CN205435213U - 装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器 - Google Patents
装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型提供一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，包括一器壳，内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室，且该腔室内以能抽取方式植入至少一过滤箱，该过滤箱内设有用来过滤气体中水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉，该气体依序通过捕集环及过滤棉，藉以改善传统粉尘过滤器的结构复杂且不易清洗的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及粉尘过滤器的结构技术，特别是有关于一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器。
背景技术
众所周知，在半导体制程中会生成有害废气例如单硅烷(SiH4)、氯气(Cl2)、全氟化合物(PFC)等，为了避免该废气对环境造成污染与公害，必须先将该废气中的有害物质予以净化去除，才能够排放至外界大气中。
传统的半导体制程废气的处理方式，是将该废气注入废气处理设备内，先接受废气处理设备内高温火焰燃烧或与高温气体结合，而形成高温废气，迫使废气中的有害物质接受高温催化，进而分解成无害的物质，随后藉由废气处理设备内的洒水装置将废气中可溶于水的有害物质例如氟、氯碳化合物等溶于水中，而使废气转换成为无害的气体，同时冷却该气体，以利于排放至外界大气中，而不会造成环境的污染。通常，在该气体排放至外界大气前，还需要通过粉尘过滤器来过滤该气体，藉此将该气体中所包含的水分子及粉尘加以除去。
在现有技术中，上述的粉尘过滤器通常是指旋风式过滤器，该旋风式过滤器是通过气体在过滤器内涡动旋转所生成的离心力及惯性，且藉由气体中所含水分子与粉尘两者的比重均大于气体的比重的原理，使气体中的水分子及粉尘与气体分离，进而达到除去气体中水分子及粉尘的目的。
然而，由于旋风式过滤器为了取得过滤气体中水分子及粉尘的较佳效果，必须配备有鼓风机，并且建构出较具结构复杂度的涡流式导气通道，以便于利用鼓风机强制驱动气体迂回于涡流式导气通道内，进而过滤气体中的水分子及粉尘；然而，却存在旋风式过滤器结构复杂且不易清洗的缺点。
发明内容
有鉴于此，本实用新型的目的，旨在改善传统粉尘过滤器结构过于复杂且不易清洗的问题。
为了解决上述问题，本实用新型提供一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其技术手段包括：一器壳，其内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室；及至少一过滤箱，以能抽取方式植入该腔室内，该过滤箱内设有用来过滤气体中水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉，该气体依序通过捕集环及过滤棉。
在进一步实施中，本实用新型还包括：
该捕集环呈环圈状，且具有一轴心线。其中该捕集环的环壁向其轴心方向延伸形成有多个舌片。该舌片呈波浪状。
该多个捕集环呈交错的阵列状排列，且该多个捕集环的轴心线相互平行。其中该多个捕集环为双层式构造，且该多个捕集环的轴心线排除重叠。
该过滤箱包含一第一过滤箱及一第二过滤箱，该第一过滤箱及第二过滤箱间隔配置于腔室内。其中该腔室内还固设有一隔板，该隔板坐落于第一过滤箱及第二过滤箱之间。
根据上述技术方案，本实用新型的技术效果在于：使废气处理设备内已溶于水中去除有害物质的无害气体，能直接接受废气处理设备内气体自然排放压力的导引而通过粉尘过滤器，不需要另外使用鼓风机来强制推动废气体流动，并且能有效的简化粉尘过滤器的结构；此外，本实用新型的过滤箱采用可抽取式设计，以便于取出过滤箱，对捕集环及过滤棉进行除尘清洁及清洗的作业，随后再将已清洗完成的过滤箱植入器壳内，以提升清洗过滤器的方便性。
以上所述的方法与装置的技术手段及其产生效能的具体实施细节，请参照下列实施例及图式加以说明。
附图说明
图1是本实用新型的一较佳实施例的立体分解图；
图2是图1组合后的剖示图；
图3是本实用新型中捕集环的立体示意图；
图4是图3中捕集环堆叠时的立体示意图；
图5是本实用新型应用于半导体废气处理设备时的剖示图。
附图标记说明：10-器壳；11-腔室；12-进气端；13-出气端；14-排水口；15-开口；16-滑轨；17-洁净干燥空气喷头；18-压力侦测计；20-过滤箱；21-第一过滤箱；22-第二过滤箱；23-隔板；24-盖板；25-导槽；30-捕集环；31-轴心线；32-环壁；33-舌片；40-过滤棉；50-废气处理设备；51-进气口；52-排气口；53-加热分解区；54-第一水洗区；55-第二水洗区；61-废气；62-水；63-气体。
具体实施方式
以下是实施例，但本实用新型的内容并不局限于这些实施例的范围。
首先，请合并参阅图1及图2，揭露本实用新型的一较佳实施例的态样，说明本实用新型所提供装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，包括一器壳10及至少一过滤箱20；其中：
该器壳10可以是由金属板(如不锈钢板)螺组或焊接而成，该器壳10内形成有一腔室11，而器壳10表面分别形成有连通腔室11的进气端12与出气端13，使气体能经由进气端12进入腔室11内，然后由出气端13离开。在本实用新型中所述气体是指半导体制程废气在接受过加热及水洗处理后所产生的无害气体。
所述过滤箱20是植入器壳10的腔室11内，进一步的说，该器壳10一侧形成有一开口15，所述过滤箱20能由开口15处植入腔室11内，在具体实施上，该器壳10由开口15处可以设置向腔室11内延伸的滑轨16，所述过滤箱20双侧分别形成有对应滑轨16的导槽25，所述过滤箱20经由导槽25接受滑轨16的导引而由开口15处植入腔室11内，换句话说，通过上述设计，能便于所述过滤箱20可抽取式的植入腔室11内或由腔室11内取出。
所述过滤箱20一侧固定有一盖板24，该盖板24的面域是大于开口15的面域，当过滤箱20植入腔室11内时，通过盖板24盖合于开口15，能避免气体通过开口15与过滤箱20之间所形成的缝隙向外流出，该盖板24在实施上可以设有把手(未绘示)，能藉由握持该把手便于将过滤箱20植入腔室11内或由腔室11内取出。
所述过滤箱20内在实施上配置有多个个捕集环30及一过滤棉40，所述捕集环30与过滤棉40在过滤箱20内形成两道用来过滤气体中水分子及粉尘的滤材，当该气体通过过滤箱20时，能通过捕集环30及过滤棉40来除去气体中的水分子及粉尘。
请合并参阅图2及图3，说明所述捕集环30可以是金属制的片体弯曲形成，所述捕集环30具有一轴心线31，所述捕集环40内沿其轴心线31形成有能提供气体通过的流道。在具体实施上，所述捕集环30的环壁32上形成有向轴心方向延伸的多个舌片33，所述舌片33能增加捕集环30与气体的接触面，所述舌片33在实施上是呈现出波浪状的外型。更具体的说，所述舌片33在实施上是由捕集环30的环壁32冲制成型，所述舌片33是藉由水分子会附着于金属表面的特性，来捕捉气体中的水分子及粉尘。
请合并参阅图1及图2，说明所述多个捕集环30于过滤箱20内是呈交错的阵列状排列，而使所述多个捕集环30的轴心线31相互平行，也就是说捕集环30内的流道是朝同一方向，能使气体顺畅的通过捕集环30。更进一步的说，请参阅图4，说明所述多个捕集环30可以是双层式构造，且所述多个捕集环30的轴心线31之间排除重叠，使捕集环30呈现出交错状，进而提升捕集环30内舌片33与气体的接触面，进而提升捕集环30在捕集气体中水分子及粉尘的效果。
所述过滤箱20在实施上包含一第一过滤箱21及一第二过滤箱22，该第一过滤箱21及第二过滤箱22间隔配置于腔室11内，通过在腔室11内配置第一过滤箱21及第二过滤箱22来提升过滤气体中水分子及粉尘的效果。在具体实施上，该腔室11内于第一过滤箱21及第二过滤箱22之间还固设有一隔板23，该隔板23能增加气体在通过腔室11内时的移动路径及时间，且该隔板23上可以设有过滤棉，能有效的提升过滤气体中水分子及粉尘时的效果。
另外，由于捕集环30及过滤棉40在过滤掉气体中水分子及粉尘后，聚集于捕集环30及过滤棉40上的水分子会凝结为水而掉落至腔室11底部，为避免水因累积过多而溢流至其他位置(例如废气处理设备)，所以需要在器壳10底部设有一排水口14来进行排水作业。该器壳10于邻近出气端13设有一洁净干燥空气(cleandryair,CDA)喷头17及一压力侦测计18，该洁净干燥空气喷头17能释放洁净干燥空气与流至出气端13的气体混合，该压力侦测计18是用来侦测气体通过出气端13时的压力值。
请参阅图5，说明将器壳10连接一半导体制程废气处理设备50的排气口52，该废气处理设备50内依序设置有加热分解区53、第一水洗区54及第二水洗区55，废气61先经由进气口51注入废气处理设备50内，当废气61通过加热分解区53时，藉由火焰或热空气来迫使废气61中有害物质接受高温催化，进而分解成无害的物质，接着，废气61依序进入第一水洗区54及第二水洗区55，藉由水62呈水幕状均匀分布喷洒，使水62与废气61进行充分的接触，将废气61中可溶于水62的有害物质溶于水62中，而使废气61转换成为无害的气体63，然后通过排气口52进入器壳10内，通过器壳10内过滤箱20来减少气体63中所含的水分子及粉尘，最后排放至外界大气中。
以上实施例仅为表达了本实用新型的较佳实施方式，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。因此，本实用新型应以申请专利范围中限定的权利要求内容为准。
Claims (8)
1.一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于其包括：
一器壳，其内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室；及
至少一过滤箱，以能抽取方式植入于该腔室内，该过滤箱内设有用来过滤气体中水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉，该气体依序通过该捕集环及过滤棉。
2.如权利要求1所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该捕集环呈环圈状，且具有一轴心线。
3.如权利要求2所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该捕集环的环壁向其轴心方向延伸形成有多个舌片。
4.如权利要求3所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该舌片呈波浪状。
5.如权利要求2所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该多个捕集环呈交错的阵列状排列，且该多个捕集环的轴心线相互平行。
6.如权利要求5所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该多个捕集环为双层式构造，且多个捕集环的轴心线排除重叠。
7.如权利要求1所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该过滤箱包含一第一过滤箱及一第二过滤箱，该第一过滤箱及第二过滤箱间隔配置于该腔室内。
8.如权利要求7所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器，其特征在于：该腔室内还固设有一隔板，该隔板坐落于该第一过滤箱及第二过滤箱之间。
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