CN205301751U - 一种具有抗电磁波效果的增亮膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种具有抗电磁波效果的增亮膜，提升其使用性能。本实用新型包含有上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、A棱镜结构层以及抗电磁扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，A棱镜结构层设置在A基材的A光学面，抗电磁扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上。本实用新型能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，同时该制备方法简单，适用于大量生产。

Description

一种具有抗电磁波效果的增亮膜

技术领域

本实用新型涉及一种光学保护膜，尤其是涉及一种液晶显示器背光模组中的具有抗电磁波效果的增亮膜。

背景技术

液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说，背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下增亮膜、上增亮膜，增亮膜一般包含基材和棱镜结构层，上增亮膜含雾化层。而目前市场上的增亮膜功能比较单一，不具备抗电磁波的功能，不能满意满足市场的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种具有抗电磁波效果的增亮膜，提升其使用性能。

为达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种具有抗电磁波效果的增亮膜，包含有：上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、A棱镜结构层以及抗电磁扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，A棱镜结构层设置在A基材的A光学面，抗电磁扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上；A棱镜结构层与B棱镜结构层由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成；上增亮膜与下增亮膜的棱镜单体长度方向相互垂直，即A棱镜结构层与B棱镜结构层的棱镜单体长度方向相互垂直；棱镜单体截面为一等腰三角形，A棱镜结构层与B棱镜结构层的棱镜高度d2为15～30μm，棱镜单体之间的间距d4为20～40μm，棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度α为85～95°。

在其中一些实施例中，所述A基材与B基材为PET膜、PC膜或PMMA膜，A基材与B基材厚度d0为23～100μm；抗电磁扩散层为添加有抗电磁波材料的扩散层，抗电磁扩散层厚度d3为4～40μm。

在其中一些实施例中，所述抗电磁扩散层和A棱镜结构层分置在A基材的两面。

本实用新型主要提供一种具有抗电磁波效果的增亮膜，相比传统结构的增亮膜，其在提供轴向亮度增益的同时，能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，提高其使用价值。同时该制备方法简单，适用于大量生产。

附图说明

图1为本实用新型实施例上增亮膜的示意图；

图2为本实用新型实施例下增亮膜的示意图；

图3为本实用新型实施例的结构示意图；

图4为本实用新型实施例的立体示意图。

附图标记说明：

上增亮膜10，A基材11，A棱镜结构层12，抗电磁扩散层13，下增亮膜20，B基材21，B棱镜结构层22。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本实用新型的优点与精神，藉由以下通过实施例对本实用新型做进一步的阐述。

本增亮膜组包括上增亮膜10和下增亮膜20，上增亮膜10包括A基材11、A棱镜结构层12、抗电磁扩散层13，抗电磁波材料添加在抗电磁扩散层13里，抗电磁扩散层13和A棱镜结构层12分置在A基材11的两面；下增亮膜20包括B基材21、B棱镜结构层22。

增亮膜基材(A基材11与B基材21)材料为PET、PC、PMMA等其中一种，厚度d0为23～100μm。

抗电磁扩散层13的原料组成及重量份为：包括丙烯酸类树脂、光扩散粒子和抗电磁波材料，光扩散粒子包含PMMA粒子、PS粒子、SiO₂粒子、TiO₂等粒子一种或几种，粒子大小为2～5μm。抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(20～35份)，溶剂为松油醇(1～5份)与无水乙醇(45～65份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4～5.5份)，分散剂为司班-85(3～5份)。扩散层涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布。

A棱镜结构层12与B棱镜结构层22包含设置成规律的棱镜单体，棱镜单体高度d2为15～30μm，间距d4为20～40μm，其截面为等腰三角形，等腰三角形顶角角度α为85～95°。A棱镜结构层12与B棱镜结构层22的结构层棱镜单体为丙烯酸类树脂经花纹辊转印并经UV光源固化而成。花纹辊为金属轮，表面电镀100～500μm厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成。

各自做好上增亮膜10和下增亮膜20，叠加使用就好。同时，上增量膜10上的扩散层已通过微凹或刮刀涂布得到；下增亮膜20只有棱镜结构，没有扩散层。

抗电磁扩散层13的原料组成及重量份为：

丙烯酸类树脂40～75份，

光扩散粒子3～15份，

抗电磁波材料8～26份；

光扩散粒子为PMMA粒子、PS粒子、SiO₂粒子或TiO₂粒子的一种及其组合，粒子大小为2～30μm。

抗电磁波材料的原料组成及重量份为：

溶剂为松油醇(1～5份)与无水乙醇(45～65份)混合，增稠剂为乙基纤维素，分散剂为司班-85。

本实用新型的制造方法如下：

(1)、选用23～100μm厚度的PET、PC或PMMA作为A基材11在A基材11的B光学面涂布抗电磁扩散层13，涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布；

(2)、在A基材11的A光学面用花纹辊转印丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化，而形成带有若干平行棱镜单体的A棱镜结构层12，得到上增亮膜10；

花纹辊为金属轮，表面电镀100～500μm厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成；

(3)、选用23～100μm厚度的PET、PC或PMMA作为B基材21，在B基材21的上面用花纹辊转印丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化而形成带有若干平行棱镜单体的B棱镜结构层22，得到下增亮膜20；

(4)、各自做好的上增亮膜、下增亮膜，使用时叠加使用，成为具有抗电磁波效果的增亮膜。

在其中一个实施例中，A基材11选用50μm的PET，抗电磁扩散层13采用微凹涂布，厚度d3为7～10μm，其中，光扩散粒子为3μm的SiO₂粒子，抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(26份)，溶剂为松油醇(3份)与无水乙醇(60份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4.7份)，分散剂为司班-85(3.8份)，主胶为丙烯酸类树脂，经烤箱与UV灯后完成扩散层涂布；

在A基材11的另一面涂布A棱镜结构层12。采用花纹辊转印方式涂布，A棱镜结构层12高度为23μm，间距为33μm，截面为等腰直角三角形，得到上增亮膜10。

下增亮膜20按上述结构层方式涂布。

各自做好的上增亮膜10、下增亮膜20，使用时叠加使用，成为具有抗电磁波效果的增亮膜。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的部分实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (3)

1.一种具有抗电磁波效果的增亮膜，包含有：上增亮膜(10)与下增亮膜(20)，其特征在于，所述上增亮膜(10)包含A基材(11)、A棱镜结构层(12)以及抗电磁扩散层(13)；所述A基材(11)包含A光学面和B光学面，所述A棱镜结构层(12)设置在A基材(11)的A光学面，所述抗电磁扩散层(13)层叠在A基材(11)的B光学面；所述下增亮膜(20)包括B基材(21)、B棱镜结构层(22)，所述B棱镜结构层(22)设置在B基材(21)上；

所述A棱镜结构层(12)与B棱镜结构层(22)由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成；所述A棱镜结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜单体长度方向相互垂直；所述棱镜单体截面为一等腰三角形，所述A棱镜结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜高度为15～30μm，所述棱镜单体之间的间距为20～40μm，所述棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度为85～95°。

2.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的增亮膜，其特征在于，所述A基材(11)与B基材(21)为PET膜、PC膜或PMMA膜，所述A基材(11)与B基材(21)厚度为23～100μm；所述抗电磁扩散层(13)为添加有抗电磁波材料的扩散层，所述抗电磁扩散层(13)厚度为4～10μm。

3.根据权利要求1所述的一种具有抗电磁波效果的增亮膜，其特征在于，所述抗电磁扩散层(13)和A棱镜结构层(12)分置在A基材(11)的两面。