CN205398318U - 一种水处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种水处理设备，包括至少两个处理器，处理器的进水口设有进水溢流槽，处理器的出水口设有出水溢流槽，进水溢流槽的顶部高于出水溢流槽的顶部；进水溢流槽和出水溢流槽均设置在处理器内部；通过对接管连通的两个处理器高度错落设置，处于高位的处理器的出水溢流槽的顶部高于处于低位的处理器的进水溢流槽的顶部，且处于高位的处理器的出水溢流槽与处于低位的处理器的进水溢流槽通过对接管连通。本实用新型通过错落设置的至少两个结构相同的处理器对工业废水进行处理，安装连接方便，且能够保证美观，还可以保证在正常使用时不同的处理器中的液位保持不同，不会形成倒流，从而不会影响各个处理过程的效果。

Description

一种水处理设备

技术领域

本实用新型涉及水利环保技术领域，更具体地说，涉及一种水处理设备。

背景技术

随着对环保话题的不断深入，针对水污染治理的工业设备也在不断进行更新和提升。

在工业领域对工业废水进行处理回收时，通常采用水处理设备。常见的水处理设备包括一个或多个处理回收池，多个处理回收池之间通过管路连接，由于设备间的流向设计较为复杂，所以通常管路连接也较为复杂。考虑到多个处理回收池间的流动力需要由泵体提供，复杂的连接管路也会增加泵体的负荷。

综上所述，如何提供一种结构简单的水处理设备，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种水处理设备，该水处理设备的结构简单，连接方便。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种水处理设备，包括至少两个处理器，所述处理器的进水口设有进水溢流槽，所述处理器的出水口设有出水溢流槽，所述进水溢流槽的顶部高于所述出水溢流槽的顶部；所述进水溢流槽和所述出水溢流槽均设置在所述处理器内部；

通过对接管连通的两个所述处理器高度错落设置，处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽的顶部高于处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽的顶部，且处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽与处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽通过所述对接管连通。

优选地，处于高位的所述处理器设于机架的台阶上，处于低位的所述处理器设于所述机架的台阶下，所述台阶的高度大于或等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽底部与所述出水溢流槽底部的高度差。

优选地，所述台阶的高度等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽底部与所述出水溢流槽底部的高度差，用于连通两个所述处理器的所述对接管水平设置。

优选地，所述处理器的侧壁上设置有与所述进水口高度相同的用于连接导流管的导流口，所述导流口上设置有导流槽，所述导流槽位于所述处理器内部，所述导流槽的顶部与所述进水溢流槽的顶部水平。

优选地，所述进水口设置于所述进水溢流槽的侧壁底部，所述出水口设置于所述出水溢流槽的侧壁底部。

优选地，所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽为矩形凹槽。

优选地，所述进水溢流槽与所述出水溢流槽分别设置于所述处理器上的两个对立的侧壁上。

优选地，所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽内设置有用于检测液位的传感器，所述传感器与用于控制液体流量的控制装置连接。

优选地，所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽为高度可调节的溢流槽。

本实用新型提供的水处理设备结构简单，通过错落设置的至少两个结构相同的处理器对工业废水进行处理，在连接时可以方便安装，且能够保证美观。另外，由于两个处理器相连接的出水溢流槽和进水溢流槽的高度的不同，可以保证在正常使用时不同的处理器中的液位保持不同，不会形成倒流，从而不会影响各个处理器中的处理过程。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例的结构示意图；

图2为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例中处理器进水端的局部示意图；

图3为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例中处理器出水端的局部示意图。

上图1-3中：

1为一级处理器、2为进水口、3为机架、4为对接管、5为二级处理器、6为出水口、7为导流管、8为进水溢流槽、9为出水溢流槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的核心是提供一种水处理设备，该水处理设备的结构简单，连接方便。

请参考图1至图3，图1为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例的结构示意图；图2为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例中处理器进水端的局部示意图；图3为本实用新型所提供水处理设备的具体实施例中处理器出水端的局部示意图。

本实用新型所提供的一种水处理设备，主要用于工业环境下对于工业废水的处理过程，水处理设备包括至少两个处理器，处理器为用于对工业废水进行处理的一个单独的反应装置，通常为独立的器皿。

处理器上设置有进水口2和出水口6，通常情况下进水口2高于出水口6。在处理器的进水口2设置有进水溢流槽8，处理器的出水口6设置有出水溢流槽9，其中，进水溢流槽8和出水溢流槽9均可以为上敞口槽体，分别连接于进水口处和出水口处，同一个处理器中进水溢流槽8的顶部高于出水溢流槽9的顶部，进水溢流槽8和出水溢流槽9均设置在处理器内部。通过对接管4连通的两个处理器高度错落设置，处于高位的处理器的出水溢流槽9的顶部高于处于低位的处理器的进水溢流槽8的顶部，且处于高位的处理器的出水溢流槽9与处于低位的处理器的进水溢流槽8通过对接管4连通。

具体地，上述装置可以参考图1，一级处理器1和二级处理器5为结构相同的处理器，在处理器的一侧设置有进水口2，进水口2设置有进水溢流槽8，处理器的另一侧还设置有出水口6，出水口6上设置有出水溢流槽9。在同一个处理器上，进水溢流槽8的槽顶高于出水溢流槽9的槽顶。一级处理器1与二级处理器5错落设置，一级处理器1高于二级处理器5，一级处理器1的出水溢流槽9与二级处理器5的进水溢流槽8连通。

需要提到的是，上述进水溢流槽8和出水溢流槽9均为敞口槽体，进水溢流槽8和出水溢流槽9的顶部均可以为敞口槽体的上端部，即进水溢流槽8和出水溢流槽9的最高液位处，当进水溢流槽8内的液体量超出能够承受的最大量时，液体将由进水溢流槽8顶部位置向处理器的主体溢出，或由槽体上设置的溢出口向处理器的主体溢出。当处理器的主体内的液体量超出出水溢流槽9的顶部时，液体将由处理器的主体向出水溢流槽9溢出，或由出水溢流槽9上设置的溢出口向出水溢流槽9溢出。

另外，同一个处理器上的进水溢流槽8与出水溢流槽9为不直接连通的两个槽体，二者仅能够通过处理器的主体实现液体的流动。

上述水处理设备中，由进水口2流入处理器中的液体，首先会被贮存在进水溢流槽8内，请参考图2，当进水溢流槽8内积累了一定量的液体并盛满后，进水溢流槽8内的液体会溢出并流入处理器的主体中。处理器的主体中的液体量不断增加，并在主体部分中进行水处理反应，当主体部分中的液体增长至出水溢流槽9的顶部，液体流入出水溢流槽9中，并由出水溢流槽9的出水口6流出处理器。

当两个处理器按照上述方式连接时，液体可以由位于高位的处理器流入位于低位的处理器中。

本实施例所提供的水处理设备结构简单，通过错落设置的至少两个结构相同的处理器对工业废水进行处理，连接方便且能够保证美观。另外，由于两个处理器相连接的出水溢流槽9和进水溢流槽8的高度的不同，可以保证在正常使用时不同的处理器中的液位保持不同，不会形成倒流，从而不会影响各个处理器中的处理过程。

可选的，上述进水溢流槽8和出水溢流槽9均可以为矩形的上敞口槽体，当然，也可以为半球形等，另外，进水溢流槽8和出水溢流槽9还可以为侧壁设置有导通口的封闭槽体。现有技术中，任何可以作为溢流槽的结构均属于本实用新型所保护的范围内。

考虑到上述多个处理器均属于同一个水处理设备中，所以均可以设置在机架3上，机架3为具有台阶的架构，处于高位的处理器设于机架3的台阶上，处于低位的处理器设于机架3的台阶下，台阶的高度大于或等于同一个处理器上进水溢流槽8底部与出水溢流槽9底部的高度差。通过将处理器统一设置在机架3上，可以方便对处理器的管理。另外，台阶高度大于或等于进水溢流槽8与出水溢流槽9的高度差，可以使尽量多的液体由高位的处理器流入到低位的处理器中。

进一步地，台阶的高度可以等于同一个处理器上进水溢流槽8底部与出水溢流槽9底部的高度差，用于连通两个处理器的对接管4水平设置。

可选的，上述各个实施例中所提供的对接管4也可以为倾斜设置，需要根据两个处理器间的位置关系确定。

上述各个实施例中，均采用错落设置的进水溢流槽8和出水溢流槽9对处理器进行连接，仅能在正常使用时保证不会产生倒流，然而，当水处理设备流向上最末端的处理器发生堵塞或淤积时，上述错落设置的情况将不能够完全避免液体的倒流。为了更好的避免工业废水向上一级处理器倒流，在本实用新型所提供的一个具体实施例中，处理器的侧壁上设置有与进水口2高度相同的用于连接导流管7的导流口，导流口上设置有导流槽，导流槽位于处理器内部，导流槽的顶部与进水溢流槽8的顶部水平。

由于处于高位的处理器的出水溢流槽9的顶部高于处于低位的处理器的进水溢流槽8的顶部，所以当低位处理器中的液体不能顺利排出而造成液位较高时，液体也不会倒流进入高位的处理器中，而是从导流口流出，可以保证水处理设备中液体的流动顺畅，保证水处理设备的处理效果。

需要提到的是，上述导流槽与进水溢流槽8、出水溢流槽9之间并不连通，导流槽为设置于处理器的侧壁上的独立的槽体。当处理器主体内出水溢流槽9阻塞，液面上升至进水溢流槽8的顶部时，液体可以流入导流槽内，并通过导流口流入导流管7内。

可选的，导流管7竖直设置，有利于将液体由导流槽内部引出。

可选的，进水口2设置于进水溢流槽8的侧壁底部，出水口6设置于出水溢流槽9的侧壁底部。设置于槽体底部可以有效提高槽体的使用效率。

在本实用新型所提供的一个具体实施例中，进水溢流槽8和/或出水溢流槽9为矩形凹槽。可选的，进水溢流槽8和出水溢流槽9的具体结构可以为除了矩形凹槽以外的其他任意结构。

在本实用新型所提供的一个具体实施例中，进水溢流槽8与出水溢流槽9分别设置于处理器的两个对立的侧壁上，可以增大工业废水在处理器主体中进行反应的时间。当然，进水溢流槽8与出水溢流槽9也可以设置在处理器上的同一个侧壁上或者相邻的侧壁上。

考虑到水处理设备中液位的变化可能可以影响水处理的过程，常见的处理过程中，需要对处理器中液面的高度变化进行测量和调整。在上述任意实施例的基础之上，可以在进水溢流槽8、出水溢流槽9内设置传感器，用于检测进水溢流槽8、出水溢流槽9内工业废水的液位，同时，传感器与用于控制液体流量的控制装置连接。控制装置可以根据上述液位与预先设置的安全液位进行比较，当超过安全液位时，控制装置对水处理设备中的液体流速进行控制，或者对下一级处理器的出液口进行调整，从而保证整体设备的流量稳定，保证水处理的质量和效果。

可选的，上述传感器可以包括多种类型的传感器，可以为测距传感器、测重力传感器等，可以通过间接测量的方式得到进水溢流槽8、出水溢流槽9内水量。

在上述任意实施例的基础之上，进水溢流槽8、出水溢流槽9为高度可调节的溢流槽。例如，进水溢流槽8为设置在处理器内壁的滑槽上槽体，滑槽沿竖直方向延伸，进水溢流槽8与内壁密封连接，从而，进水溢流槽8可以在内壁上进行升降移动，改变进水溢流槽8的顶部高度，出水溢流槽9也可以进行相同的设置。或者，组成进水溢流槽8的其中一个立壁为高度可调的移动壁，同样可以实现改变进水溢流槽8的高度。

可选的，上述实施例中的控制装置可以与进水溢流槽8连接，实现对进水溢流槽8高度的控制，进行实现对水处理设备的处理效果的控制。

除了上述实施例所公开的水处理设备的主要结构，该水处理设备的其他各部分的结构请参考现有技术，本文不再赘述。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

以上对本实用新型所提供的水处理设备进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (9)

1.一种水处理设备，其特征在于，包括至少两个处理器，所述处理器的进水口(2)设有进水溢流槽(8)，所述处理器的出水口(6)设有出水溢流槽(9)，所述进水溢流槽(8)的顶部高于所述出水溢流槽(9)的顶部；所述进水溢流槽(8)和所述出水溢流槽(9)均设置在所述处理器内部；

通过对接管(4)连通的两个所述处理器高度错落设置，处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽(9)的顶部高于处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽(8)的顶部，且处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽(9)与处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽(8)通过所述对接管(4)连通。

2.根据权利要求1所述的水处理设备，其特征在于，处于高位的所述处理器设于机架(3)的台阶上，处于低位的所述处理器设于所述机架(3)的台阶下，所述台阶的高度大于或等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽(8)底部与所述出水溢流槽(9)底部的高度差。

3.根据权利要求2所述的水处理设备，其特征在于，所述台阶的高度等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽(8)底部与所述出水溢流槽(9)底部的高度差，用于连通两个所述处理器的所述对接管(4)水平设置。

4.根据权利要求1至3任意一项所述的水处理设备，其特征在于，所述处理器的侧壁上设置有与所述进水口(2)高度相同的用于连接导流管(7)的导流口，所述导流口上设置有导流槽，所述导流槽位于所述处理器内部，所述导流槽的顶部与所述进水溢流槽(8)的顶部水平。

5.根据权利要求4所述的水处理设备，其特征在于，所述进水口(2)设置于所述进水溢流槽(8)的侧壁底部，所述出水口(6)设置于所述出水溢流槽(9)的侧壁底部。

6.根据权利要求5所述的水处理设备，其特征在于，所述进水溢流槽(8)和/或所述出水溢流槽(9)为矩形凹槽。

7.根据权利要求6所述的水处理设备，其特征在于，所述进水溢流槽(8)与所述出水溢流槽(9)分别设置于所述处理器上的两个对立的侧壁上。

8.根据权利要求4所述的水处理设备，其特征在于，所述进水溢流槽(8)和/或所述出水溢流槽(9)内设置有用于检测液位的传感器，所述传感器与用于控制液体流量的控制装置连接。

9.根据权利要求4所述的水处理设备，其特征在于，所述进水溢流槽(8)和/或所述出水溢流槽(9)为高度可调节的溢流槽。