CN205120746U - 一种原子力显微镜样品处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种原子力显微镜样品处理装置，包括浸洗池和样品池，所述样品池设置在浸洗池正上方，样品池上均匀设置有若干个下凹的第一单元池，每个第一单元池下端均凸出样品池的底面设置，每个第一单元池上都设置有编号，且每个第一单元池底面开设有一个底孔，每个第一单元池的侧面开设有气孔，所述样品池一侧开设有一个第一置物孔，所述第一置物孔内嵌入式设置有温度传感器，样品池相对于第一置物孔的另一端设置有第二置物孔，所述第二置物孔内嵌入式设置有加热棒。上述技术方案，结构设计合理、结构简单、可以一次性自动化制备多个样品，并且保证处理的流程与各项实验参数一致，提高其制备效率以及实验可重复性。

Description

一种原子力显微镜样品处理装置

技术领域

本实用新型涉及样品处理装置技术领域，具体涉及一种原子力显微镜样品处理装置。

背景技术

原子力显微镜已经广泛应用于成像各种样品，特别是以DNA为代表的生物样品。一般的生物样品制备方法通常以云母或者硅片等平整表面为基底在上面沉积样品，并将其粘在直径为1cm左右的金属铁片上放于原子力显微镜样品台扫描。生物样品的制备包括沉积、清洗、氮气吹干等过程，步骤较多，并且要控制好各个流程的细节譬如沉积时间、清洗时间、氮气流速等。现有的技术方案多采用人工操作，一般一次实验需要制备多个样品，只能依次制备各个样品。这种常规方法制备效率比较低下，并且很难控制每次操作的各项流程参数严格一致，由此造成可重复性差，即使是所用样品相同，所得到的扫描结果经常会不同，造成分析比较的困难。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种结构设计合理、结构简单、可以一次性自动化制备多个样品，并且保证处理的流程与各项实验参数一致，提高制备效率以及实验可重复性的原子力显微镜样品处理装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种原子力显微镜样品处理装置，包括浸洗池和样品池，所述样品池设置在浸洗池正上方，样品池上均匀设置有若干个下凹的第一单元池，每个第一单元池下端均凸出样品池的底面设置，每个第一单元池上都设置有编号，且每个第一单元池底面开设有一个底孔，每个第一单元池的侧面开设有气孔，所述样品池一侧开设有一个第一置物孔，所述第一置物孔内嵌入式设置有温度传感器，样品池相对于第一置物孔的另一端设置有第二置物孔，所述第二置物孔内嵌入式设置有加热棒。

通过采用上述技术方案，独特气孔设置可吹洗样品表面，第一单元池底孔设计方便浸洗池内的浸洗溶剂进入与流出；温度传感器与加热棒的设计便于温度调节；多个重复第一单元池设计和重复气孔设计确保每个样品处理条件相同，并可编号，不会混淆样品；可以一次性自动化制备多个样品，并且保证处理的流程与各项实验参数一致，有效提高了制备效率和可重复性。

本实用新型进一步设置为：所述浸洗池上设置有若干个与所述样品池的第一单元池匹配的第二单元池，且第二单元池数量与第一单元池的数量相等，第二单元池位置对准第一单元池设置，每个第二单元池内均设置有浸洗溶剂，每个第一单元池下端凸出样品池底面部分浸入正下方的第二单元池内。通过本设置，浸洗池结构设置合理，使用方便，与样品池更加匹配。

本实用新型还进一步设置为：每个第一单元池侧面开设的气孔为圆孔，且每个气孔倾斜15-30度设置，气孔的外侧开口直径比内侧开口直径小。通过本设置，气孔的倾斜设置便于气体向样品表面喷出，开口外小内大的尺寸设计可降低氮气流速，并可确保吹洗面积覆盖整个样品表面。

本实用新型还进一步设置为：所述第一置物孔为长方形孔，所述第二置物孔为圆柱孔。通过本设置，结构更加合理，使用方便。

本实用新型还进一步设置为：所述浸洗池和样品池均为长方体结构。通过本设置，结构更加合理，使用方便。

本实用新型的优点是：与现有技术相比，本实用新型结构设置更加合理，独特气孔设置可吹洗样品表面，第一单元池底孔设计方便浸洗池内的浸洗溶剂进入与流出；温度传感器与加热棒的设计便于温度调节；多个重复第一单元池设计和重复气孔设计确保每个样品处理条件相同，并可编号，不会混淆样品；可以一次性自动化制备多个样品，并且保证处理的流程与各项实验参数一致，有效提高了制备效率和可重复性。

下面结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图；

图2为本实用新型实施例样品池的结构示意图一；

图3为本实用新型实施例样品池的结构示意图二；

图4为本实用新型实施例浸洗池的结构示意图。

具体实施方式

参见图1、图2、图3和图4，本实用新型公开的一种原子力显微镜样品处理装置，包括浸洗池1和样品池2，所述样品池2设置在浸洗池1正上方，样品池2上均匀设置有若干个下凹的第一单元池21，每个第一单元池21下端均凸出样品池2的底面设置，每个第一单元池21上都设置有编号，且每个第一单元池21底面开设有一个底孔211，每个第一单元池21的侧面开设有气孔212，所述样品池2一侧开设有一个第一置物孔22，所述第一置物孔22内嵌入式设置有温度传感器3，样品池2相对于第一置物孔22的另一端设置有第二置物孔23，所述第二置物孔23内嵌入式设置有加热棒4。

为使本实用新型结构更加合理，作为优选的，本实施例所述浸洗池1上设置有若干个与所述样品池2的第一单元池21匹配的第二单元池11，且第二单元池11数量与第一单元池21相等，第二单元池11位置对准第一单元池21设置，每个第二单元池11内均设置有浸洗溶剂，每个第一单元池21下端凸出样品池2底面部分浸入正下方的第二单元池11内。浸洗溶剂可以采用乙醇或者去离子水等；每个第二单元池11内的浸洗溶剂为第二单元池11容积的一半。

每个第一单元池21侧面开设的气孔212为圆孔，且每个气孔212倾斜15-30度设置，气孔212的外侧开口直径比内侧开口直径小。

所述第一置物孔22为长方形孔，所述第二置物孔23为圆柱孔。温度传感器3嵌入式设置在第一置物孔22后再通过螺钉锁紧；加热棒4嵌入式设置在第二置物孔23后再通过螺钉锁紧。

所述浸洗池1和样品池2均为长方体结构。浸洗池1上设置若干个第二单元池11，且若干个第二单元池11呈矩形状均匀分布；样品池2上设置若干个第一单元池21，且若干个第一单元池21也呈矩形状均匀分布；第二单元池11的尺寸略大于第一单元池21的尺寸。

实际应用时，独特气孔设置可吹洗样品表面，气孔的倾斜设置便于气体向样品表面喷出，气孔开口外小内大的尺寸设计可降低氮气流速，并可确保吹洗面积覆盖整个样品表面；第一单元池的底孔设计可方便浸洗溶剂进入与流出；温度传感器与加热棒的设计可方便调节温度；第一单元池下凹式设计与配套浸洗池的第二单元池的设计可确保样品浸洗过程一致；多个重复第一单元池设计和重复气孔设计确保每个样品处理条件相同，并可编号，不会混淆样品；可以一次性自动化制备多个样品，该设计还可由现有的数控升降装置控制达到自动化处理目的，有效提高了制备效率和可重复性。

上述实施例对本实用新型的具体描述，只用于对本实用新型进行进一步说明，不能理解为对本实用新型保护范围的限定，本领域的技术工程师根据上述实用新型的内容对本实用新型作出一些非本质的改进和调整均落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种原子力显微镜样品处理装置，包括浸洗池(1)和样品池(2)，其特征在于：所述样品池(2)设置在浸洗池(1)正上方，样品池(2)上均匀设置有若干个下凹的第一单元池(21)，每个第一单元池(21)下端均凸出样品池(2)的底面设置，每个第一单元池(21)上都设置有编号，且每个第一单元池(21)底面开设有一个底孔(211)，每个第一单元池(21)的侧面开设有气孔(212)，所述样品池(2)一侧开设有一个第一置物孔(22)，所述第一置物孔(22)内嵌入式设置有温度传感器(3)，样品池(2)相对于第一置物孔(22)的另一端设置有第二置物孔(23)，所述第二置物孔(23)内嵌入式设置有加热棒(4)。

2.根据权利要求1所述的一种原子力显微镜样品处理装置，其特征在于：所述浸洗池(1)上设置有若干个与所述样品池(2)的第一单元池(21)匹配的第二单元池(11)，且第二单元池(11)数量与第一单元池(21)的数量相等，第二单元池(11)位置对准第一单元池(21)设置，每个第二单元池(11)内均设置有浸洗溶剂，每个第一单元池(21)下端凸出样品池(2)底面部分浸入正下方的第二单元池(11)内。

3.根据权利要求2所述的一种原子力显微镜样品处理装置，其特征在于：每个第一单元池(21)侧面开设的气孔(212)为圆孔，且每个气孔(212)倾斜15-30度设置，气孔(212)的外侧开口直径比内侧开口直径小。

4.根据权利要求3所述的一种原子力显微镜样品处理装置，其特征在于：所述第一置物孔(22)为长方形孔，所述第二置物孔(23)为圆柱孔。

5.根据权利要求4所述的一种原子力显微镜样品处理装置，其特征在于：所述浸洗池(1)和样品池(2)均为长方体结构。