CN205374935U

CN205374935U - 显示面板

Info

Publication number: CN205374935U
Application number: CN201620029688.0U
Authority: CN
Inventors: 赖敏达
Original assignee: Chunghwa Picture Tubes Ltd
Current assignee: Chunghwa Picture Tubes Ltd
Priority date: 2016-01-13
Filing date: 2016-01-13
Publication date: 2016-07-06
Anticipated expiration: 2026-01-13

Abstract

本实用新型提供一种显示面板。显示面板包括画素阵列及黑矩阵。画素阵列具有以阵列排列的多个画素。黑矩阵配置于画素阵列上，且在部分的画素上形成弧状边缘以遮蔽这些画素中超出显示面板的一显示区域的部分，其中显示区域为非矩形区域。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的显示品味。

Description

显示面板

技术领域

本实用新型涉及一种显示面板，尤其涉及一种具有非矩形显示区域的显示面板。

背景技术

一般而言，显示装置的显示区域是以矩形为主，例如方形、长方形或正方形。然而，由于显示装置的应用领域多元化，显示区域的形状逐渐由矩形衍生为非矩形，例如圆形、椭圆形、半圆形等不规则形状。当画素配置于非矩形的显示区域中时，显示区域的边缘可能会出现锯齿状，并且当画素的尺寸不够小，显示区域边缘的锯齿状会更加明显，以致于会影响显示装置的显示品味。若要优化锯齿状的问题，可将画素以更微观地依不同位置及不同曲率进行配置，但是在画素无法微小化时，锯齿状的情况仍无法完全消除。

实用新型内容

本实用新型提供一种显示面板，可通过黑矩阵遮蔽显示区域外的部分、以避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，进而优化显示面板的显示品味。

本实用新型的显示面板包括画素阵列及黑矩阵。画素阵列具有以阵列排列的多个画素。黑矩阵配置于画素阵列上，且在部分的画素上形成弧状边缘以遮蔽这些画素中超出显示面板的一显示区域的部分，其中显示区域为非矩形区域。

在本实用新型的一实施例中，显示面板还包括一主动阵列基板及一彩色滤波基板，并且画素阵列位于主动阵列基板与彩色滤波基板之间。并且，黑矩阵形成于彩色滤波基板。

在本实用新型的一实施例中，彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且黑矩阵与彩色滤波片形成于彩色滤波基板上的同一侧。

在本实用新型的一实施例中，彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且黑矩阵与彩色滤波片分别形成于彩色滤波基板上的相对两侧。

在本实用新型的一实施例中，显示面板还包括一透明盖板，并且画素阵列与彩色滤波基板位于主动阵列基板与透明盖板之间。并且，黑矩阵形成于该透明盖板上，即黑矩阵可形成于透明盖板且相对于一显示面。

在本实用新型的一实施例中，黑矩阵还定义画素的透光区域。

在本实用新型的一实施例中，画素为多个液晶画素。

基于上述，在本实用新型实施例的显示面板中，由于形成弧状边缘的黑矩阵会遮蔽画素超出显示区域所形成的锯齿状边缘。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的观看体验。

为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1是根据本实用新型一实施例的部分显示面板的俯视示意图；

图2是根据本实用新型一实施例的显示面板的结构示意图；

图3是根据本实用新型另一实施例的显示面板的结构示意图；

图4是根据本实用新型又一实施例的显示面板的结构示意图。

附图标记说明：

100、200、300、400：显示面板；

110：画素阵列；

120、120a、120b、120c、120d：黑矩阵；

130：主动阵列基板；

140a、140b：彩色滤波基板；

141：基板；

143：彩色滤波片；

145：电极层；

150：透明盖板；

AA：显示区域；

AT：透光区；

SDP：显示面；

PX：画素。

具体实施方式

图1是根据本实用新型一实施例的部分显示面板的俯视示意图。请参照图1，在本实施例中，显示面板100包括画素阵列110及黑矩阵120。画素阵列110具有以阵列排列的多个画素PX，并且在显示面板100的显示区域AA为非矩形时，例如圆形、椭圆形、半圆形等不规则形状，为了填满显示区域AA，部分画素PX可能会超出显示区域AA。因此，黑矩阵120会配置于画素阵列110上，且在部分的画素PX上形成弧状边缘以遮蔽画素PX中超出显示面板100的显示区域AA的部分。换言之，由于黑矩阵120遮蔽了画素PX超出显示区域AA的部分，因此使用者只会看到黑矩阵120所形成的弧状边缘，但不会看到画素阵列110所形成的锯齿状边缘。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的观看体验。

在本实施例中，画素PX可以是液晶画素，并且黑矩阵120配置于画素PX上，以遮蔽画素PX的走线部分，进而避免画素PX中的走线影响显示面板100的显示品质。换言之，黑矩阵120也定义了画素PX的透光区AT。其中，画素PX的走线部分例如包括扫描线(未示出)、资料线(未示出)、形成储存电容(未示出)的走线、以及主动元件(例如晶体管)，上述为举例以说明，本实用新型的实施例不以此为限。

在本实用新型的实施例中，黑矩阵120可以是金属铬(Cr)黑矩阵、树脂型黑矩阵、无电解电镀镍(Ni)黑矩阵、或者石墨(Graphite)黑矩阵。当黑矩阵120为金属铬黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将铬涂布在基板上、洗净含铬基板、干燥含铬基板、将光阻涂布在含铬基板上、烘烤光阻、洗净含光阻及铬的基板、进行光阻剥离、对铬进行蚀刻、进行显影、进行曝光、洗净含铬基板、以及干燥含铬基板。当黑矩阵120为树脂型黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为洗净基板、将树脂旋转涂布(SpinCoating)于基板上、对基板进行预烤(Pre-bake)、对基板进行曝光(Exposure)、对基板进行显影(Developing)、以及对应基板进行曝后烤(Post-bake)。当黑矩阵120为无电解电镀镍黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将感光性树脂旋转涂布于基板上、对光阻进行曝光、对光阻进行显影、通过氯化钯(PdCl2)水溶液将镍镀于基板上。当黑矩阵120为石墨黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将光阻沉积于基板上、对光阻进行曝光、对光阻进行显影、将石墨沉积于光阻与基板上、以及将光阻剥离，或者黑矩阵120的形成流程也可以为将石墨沉积于基板上、以及对石墨进行蚀刻，其中蚀刻可以分是湿蚀刻(wetetching)或干蚀刻(dryetching)。图2是根据本实用新型一实施例的显示面板的结构示意图。请参照图1及图2，其中相同或相似元件使用相同或相似标号。在本实施例中，显示面板200包括画素阵列110、主动阵列基板130及彩色滤波基板140a，其中画素阵列110是位于主动阵列基板130与彩色滤波基板140a之间，并且黑矩阵120a是形成于彩色滤波基板140a之中。并且，主动阵列基板130上可形成传送信号所需要的走线(例如扫描线、资料线)以及控制画素PX所需要的主动元件(例如晶体管)。

进一步来说，彩色滤波基板140a包括基板141、黑矩阵120a、多个彩色滤波片143及电极层145。黑矩阵120a会先形成于基板141上，以通过黑矩阵120a定义画素PX的透光区AT，其中黑矩阵120a的形成方式可参照图1实施例所述，在此则不再赘述；接着，在黑矩阵120a的开口上布满形成彩色滤波片143的颜料，以定义各个画素PX的色彩(例如红色、绿色或蓝色)；最后，在黑矩阵120a及彩色滤波片143上布满透明导电物质(例如透明导电氧化物或氮化物)，以形成电极层145，其中电极层145用以传送控制画素PX所需要的电压(例如共同电压Vcom)。

依据上述，黑矩阵120a及彩色滤波片143是配置于彩色滤波基板140a的基板141上的同一侧，并且黑矩阵120a是利用一道光掩模(photomask)来形成，以形成可遮蔽画素PX中超出显示面板200的显示区域AA的部分及定义画素PX的透光区AT的黑矩阵120a，即彩色滤波基板140a的制造时间及困难度不会提高。藉此，可达到消除显示区域AA边缘的锯齿状且不会提高显示面板200的制造时间及困难度。

图3是根据本实用新型另一实施例的显示面板的结构示意图。请参照图1至图3，其中相同或相似元件使用相同或相似标号。在本实施例中，显示面板300包括画素阵列110、黑矩阵120b、主动阵列基板130及彩色滤波基板140b，其中彩色滤波基板140b包括基板141、黑矩阵120c、彩色滤波片143及电极层145。在此，黑矩阵120b是用以遮蔽画素PX中超出显示面板300的显示区域AA的部分，而黑矩阵120c是用以定义画素PX的透光区AT。换言之，黑矩阵120b是利用额外的一道光掩模来形成，以致于黑矩阵120b与彩色滤波片143是分别形成于彩色滤波基板140b的基板141上的相对两侧。

依据上述，在彩色滤波基板140b完成后，再利用一道光掩模来形成黑矩阵120b，即黑矩阵120b的形成与彩色滤波基板140b的制作无关。藉此，黑矩阵120b可适用于任何已大致完成的显示面板(如100～300)，即黑矩阵120b具有较高的通用性，并且可通过黑矩阵120b消除画素PX于显示区域AA边缘所形成锯齿状。

图4是根据本实用新型又一实施例的显示面板的结构示意图。请参照图1至图4，其中相同或相似元件使用相同或相似标号。在本实施例中，显示面板400包括画素阵列110、黑矩阵120d、主动阵列基板130、彩色滤波基板140b及透明盖板150，其中画素阵列110与彩色滤波基板140b是位于主动阵列基板130与透明盖板150之间，并且黑矩阵120d是形成于透明盖板150。

进一步来说，黑矩阵120d也利用额外的一道光掩模来形成，并且黑矩阵120d是形成于透明盖板150且相对于显示面SDP，即黑矩阵120d是形成于透明盖板150上未暴露的表面，以避免黑矩阵120d被磨损。同样地，在彩色滤波基板140b完成后，再利用一道光掩模来形成黑矩阵120d，即黑矩阵120d的形成与彩色滤波基板140b的制作无关。藉此，黑矩阵120d可适用于任何已大致完成的显示面板(如100～400)，即黑矩阵120d具有较高的通用性，并且可通过黑矩阵120d消除画素PX于显示区域AA边缘所形成锯齿状。

综上所述，在本实用新型实施例的显示面板中，是利用形成弧状边缘的黑矩阵遮蔽了画素超出显示区域所形成的锯齿状边缘。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的显示品味。并且，黑矩阵可与彩色滤波基板上的彩色滤波片形成于同一侧，以同时定义画素的透光区及遮蔽画素中超出显示区域的部分，并且可维持显示装置的制造时间及困难度。再者，黑矩阵可通过额外的一道光掩模来形成，以提高黑矩阵的通用性。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

一画素阵列，具有以阵列排列的多个画素；以及

一黑矩阵，配置于所述画素阵列上，且在部分的画素上形成弧状边缘以遮蔽所述多个画素中超出所述显示面板的一显示区域的部分，其中所述显示区域为非矩形区域。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括一主动阵列基板及一彩色滤波基板，并且所述画素阵列位于所述主动阵列基板与所述彩色滤波基板之间。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵形成于所述彩色滤波基板。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且所述黑矩阵与所述多个彩色滤波片形成于所述彩色滤波基板上的同一侧。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且所述黑矩阵与所述多个彩色滤波片分别形成于所述彩色滤波基板上的相对两侧。

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括一透明盖板，并且所述画素阵列与所述彩色滤波基板位于所述主动阵列基板与所述透明盖板之间。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵形成于所述透明盖板。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵形成于所述透明盖板且相对于一显示面。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵还定义所述多个画素的透光区域。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个画素为多个液晶画素。