CN205652831U - 玻璃板制造装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种可以防止因对玻璃板照射常压等离子体而导致玻璃板的搬运机构劣化的玻璃板制造装置。玻璃板制造装置(1)具备：第一搬运部(10)，其搬运缓冲片(S)上载置的玻璃板(G)；缓冲片分离部(30)，其配置在第一搬运部(10)的搬运方向下游侧，且使玻璃板(G)与缓冲片(S)分离；第二搬运部(20)，其具有构成玻璃板(G)的搬运面(21A)的第二搬运带(21)，且配置在缓冲片分离部(30)的搬运方向下游侧，并搬运玻璃板(G)；以及常压等离子体照射部(40)，其向在第二搬运部(20)被搬运的玻璃板(G)的上表面照射常压等离子体。

Description

玻璃板制造装置

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃板制造装置的技术。

背景技术

以往，通常将通过下拉法等方法而连续成形的玻璃带切断，夹设缓冲片并且将它们层叠而准备玻璃板，之后将玻璃板一片一片地取出，并且进行切断成所期望的形状的加工等。

在这样的情况下，存在玻璃板上的玻璃板与缓冲片接触的部位处附着有机性的污垢的问题。

而且，以往，为了去除这样的污垢，开发了向玻璃板(基板)等照射常压等离子体的技术，专利文献1中公开了该技术。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-136728号公报

实用新型内容

实用新型所要解决的课题

在专利文献1所示的以往的清洗装置中，能够通过向玻璃板(基板)照射常压等离子体来去除有机性的污垢。然而，在专利文献1所示的以往的装置中，存在因对玻璃板(基板)照射常压等离子体而导致载置有玻璃板(基板)的缓冲片烧焦的问题。

本实用新型是鉴于这样的现状的课题而完成的，其目的在于提供一种能够防止因对玻璃板照射常压等离子体而导致的缓冲片的烧焦的玻璃板制造装置。

用于解决课题的方案

上文中示出了本实用新型所要解决的课题，接下来对用于解决该课题的手段进行说明。

即，本实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，所述玻璃板制造装置具备：第一搬运部，其搬运缓冲片上载置的玻璃板；缓冲片分离部，其配置在所述第一搬运部的搬运方向下游侧，且使所述玻璃板与所述缓冲片分离；第二搬运部，其配置在所述缓冲片分离部的搬运方向下游侧，且具有构成所述玻璃板的搬运面的搬运带，并搬运所述玻璃板；以及常压等离子体照射部，其向在所述第二搬运部搬运的所述玻璃板的上表面照射常压等离子体。

根据这种结构的玻璃板制造装置，通过对玻璃板照射常压等离子体，能够防止缓冲片烧焦。

另外，本实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，所述第二搬运部具备润湿所述搬运带的喷水雾部。

根据这种结构的玻璃板制造装置，能够更可靠地防止缓冲片的烧焦，并且，还能够防止搬运玻璃板的搬运机构的烧焦。

另外，实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，在所述第一搬运部的搬运方向上游侧，具备将所述玻璃板切断的切断部。

根据这种结构的玻璃板制造装置，能够在干燥状态下高精度地切断玻璃板。

另外，本实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，在所述第二搬运部的搬运方向下游侧，具备对所述玻璃板进行端面加工的端面加工部。

根据这种结构的玻璃板制造装置，在向端面加工工序导入时，玻璃板为湿润状态，因此能够防止在玻璃板的下表面发生损伤并且高效地进行端面加工。

另外，本实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，所述常压等离子体照射部具备对所述常压等离子体照射部距所述第二搬运部的搬运面的高度进行调节的高度调节机构。

根据这种结构的玻璃板制造装置，能够调节常压等离子体的照射状态，从而能够可靠地防止常压等离子体的照射所导致的缓冲片的烧焦。

另外，本实用新型所涉及的玻璃板制造装置的特征在于，所述玻璃板制造装置具备从所述常压等离子体照射部排气的排气部。

根据这种结构的玻璃板制造装置，能够更可靠地防止常压等离子体的照射所导致的缓冲片的烧焦。

实用新型效果

作为本实用新型的效果，起到了以下所示的那样的效果。

根据本实用新型所涉及的玻璃板制造装置，能够防止因常压等离子体对玻璃板的照射而导致缓冲片烧焦的情况。

附图说明

图1是表示玻璃板制造装置的整体结构示意图。

图2是表示有机性污垢去除部的整体结构的示意图。

图3是表示构成缓冲片分离部的分离装置的立体示意图。

图4是表示常压等离子体照射装置的示意图。

附图标记说明

1 玻璃板制造装置

10 第一搬运部

20 第二搬运部

23 喷水雾部

30 缓冲片分离部

40 常压等离子体照射部

50 排气部

60 距离调节机构

G 玻璃板

S 缓冲片

具体实施方式

接下来，对实用新型的实施的方式进行说明。

对本实用新型的一实施方式所涉及的玻璃板制造装置的整体结构进行说明。

如图1所示，本实用新型的一实施方式所涉及的玻璃板制造装置1是对玻璃板进行切断工序～有机性污垢去除工序～端面加工工序的一系列加工的装置，且具备：进行切断工序的切断部2、进行有机性污垢去除工序的有机性污垢去除部3、进行端面加工工序的端面加工部4。

在切断部2中，将缓冲片上载置的玻璃板切断。在有机性污垢去除部3中，使玻璃板与缓冲片分离，并且去除玻璃板的表面上附着的有机性污垢。在端面加工部4中，对玻璃板的端面进行研磨加工。根据这种结构的玻璃板制造装置，在切断工序中，能够在干燥状态下高精度地切断玻璃板，另外，在端面加工工序中，玻璃板已经成为湿润状态，因此能够防止在玻璃板的下表面发生损伤，并且高效地进行端面加工。

此处，对有机性污垢去除部3进一步进行说明。

如图2所示，构成玻璃板制造装置1的有机性污垢去除部3是用于去除玻璃板G上附着的有机性的污垢的部位，且具备：第一搬运部10、第二搬运部20、缓冲片分离部30、常压等离子体照射部40、以及排气部50。

在有机性污垢去除部3中，沿图2中的箭头X所示的水平方向搬运玻璃板G。

第一搬运部10是将结束了切断工序的玻璃板G以载置在缓冲片S上的状态搬运至缓冲片分离部30的部位，该第一搬运部10构成为带式输送机状的搬运装置，且具备环形带状的第一搬运带11与多个(本实施方式中为两个)带轮12、12，通过第一搬运带11的上表面形成载置缓冲片S的搬运面11A。在玻璃板制造装置1中，第一搬运带11以搬运面11A形成为水平的姿态配置。

而且，在第一搬运部10中，采用通过未图示的电动机等驱动源旋转驱动带轮12、12的结构，通过旋转驱动带轮12、12，从而第一搬运带11沿周向旋转驱动，搬运面11A沿箭头X的方向位移。

第二搬运部20是将分离了缓冲片S后的玻璃板G搬运至后工序(本实施方式中为端面加工工序)的部位，该第二搬运部20构成为带式输送机状的搬运装置，且具备环形带状的第二搬运带21与多个(在本实施方式中，两个)带轮22、22，通过第二搬运带21的上表面形成载置玻璃板G的搬运面21A。在玻璃板制造装置1中，第二搬运带21以搬运面21A形成为水平的姿态配置。

而且，在第二搬运部20中，采用通过未图示的电动机等驱动源旋转驱动带轮22、22的结构，通过旋转驱动带轮22、22，从而第二搬运带21沿周向旋转驱动，搬运面21A沿箭头X的方向位移。

并且，第二搬运部20具备用于润湿第二搬运带21的搬运面21A的喷水雾部23。

喷水雾部23由能够雾状喷射水的喷嘴和与该喷嘴连接的水配管构成，该喷水雾部23配置在第二搬运带21的下方，且构成为能够向在下侧绕转的第二搬运带21的表面雾状喷射水。需要说明的是，喷水雾部23对第二搬运带21雾状喷射水的喷雾位置不限定于此。

在第二搬运部20中，通过这种结构，使得第二搬运带21在向上侧绕转时成为表面润湿的状态，而当分离出缓冲片S后的玻璃板G位于第二搬运带21上时，能够润湿玻璃板G的下表面。由此，能够防止玻璃板G的下表面发生损伤。另外，由此，也能够防止作为搬运玻璃板G的搬运机构的第二搬运带21烧焦。

需要说明的是，在本实施方式所示的玻璃板制造装置1中，有机性污垢去除部3所承担的工序的前工序是切断工序，而后工序是端面加工工序，有机性污垢去除部3本身可以适当配置在需要去除有机性污垢等各种污垢的各个位置。

然而，通常在切断工序中在干燥状态下搬运玻璃板G，在端面加工工序中在湿润状态下搬运玻璃板G，因此优选有机性污垢去除部3的有机性污垢去除工序配置在切断工序与端面加工工序之间。

如图2所示，缓冲片分离部30是使缓冲片S从以载置在缓冲片S上的状态被第一搬运部10搬运的玻璃板G分离出的装置，该缓冲片分离部30通过沿玻璃板G的宽度方向配置多个图3所示的分离装置31(至少是搬运方向上的左右一对)而构成。

分离装置31配置在第一搬运部10的最下游部，且具备作为搬运带的环状的带32。带32卷绕在合计3个辊33、34、35上，且在沿着玻璃板G的搬运方向(图3所示的箭头X的方向)的方向上被旋转驱动。

带32具备：位移方向为水平的部位即水平部32A、以及位移方向为铅垂下方的部位即铅垂部32B，在水平部32A与铅垂部32B之间，还具备以圆弧状弯曲而改变带32的位移方向的部位即弯曲部32C。

水平部32A配置在与第二搬运部20的搬运面的高度大致一致的高度，两部位10、20接近配置，以能够将玻璃板G从第一搬运部10转运至第二搬运部20。

在水平部32A的内周侧，与水平部32A的内周侧接近地设置有在面向带32的一侧的面上设有开口部的第一箱状体36，第一箱状体36的内部空间设为用于在带32的水平部32A的上表面产生负压吸引力的空气吸引部。

在带32的铅垂部32B的内周侧，与该铅垂部32B的内周侧接近地设置有在面向带32的一侧的面上设有开口部的第二箱状体37，第二箱状体37的内部空间设为用于在带32的铅垂部32B的侧面产生负压吸引力的空气吸引部。

卷绕带32的3个辊33、34、35中的、与弯曲部32C对应的辊34具备空心部，并且采用在该辊34的表面形成有开口部且所述开口部与所述空心部连通的结构，辊34的空心部形成为用于在弯曲部32C的表面产生负压吸引力的空气吸引部。

而且，在带32上遍及整周地形成有多个孔部38、38…，且构成为通过这些孔部38、38…，在带32的水平部32A、铅垂部32B、以及弯曲部32C的各外周面产生负压吸引力。

而且，通过分离装置31、31而从玻璃板G分离出的缓冲片S因自重而落下，向配置在缓冲片分离部30的正下方的回收滑槽(未图示)投下。

常压等离子体照射部40配置在第二搬运部20的上部，是对配置在第二搬运部20的第二搬运带21上的玻璃板G照射常压等离子体的装置，如图4所示，具备电极部41、电源部42、以及气体供给部43。

常压等离子体照射部40通过一边从气体供给部43供给放电用气体(Ar、N₂)与反应气体(O₂)，一边通过电源部42向电极部41施加电压从而产生等离子体，由此能够对玻璃板G照射反应性强的中性基。然后，通过利用常压等离子体照射部40照射中性基，从而玻璃板G的表面的有机性的污垢被去除。

在玻璃板制造装置1中，在利用有机性污垢去除部3的常压等离子体照射部40照射中性基时，玻璃板G位于第二搬运部20上，且至少第二搬运带21的搬运面21A与玻璃板G的下表面成为润湿的状态。

在有机性污垢去除部3中，当利用常压等离子体照射部40照射中性基时，在第二搬运带21的表面附着有水，通过水来进行冷却，从而缓和了被照射中性基时的温度上升。

像这样，在玻璃板制造装置1中，采用在通过常压等离子体照射部40去除玻璃板G的有机性的污垢之前分离缓冲片S的结构，因此能够防止缓冲片S的烧焦。

另外，在玻璃板制造装置1中，构成为当利用常压等离子体照射部40去除有机性的污垢时，通过用水来冷却第二搬运带21，从而防止第二搬运带21被加热至达到劣化的温度。

排气部50是用于从通过常压等离子体照射部40对第二搬运部20上的玻璃板G照射中性基的部位排气的部位，且具备排气风扇51、以及排气管道52。

在有机性污垢去除部3中，通过利用排气部50从中性基的照射部位排气，从而能够通过换气来冷却该照射部位的第二搬运带21，并且，能够迅速地排除存在于该照射部位的反应后的气体、粉尘等。根据这种结构的玻璃板制造装置1，能够更可靠地防止因常压等离子体(中性基)的照射导致第二搬运带21劣化的情况。

另外，在玻璃板制造装置1中，如图2所示，常压等离子体照射部40通过高度调节机构60被支承为能够沿上下方向位移，且构成为能够调节电极部41距搬运面21A的高度(即，电极部41与玻璃板G的间隔距离)。通过这种结构，从而玻璃板制造装置1能够调节常压等离子体照射部40所照射的常压等离子体的照射状态，能够可靠地防止常压等离子体的照射所导致的第二搬运带21的劣化。作为高度调节机构60，可以使用滚珠丝杠、齿轮齿条副等。另外，在玻璃板制造装置1中，在不使用时，通过高度调节机构60使电极部41大幅向上方位移，从而能够容易地进行维护等。

Claims (6)

1.一种玻璃板制造装置，其特征在于，

所述玻璃板制造装置具备：

第一搬运部，其搬运缓冲片上载置的玻璃板；

缓冲片分离部，其配置在所述第一搬运部的搬运方向下游侧，且使所述玻璃板与所述缓冲片分离；

第二搬运部，其配置在所述缓冲片分离部的搬运方向下游侧，且具有构成所述玻璃板的搬运面的搬运带，并搬运所述玻璃板；以及

常压等离子体照射部，其向在所述第二搬运部被搬运的所述玻璃板的上表面照射常压等离子体。

2.根据权利要求1所述的玻璃板制造装置，其特征在于，

所述第二搬运部具备润湿所述搬运带的喷水雾部。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃板制造装置，其特征在于，

在所述第一搬运部的搬运方向上游侧，具备将所述玻璃板切断的切断部。

4.根据权利要求1或2所述的玻璃板制造装置，其特征在于，

在所述第二搬运部的搬运方向下游侧，具备对所述玻璃板进行端面加工的端面加工部。

5.根据权利要求1或2所述的玻璃板制造装置，其特征在于，

所述常压等离子体照射部具备对所述常压等离子体照射部距所述第二搬运部的搬运面的高度进行调节的高度调节机构。

6.根据权利要求1或2所述的玻璃板制造装置，其特征在于，

所述玻璃板制造装置具备从所述常压等离子体照射部排气的排气部。