CN205636311U - 一种新型印花反光合成革 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种新型印花反光合成革，包括基层、防磁层、微孔聚氨酯层、反光层和印花层，所述的基层由经纱和纬纱相互垂直并交错编制而成，所述的基层使用PU树脂材料制成，所述的基层上部设有防磁层，所述的防磁层上方设有微孔聚氨酯层，所述的微孔聚氨酯层表面设有多个均匀设置的内容孔，微孔聚氨酯层上部设有反光层，反光层上部设有印花层，印花层表面涂覆有图案，本实用新型结构简单，使用方便，使得产品表面形成各种各样的花纹或图案而且具有反光作用，该反光作用使得灯光照射过来时产生反光效果起到安全保护的目的，印花层外部设有保护层，可防止花纹磨损，延长了使用的寿命。

Description

一种新型印花反光合成革

技术领域

本实用新型涉及纺织技术领域，尤其涉及一种新型印花反光合成革。

背景技术

皮革的应用十分广泛，天然皮革由于取材及材料性质的限制，在应用中有许多不足，所以人造皮革就应运而生。现有的制衣皮革大多是由单层材料编织而成，有些布夜间也能反光，只是在衣服表面附着的亮片或亮点，反光度不高，且长时间使用这些亮片或亮点容易脱落。尤其是一些高档的衣料，设计师为了追求时代的潮流，总想把衣服设计的更时尚、更美观，如果衣服能反光，无疑为现代服装设计增加一大亮点。因而反光材料如反光涂料、反光膜是国际上60年代开发出的产品；我国起始于79年代。到目前为止，我国已研制出反光涂料、反光膜等产品，但基本没有利用反光材料制成具有反光作用的人造皮革，以利用具有反光作用合成革制作服装、鞋帽、书包以及装饰品等等。

实用新型内容

本实用新型提供了一种新型印花反光合成革，结构简单，使用方便，使得产品表面形成各种各样的花纹或图案而且具有反光作用，该反光作用使得灯光照射过来时产生反光效果起到安全保护的目的，印花层外部设有保护层，可防止花纹磨损，延长了使用的寿命。

为解决上述技术问题，本申请实施例提供了一种新型印花反光合成革，包括基层、防磁层、微孔聚氨酯层、反光层和印花层，所述的基层由经纱和纬纱相互垂直并交错编制而成，所述的基层使用PU树脂材料制成，所述的基层上部设有防磁层，所述的防磁层上方设有微孔聚氨酯层，所述的微孔聚氨酯层表面设有多个均匀设置的内容孔，微孔聚氨酯层上部设有反光层，反光层上部设有印花层，印花层表面涂覆有图案。

作为本方案的优选实施例，所述的基层和防磁层之间设有粘胶层。

作为本方案的优选实施例，所述的微孔聚氨酯层的内容孔内设有抗菌腔和香囊腔，所述的抗菌腔内设有纳米银材料，所述的香囊腔内设有香味纳米微胶囊。

作为本方案的优选实施例，所述的印花层上部设有耐磨层，耐磨层表面设有多个半球状的耐磨凸起。

作为本方案的优选实施例，所述的耐磨凸起表面涂覆有防静电层。

作为本方案的优选实施例，所述的基层内侧设有透气舒适层，所述反光层的厚度为0.03～0.06mm。

本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

结构简单，使用方便，使得产品表面形成各种各样的花纹或图案而且具有反光作用，该反光作用使得灯光照射过来时产生反光效果起到安全保护的目的，印花层外部设有保护层，可防止花纹磨损，延长了使用的寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施的结构示意图；

图1中，1、基层，2、防磁层，3、微孔聚氨酯层，4、反光层，5、印花层，6、粘胶层，7、抗菌腔，8、香囊腔，9、耐磨层，10、耐磨凸起，11、防静电层，12、透气舒适层。

具体实施方式

本实用新型提供了一种新型印花反光合成革，结构简单，使用方便，使得产品表面形成各种各样的花纹或图案而且具有反光作用，该反光作用使得灯光照射过来时产生反光效果起到安全保护的目的，印花层外部设有保护层，可防止花纹磨损，延长了使用的寿命。

为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。

如图1所示，一种新型印花反光合成革，包括基层1、防磁层2、微孔聚氨酯层3、反光层4和印花层5，所述的基层1由经纱和纬纱相互垂直并交错编制而成，所述的基层1使用PU树脂材料制成，所述的基层1上部设有防磁层2，所述的防磁层2上方设有微孔聚氨酯层3，所述的微孔聚氨酯层3表面设有多个均匀设置的内容孔，微孔聚氨酯层3上部设有反光层4，反光层4上部设有印花层5，印花层5表面涂覆有图案。

其中，在实际应用中，所述的基层1和防磁层2之间设有粘胶层6。

其中，在实际应用中，所述的微孔聚氨酯层3的内容孔内设有抗菌腔7和香囊腔8，所述的抗菌腔7内设有纳米银材料，所述的香囊腔8内设有香味纳米微胶囊。

其中，在实际应用中，所述的印花层5上部设有耐磨层9，耐磨层9表面设有多个半球状的耐磨凸起10。

其中，在实际应用中，所述的耐磨凸起10表面涂覆有防静电层11。

其中，在实际应用中，所述的基层1内侧设有透气舒适层12，所述反光层4的厚度为0.03～0.06mm。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种新型印花反光合成革，包括基层（1）、防磁层（2）、微孔聚氨酯层（3）、反光层（4）和印花层（5），其特征在于，所述的基层（1）由经纱和纬纱相互垂直并交错编制而成，所述的基层（1）使用PU树脂材料制成，所述的基层（1）上部设有防磁层（2），所述的防磁层（2）上方设有微孔聚氨酯层（3），所述的微孔聚氨酯层（3）表面设有多个均匀设置的内容孔，微孔聚氨酯层（3）上部设有反光层（4），反光层（4）上部设有印花层（5），印花层（5）表面涂覆有图案。

2.根据权利要求1所述的一种新型印花反光合成革，其特征在于，所述的基层（1）和防磁层（2）之间设有粘胶层（6）。

3.根据权利要求1所述的一种新型印花反光合成革，其特征在于，所述的微孔聚氨酯层（3）的内容孔内设有抗菌腔（7）和香囊腔（8），所述的抗菌腔（7）内设有纳米银材料，所述的香囊腔（8）内设有香味纳米微胶囊。

4.根据权利要求1所述的一种新型印花反光合成革，其特征在于，所述的印花层（5）上部设有耐磨层（9），耐磨层（9）表面设有多个半球状的耐磨凸起（10）。

5.根据权利要求4所述的一种新型印花反光合成革，其特征在于，所述的耐磨凸起（10）表面涂覆有防静电层（11）。

6.根据权利要求1所述的一种新型印花反光合成革，其特征在于，所述的基层（1）内侧设有透气舒适层（12），所述反光层（4）的厚度为0.03～0.06mm。