能够改善抛光条的颜色和外观。

所述抛光层为两层，分别固定在基板的上表面和下表面，且上下两层抛光层的抛光齿直径不同、抛光齿间距不同。所述基板一侧连接一个手柄。

本实用新型其中一层抛光齿的直径更大、抛光齿也更大，另一层抛光齿直径和抛光齿间距适中，尺寸更大的那一层抛光齿用于对指甲表面较明显的凸起进行打磨，减小精磨所有时间，提高效率，并在一定程度上减缓另一面抛光齿的磨损速度，尺寸适中的那一层抛光齿用于对指甲表面微小的凸起或瑕疵进行精磨抛光，提高指甲光泽度和美观度。

一种指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为150～250μm、相互间距为100～150μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形、菱形、六边形和三角形中的一种，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

于玻去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

还可以在去除光刻胶后，去除柱状凸起上层的铬膜。再将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

所述高硬度玻璃板为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。且高硬度玻璃板厚度为2～4mm。

本实用新型的指甲抛光条的制备方法，通过光刻工艺和化学腐蚀的方法，在玻璃表面获得一定范围大小和一定范围深度的规律排布的微米级抛光齿，利用锐利的抛光齿顶面边缘的切削能力对指甲表面进行抛光，使指甲表面达到光滑亮丽的美甲效果，从而避免指甲油和洗甲水等有毒化工品对人体的伤害和对环境的污染，并且利用该方法制得的抛光条精度高、强度好、抛光效果佳、经久耐用。

本实用新型与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

本实用新型一种指甲抛光条，通过在基板上加工一层抛光层，抛光层包含密集分布抛光齿，利用大量微小的抛光齿对指甲表面进行打磨抛光，消除指甲表面原有凹凸不平的纹理，使指甲表面平整光滑细腻，并带有亮丽的光泽，达到类似涂覆指甲油后的视觉效果，在无需使用指甲油的情况下，能够使指甲达到光洁亮丽的视觉效果，避免指甲和人体遭受指甲油和洗甲水的危害。既保证了指甲美观，又使人体免于有毒化学物质的损害。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中：

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型实施例4抛光条示意图；

图3为本实用新型实施例4抛光条局部放大图；

图4为本实用新型实施例6抛光条局部放大图；

图5为本实用新型指甲抛光条的制备流程图。

附图中标记及对应的零部件名称：

1-基板，11-手柄，2-抛光层，3-抛光齿，4-掩膜版，41-玻璃板，42-铬膜，43-小凸点，5-基板复合层，51-铬膜，52-光刻胶。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本实用新型作进一步的详细说明，本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定。

实施例1

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的圆柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿直径为205μm，抛光齿间的间距为155μm，所述抛光齿高度为20μm。基板和抛光齿的材质为青玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为205μm、相互间距为155μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为2mm的青玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，可用肉眼分辨出抛光后的指甲表面具有很多细微的划痕，手感粗糙且无光泽，因此本实施例的抛光条虽然能够用于打磨指甲，但不能用于指甲抛光，无法达到使指甲光泽亮丽的效果。

实施例2

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的圆柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿直径为145μm，抛光齿间的间距为140μm，所述抛光齿高度为19μm。基板和抛光齿的材质为青玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为145μm、相互间距为140μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的青玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，在操作时较为费力，抛光条难以打磨抛光指甲，经处理后的指甲表面依然存在凹凸不平的指甲纹理，因此本实施例的抛光条不能用于指甲的打磨或抛光。

实施例3

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的圆柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿直径为150μm，抛光齿间的间距为150μm，所述抛光齿高度为20μm。基板和抛光齿的材质为青玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为150μm、相互间距为150μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为2mm的青玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，虽然无法用肉眼分辨出抛光后的指甲表面是否有划痕，且指甲表面光滑，但指甲色泽较为暗淡，带有哑光效果，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，使指甲表面具有光洁的哑光效果，可在一定程度上替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例4

如图1～3所示，一种指甲抛光条，包括基板1和抛光层2，所述抛光层2包括若干密集分布的抛光齿3，抛光齿3形状为轴线垂直于基板的圆柱，抛光齿3底部与基板1连接为一体式。其中，抛光齿3直径为165μm，抛光齿3间的间距为135μm，所述抛光齿3高度为18μm。基板1和抛光齿3的材质为青玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

本实施例中，所述抛光层2为两层，分别固定在基板1的上表面和下表面，且上下两层抛光层2的抛光齿3直径不同、抛光齿3间距不同。所述基板1一侧连接一个手柄11。

如图5所示，上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板41，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜42，铬膜42包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜42表面形成若干直径为165μm、相互间距为135μm的小凸点43，小凸点43顶面形状为圆形，即制得掩膜版4；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板1，本实施例采用厚度为3mm的青玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜51，再在铬膜51上旋涂一层光刻胶52，得到基板复合层5；

紫外光刻：将基板复合层5的光刻胶52与掩膜版4的铬膜42接触，使基板复合层5与掩膜版4紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层5与掩膜版4分离，再将基板复合层5置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点43接触部位的光刻胶52保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶52下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层5上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点43顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版4一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层5置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜51接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层5的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜51上方的光刻胶52即得抛光齿3。

最后将蚀刻好的基板1经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有光泽，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例5

一种指甲抛光条，包括基板1和抛光层2，所述抛光层2包括若干密集分布的抛光齿3，抛光齿3形状为轴线垂直于基板1的四棱柱，抛光齿3底部与基板1连接为一体式。其中，抛光齿3径向最大宽度为180μm，抛光齿3间的间距为120μm，所述抛光齿3高度为21μm。基板1和抛光齿3的材质为肖特B270超白玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为180μm、相互间距为120μm的小凸点，小凸点顶面形状为菱形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有较好的光泽度，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例6

如图1、4所示，一种指甲抛光条，包括基板1和抛光层2，所述抛光层2包括若干密集分布的抛光齿3，抛光齿3形状为轴线垂直于基板的六棱柱，抛光齿3底部与基板1连接为一体式。其中，抛光齿3径向最大宽度为190μm，抛光齿3间的间距为110μm，所述抛光齿3高度为19μm。基板1和抛光齿3的材质为肖特B270超白玻璃，在抛光齿3顶部覆有一层铬层。

如图5所示，上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板41，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜42，铬膜42包括与玻璃板41接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜42表面形成若干直径为190μm、相互间距为110μm的小凸点43，小凸点43顶面形状为六边形，即制得掩膜版4；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板1，本实施例采用厚度为2mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜51，再在铬膜51上旋涂一层光刻胶52，得到基板复合层5；

紫外光刻：将基板复合层5的光刻胶52与掩膜版4的铬膜42接触，使基板复合层5与掩膜版4紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层5与掩膜版4分离，再将基板复合层5置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层5上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层5上构成了与掩膜版4一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层5置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜51接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层5的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜51上方的光刻胶52即得抛光齿3。

最后将蚀刻好的基板1经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光泽度，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光洁亮丽。

实施例7

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的六棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为200μm，抛光齿间的间距为100μm，所述抛光齿高度为20μm。基板和抛光齿的材质为康宁玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为200μm、相互间距为100μm的小凸点，小凸点顶面形状为六边形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的康宁玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光泽度，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光洁亮丽。

实施例8

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的三棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为220μm，抛光齿间的间距为95μm，所述抛光齿高度为22μm。基板和抛光齿的材质为康宁玻璃。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为220μm、相互间距为95μm的小凸点，小凸点顶面形状为三角形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为3mm的康宁玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

在去除光刻胶后，去除柱状凸起上层的铬膜，再将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有较好的光泽度，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光洁亮丽。

实施例9

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的三棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为235μm，抛光齿间的间距为130μm，所述抛光齿高度为21μm。基板和抛光齿的材质为肖特B270超白玻璃。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为235μm、相互间距为130μm的小凸点，小凸点顶面形状为三角形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

在去除光刻胶后，去除柱状凸起上层的铬膜。再将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有较好的光泽度，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可完全替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例10

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的圆柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿直径为250μm，抛光齿间的间距为90μm，所述抛光齿高度为18μm。基板和抛光齿的材质为肖特B270超白玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为250μm、相互间距为90μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为3mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光泽度，抛光效果尚可，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例11

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的六棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为240μm，抛光齿间的间距为80μm，所述抛光齿高度为22μm。基板和抛光齿的材质为康宁玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为240μm、相互间距为80μm的小凸点，小凸点顶面形状为圆形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为2mm的康宁玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，抛光过程较为费力，抛光效率低，经抛光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光泽度，抛光效果尚可，因此本实施例的抛光条能够用于打磨指甲和抛光指甲，可替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例12

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的三棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为210μm，抛光齿间的间距为77μm，所述抛光齿高度为18μm。基板和抛光齿的材质为青玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为210μm、相互间距为77μm的小凸点，小凸点顶面形状为三角形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的青玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，抛光过程十分费力，经抛光后的指甲表面表面依然存在凹凸不平的指甲纹理，因此本实施例的抛光条无法用于打磨指甲和抛光指甲。不能替代指甲油使指甲光洁美观。

实施例13

一种指甲抛光条，包括基板和抛光层，所述抛光层包括若干密集分布的抛光齿，抛光齿形状为轴线垂直于基板的六棱柱，抛光齿底部与基板连接为一体式。其中，抛光齿径向最大宽度为255μm，抛光齿间的间距为105μm，所述抛光齿高度为17μm。基板和抛光齿的材质为康宁玻璃，在抛光齿顶部覆有一层铬层。

上述指甲抛光条的制备方法，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板，通过溅射镀膜的方式在其表面镀上铬膜，铬膜包括与玻璃板接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，再通过激光直方式写在铬膜表面形成若干直径为255μm、相互间距为105μm的小凸点，小凸点顶面形状为六边形，即制得掩膜版；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板，本实施例采用厚度为4mm的康宁玻璃，在其表面真空镀上一层100nm的铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶，得到基板复合层；

紫外光刻：将基板复合层的光刻胶与掩膜版的铬膜接触，使基板复合层与掩膜版紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层与掩膜版分离，再将基板复合层置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，原先与掩膜版小凸点接触部位的光刻胶保留，其余部位被腐蚀并露出下层的铬膜层，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，光刻胶下方的铬膜保留，其余部位的铬膜被蚀刻并露出下层的高硬度玻璃板，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层上形成若干柱状凸起，柱状凸起横截面形状与小凸点顶面形状相同，且柱状凸起在基板复合层上构成了与掩膜版一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层置于玻璃腐蚀液中酸蚀，最终，高硬度玻璃板与铬膜接触部位保留，其余部位被蚀刻出凹槽；

去除光刻胶：基板复合层的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶即得抛光齿。

最后将蚀刻好的基板经过切割、磨边和清洗，就形成一个个抛光条。

将本实施例制造出的抛光条用于指甲表面抛光，经抛光后的指甲表面表面虽然不存在凹凸不平的指甲纹理，但其手感粗糙，无光泽，并且打磨过程中，抛光齿深度过浅，常常由于指甲碎屑填充了抛光齿间的间隙，抛光条一段时间后便无法打磨，需要清理后才能继续使用，使用不方便。因此本实施例的抛光条虽然可用于打磨指甲，但不能用于抛光指甲，不能替代指甲油使指甲光洁美观。

本申请发明人对指甲抛光条的形状、尺寸和材质做了大量的试验，在此不一一例举，仅例举上述13个较为典型的实施方式。

实施例3～11中的指甲抛光条均能够对指甲进行抛光，替代指甲油使指甲光泽亮丽，避免人体受到指甲油和洗甲水的伤害，其中实施例5～8中的抛光条抛光效果尤其好，实施例3的抛光条抛光效果较为一般，实施例9、11的抛光条抛光效果较好，实施例10的抛光条抛光效果尚可。

将实施例1与其他实施例对比分析可得出，由于实施例1中抛光齿间的距离过大，当抛光齿作用于指甲表面时，其边缘棱角在指甲表面的切削深度过深，使指甲表面产生划痕，使指甲粗糙无光泽，因此不能替代指甲油使指甲光泽亮丽。将实施例2与其他实施例对比分析可得出，由于实施例2中抛光齿直径过小，抛光齿边缘棱角难以作用于指甲表面进行切削，因此不能替代指甲油使指甲光泽亮丽。同样的，实施例12中由于抛光齿间间距过小，抛光齿边缘棱角在指甲表面的切削深度过浅，几乎可忽略不计，无法对指甲进行抛光处理，因此不能替代指甲油使指甲光泽亮丽。实施例13中抛光齿直径过大，由于作用于指甲表面的颗粒不够细致，因此导致打磨出的指甲表面手感粗糙无光泽，不能替代指甲油使指甲光泽亮丽。

综上所述，结合本申请发明人的大量反复试验以及实施例1～13可以得出，当抛光齿径向最大宽度为150～250μm，抛光齿间的间距为80～150μm时，指甲抛光条能够对指甲进行抛光，使指甲表面光洁亮丽，达到美甲效果，可替代指甲油，使人体免受指甲油和洗甲水的损害，在保证指甲美观的同时保护了人体健康。其中，当抛光齿径向最大宽度为180～220μm，抛光齿间的间距为100～110μm时，指甲抛光条的抛光效果达到最佳，指甲抛光后光泽度非常好，美观度高，适宜在美甲领域广泛推广使用。

以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种指甲抛光条，其特征在于，包括基板(1)和抛光层(2)，所述抛光层(2)包括若干密集分布的抛光齿(3)，抛光齿(3)的底部固定在基板(1)上。

2.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为150～250μm，抛光齿(3)间的间距为80～150μm。

3.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板(1)的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为180～220μm，抛光齿(3)间的间距为100～110μm。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)高度为18～22μm。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)形状为圆柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一种。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为玻璃。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)顶部覆有一层铬层。

9.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光层(2)为两层，分别固定在基板(1)的上表面和下表面，且上下两层抛光层(2)的抛光齿(3)直径不同、抛光齿(3)间距不同。

10.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)一侧连接一个手柄(11)。