CN205691464U - 颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置 - Google Patents

颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置 Download PDF

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刘文礼
王东辉
张世杰
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Abstract

本实用新型公开了一种颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置,包括漏斗微移模块、气泡产生调节模块、气泡微移装置、入料定位漏斗、观察室、长焦摄像机、摄像机移动工作台、光源、底座、第一安装板、第二安装板,漏斗微移模块安装在第一安装板上,入料定位漏斗固定在漏斗微移装置上,入料定位漏斗底部位于观察室内,观察室位于气泡微移装置上,气泡微移装置安装在底座上,气泡产生调节模块安装在第二安装板上,第二安装板位于气泡微移装置右侧,光源位于底座左侧,长焦摄像机安装在摄像机移动工作台上。本装置结构合理,气泡大小精确可调,颗粒与气泡相对位置精确可调,记录清晰,为浮选理论中颗粒与气泡碰撞、吸附行为提供了研究基础。

Description

颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置
技术领域
本实用新型涉及浮游选矿理论领域,特别是涉及一种颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置。
背景技术
浮选是一种以气泡为载体,利用矿物颗粒表面性质差异分离有用矿物的技术手段。因其分选效率高、操作维护简单等优势而被广泛应用于矿物加工领域。
浮选数学模型反映了浮选输出变量、状态变量与可控变量之间的关系,将模型应用于实际浮选过程有助于提高分选效率。浮选数学模型根据形式与模型含义,分为动力学模型、浮选经验模型、总体平衡模型、以及浮选微观模型。
浮选微观模型认为,矿物浮选过程分为三个子过程,即颗粒与气泡碰撞、颗粒与气泡吸附、颗粒与气泡脱附。颗粒与气泡在矿浆中首先发生碰撞,随着颗粒在气泡表面滑落,颗粒与气泡之间的水化膜逐渐薄化、破裂,形成三相润湿周边,且随着三相润湿周边的扩展,颗粒逐渐稳定的吸附在气泡表面,矿化后的气泡在上升过程中,若受到强外力作用,颗粒将从气泡表面脱附,否则将随气泡进入泡沫层并最终进入精矿。
浮选过程是一个复杂的物理化学过程,影响浮选的因素很多,目前关于颗粒与气泡碰撞、吸附行为的研究均采用间接方法,而对于单个颗粒与气泡碰撞、吸附行为的研究因缺乏必要的装置而停滞不前,已严重阻碍了浮选理论的深入研究。
发明内容
为解决上述问题,本实用新型提供了一种颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置。
本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置包括漏斗微移模块(1)、气泡产生调节模块(5)、气泡微移装置(4)、入料定位漏斗(2)、观察室(3)、长焦摄像机(6)、光源(9)、摄像机移动工作台(8)、调节脚(13)。入料定位漏斗(2)通过螺丝固定在漏斗微移模块(1)上,入料定位漏斗(2)底部位于观察室(3)内,观察室(3)安装在气泡微移装置(4)上方,气泡微移装置(4)安装在底座(10)上,光源(9)安装在底座(10)左侧,长焦摄像机(6)通过连接板(7)安装在摄像机移动工作台(8)上,长焦摄像机(6)位于观察室(3)右侧。
所述漏斗微移模块(1)包括第一微分头(14)、第一直线导轨(16)、漏斗转接板(17)、第一立式直线光轴支架(15)、第二立式直线光轴支架(18)、弹簧(19)。第一微分头(14)安装在第一立式直线光轴支架(15)上,与第一直线导轨(16)左侧相接,漏斗转接板(17)通过螺丝固定在第一直线导轨(16)上方,弹簧(19)安装在第二立式直线光轴 支架(18)上,弹簧(19)与第一直线导轨(16)右侧相接。
所述气泡产生调节模块(5)包括第二微分头(20)、第一钕铁硼强磁(22)、阀门型微量进样器(26)、气管转接头(28)、气管(27)、第三立式直线光轴支架(21)、管夹(25)、第二安装板(12)、针头(29)、第二直线导轨(23)、第二钕铁硼强磁(24)。第二微分头(20)安装在第三立式直线光轴支架(21)上,第二微分头(20)通过第一钕铁硼强磁(22)与第二直线导轨(23)左侧连接,第二直线导轨(23)右侧通过第二钕铁硼强磁(24)与阀门型微量进样器(26)连接,阀门型微量进样器(26)通过管夹(25)固定在第二安装板(12)上,阀门型微量进样器(26)通过气管(27)与气管转接头(28)连接,针头(29)安装在气管转接头(28)上。
所述气泡产生调节模块(5)中的针头(29)通过橡胶塞(30)中心孔安装在观察室(3)底部。
所述底座(10)四角对称安装有调节脚(13),可调节底座(10)水平度。
所述气泡微移装置(4)通过螺丝安装在底座(10)上。
本实用新型具有以下优点:装置结构合理,气泡大小精确可调,颗粒与气泡相对位置精确可调,记录清晰,安装维修简单,为颗粒与气泡碰撞、吸附行为提供了研究基础。
附图说明
附图1为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的三维图。
附图2为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的主视图。
附图3为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的A-A剖视图。
附图4为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的俯视图。
附图5为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的漏斗微移模块主视图。
附图6为本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的气泡发生模块主视图。
图中:1、漏斗微移模块;2、入料定位漏斗;3、观察室;4、气泡微移装置;5、气泡产生调节模块;6、长焦摄像机;7、连接板;8、摄像机移动工作台;9、光源;10、底座;11、第一安装板;12、第二安装板;13、调节脚;14、第一微分头;15、第一立式直线光轴支架;16、第一直线导轨;17、漏斗转接板;18、第二立式直线光轴支架;19、弹簧;20、第二微分头;21、第三立式直线光轴支架;22、第一钕铁硼强磁;23、第二直线导轨;24、第二钕铁硼强磁;25、管夹;26、阀门型微量进样器;27、气管;28、气管转接头;29、针头;30、橡胶塞。
具体实施方式
本实用新型的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置的实施方式如附图所示。漏斗微 移模块(1)由第一微分头(14)、第一直线导轨(16)、漏斗转接板(17)、第一立式直线光轴支架(15)、第二立式直线光轴支架(18)、弹簧(19)、第一安装板(11)构成,第一微分头(14)安装在第一立式直线光轴支架(15)上,第一微分头(14)与第一直线导轨(16)左侧相接,漏斗转接板(17)通过螺丝固定在第一直线导轨(16)上方,弹簧(19)安装在第二立式直线光轴支架(18)上,弹簧(19)与第一直线导轨(16)右侧相接,漏斗微移模块(1)安装在第一安装板(11)上,第一安装板(11)通过螺丝固定在底座(10)上,入料定位漏斗(2)通过螺丝固定在漏斗转接板(17)上,入料定位漏斗(2)底部位于观察室(3)内,观察室(3)位于气泡微移装置(4)上。气泡产生调节模块(5)包括第二微分头(20)、第二直线导轨(23)、第一钕铁硼强磁(22)、第二钕铁硼强磁(24)、阀门型微量进样器(26)、气管转接头(28)、气管(27)、第三立式直线光轴支架(21)、管夹(25)、第二安装板(12)、针头(29),第二微分头(20)安装在第三立式直线光轴支架(21)上,第二微分头(20)通过第一钕铁硼强磁(22)与第二直线导轨(23)连接,第二直线导轨(23)通过第二钕铁硼强磁(24)与阀门型微量进样器(26)连接,阀门型微量进样器(26)通过管夹(25)固定在第二安装板(12)上,阀门型微量进样器(26)通过气管(27)与气管转接头(28)连接,针头(29)安装在气管转接头(28)上,针头(29)通过橡胶塞(30)中心孔安装在观察室(3)底部。气泡产生调节模块(5)安装在第二安装板(12)上,第二安装板(12)位于气泡微移装置(4)右侧,气泡微移装置(4)安装在底座(10)上,光源(9)安装在底座(10)左侧,长焦摄像机(6)通过连接板(7)安装在摄像机移动工作台(8)上,长焦摄像机(6)位于观察室(3)右侧。
本实用新型的测量颗粒与气泡碰撞、吸附行为方法:将去离子水加入观察室(3),使去离子水液面没过入料定位漏斗(2),静置直到观察室(3)中气泡完全消失。旋转第二微分头(20),通过第二直线导轨(23)推进阀门型微量进样器(26),在针头(29)处产生一个气泡。调节摄像机移动工作台(8),在电脑屏幕上找到气泡,调整长焦摄像机(6)的焦距,使气泡清晰成像,调节气泡微移装置(4),找到气泡清晰度最佳位置。打开屏幕坐标尺,调整坐标轴与气泡相切,利用气泡微移装置(4)将气泡向左和向右移动相同的距离移动固定距离,采用屏幕坐标尺得到实际距离和像素之间的换算关系,分别拍照,通过图像处理软件将照片合成,建立标尺。旋转第二微分头(20),调节气泡大小,得到直径符合要求的气泡。旋转第一微分头(14),调节入料定位漏斗(2)的位置,使入料定位漏斗(2)底部位于气泡正上方。将调配好的颗粒通过入料定位漏斗(2)给入观察室(3),记录颗粒与气泡的碰撞、吸附行为,利用自编统计计数软件得到颗粒与气泡的碰撞概率和吸附概率,提取视频每一帧图片,利用自编软件分析颗粒的当量直径、沉降末速、运动轨迹、颗粒在气泡表面滑落速度。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何根据本实用新型技术范围所做的简单修改、变更或替换,均仍属于本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置,包括漏斗微移模块(1)、气泡产生调节模块(5)、气泡微移装置(4)、入料定位漏斗(2)、观察室(3)、长焦摄像机(6)、摄像机移动工作台(8)、光源(9)、底座(10)、第一安装板(11)、第二安装板(12)、调节脚(13),漏斗微移模块(1)安装在第一安装板(11)上,入料定位漏斗(2)通过螺丝固定在漏斗微移模块(1)上,入料定位漏斗(2)底部位于观察室(3)内,观察室(3)位于气泡微移装置(4)上,气泡产生调节模块(5)安装在第二安装板(12)上,第二安装板(12)位于气泡微移装置(4)右侧,气泡微移装置(4)安装在底座(10)上,光源(9)安装在底座(10)左侧,长焦摄像机(6)通过连接板(7)安装在摄像机移动工作台(8)上,长焦摄像机(6)位于观察室(3)右侧。
2.根据权利要求1所述的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置,其特征在于,所述漏斗微移模块(1)包括第一微分头(14)、第一直线导轨(16)、漏斗转接板(17)、第一立式直线光轴支架(15)、第二立式直线光轴支架(18)、弹簧(19)、第一安装板(11),第一微分头(14)安装在第一立式直线光轴支架(15)上,第一微分头(14)与第一直线导轨(16)左侧相接,漏斗转接板(17)通过螺丝固定在第一直线导轨(16)上方,弹簧(19)安装在第二立式直线光轴支架(18)上,弹簧(19)与第一直线导轨(16)右侧相接。
3.根据权利要求1所述的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置,其特征在于,所述气泡产生调节模块(5)包括第二微分头(20)、第二直线导轨(23)、阀门型微量进样器(26)、气管(27)、气管转接头(28)、第三立式直线光轴支架(21)、管夹(25)、针头(29)、第二安装板(12)、第一钕铁硼强磁(22)、第二钕铁硼强磁(24),第二微分头(20)安装在第三立式直线光轴支架(21)上,第二微分头(20)通过第一钕铁硼强磁(22)与第二直线导轨(23)左侧连接,第二直线导轨(23)右侧通过第二钕铁硼强磁(24)与阀门型微量进样器(26)连接,阀门型微量进样器(26)通过管夹(25)固定在第二安装板(12)上,阀门型微量进样器(26)通过气管(27)与气管转接头(28)连接,针头(29)安装在气管转接头(28)上。
4.根据权利要求1所述的颗粒与气泡碰撞、吸附行为测量装置,其特征在于,气泡产生调节模块(5)中的针头(29)通过橡胶塞(30)中心孔安装在观察室(3)底部。
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