CN204790045U - 一种阳光下可视的盖板镀膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种在阳光下可视的盖板镀膜，其特征在于：在白板玻璃基板上的薄膜12，从内向外依次排列的厚度为13.2纳米的TiO2层，厚度为32.2纳米的SiO2层，厚度为121.3纳米的TiO2层，厚度为37.2纳米的SiO2层，厚度为24.5纳米的TiO2层，厚度为39.4纳米的SiO2层,厚度为113纳米的TiO2层，厚度为86.4纳米的SiO2层；在蓝宝石基板上的薄膜12，从内向外依次排列厚度为15.1纳米的TiO2层，厚度为25.9纳米的SiO2层，厚度为124.9纳米的TiO2层，厚度为33.1纳米的SiO2层，厚度为27纳米的TiO2层，厚度为35.5纳米的SiO2层,厚度为114.3纳米的TiO2层，厚度为86.6纳米的SiO2层。本实用新型使400-700nm波长的光线反射率平均在0.15%以下，明显提高了在阳光下的可视度，效果极其明显。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学镀膜领域，具体的说就是通过镀膜消除视窗盖板表面的反射光，实现阳光下清晰可视。
背景技术
目前用于手机、平板电脑、可穿戴设备等视窗盖板的材料品种、性能日新月异。但在阳光下反射强烈，致使显示图像的目视性变差的问题始终困扰着人们。为了解决这一问题，申请号2015103895465阐述了一种阳光下可视的盖板镀膜。但是，在实际生产过程中，此方法有一定的局限性。比如：氮化硅与氧化硅交替生成，而氮化物的吸收问题一直不能很好解决，使得膜层有渗透，再者，使400-700nm波长的光线反射率平均在0.5%虽说已经有长足进步，但仍有大的进步空间。
发明内容
本实用新型是在基板上，通过基板超声波清洗工艺、溅射、蒸发或喷涂镀膜工艺、光学膜层射频前处理工艺、光学膜层打底工艺、光学膜层应力匹配工艺、在基板的上表面形成本实用新型所述薄膜。
本实用新型由TiO2、SiO2交替叠加而成。由于采用TiO2，避免使用氮化物，巧妙避开了氮化物的吸收问题。通过本实用新型，能使400-700nm波长的光线反射率平均达到0.15%，至此，盖板反射光问题得到了较为彻底的解决。
现有技术的描述
提高屏幕亮度，增加屏幕对比度，这些技术虽然都能提高可视效果，但同时带来很明显的副作用：增加能耗，损伤眼睛。还有传统抗眩光显示屏玻璃多采用氢氟酸蚀刻的方法生产，存在良品率低，对人体及环境有害等缺点，同时阳光下的可视效果不明显。申请号2015103895465阐述了一种阳光下可视的盖板镀膜，使400-700nm波长的光线反射率平均在0.5%。
新技术的描述
本实用新型公开一种在阳光下可视的盖板镀膜，其特征在于：在白板玻璃基板上的薄膜12，从内向外依次排列的厚度为13.2纳米的TiO2层，厚度为32.2纳米的SiO2层，厚度为121.3纳米的TiO2层，厚度为37.2纳米的SiO2层，厚度为24.5纳米的TiO2层，厚度为39.4纳米的SiO2层,厚度为113纳米的TiO2层，厚度为86.4纳米的SiO2层。在蓝宝石基板上的薄膜12，从内向外依次排列厚度为15.1纳米的TiO2层，厚度为25.9纳米的SiO2层，厚度为124.9纳米的TiO2层，厚度为33.1纳米的SiO2层，厚度为27纳米的TiO2层，厚度为35.5纳米的SiO2层,厚度为114.3纳米的TiO2层，厚度为86.6纳米的SiO2层。本实用新型在现有技术的基础上，采用精密制造工艺，交替叠加TiO2、SiO2膜层使400-700nm波长的光线反射率平均在0.15%以下，明显提高了在阳光下的可视度，效果极其明显。同时通过基板超声波清洗工艺、溅射、蒸发或喷涂镀膜工艺、光学膜层射频前处理工艺、光学膜层打底工艺、光学膜层应力匹配工艺、在基板的上表面形成本实用新型所述薄膜。本实用新型所述薄膜还具有超强硬度＞9H，具有很好的抗划伤作用。解决了视窗玻璃易划伤，透过率低影响使用效果的难题。通过检测满足GB-T6739-2006、JISK5600-5-4、ISO/DIN15184对膜层硬度最高9H的评价指标。经过长期使用实验证明，膜层坚硬牢固。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：11是基板，12是薄膜
图2是在白板玻璃基板上镀膜得到的反射率光谱图
图3是在蓝宝石基板上镀膜得到的反射率光谱图
具体实施方式
实施例1
在白板玻璃基板上镀膜，从内向外依次排列的厚度为13.2纳米的TiO2层，厚度为32.2纳米的SiO2层，厚度为121.3纳米的TiO2层，厚度为37.2纳米的SiO2层，厚度为24.5纳米的TiO2层，厚度为39.4纳米的SiO2层,厚度为113纳米的TiO2层，厚度为86.4纳米的SiO2层。完成上述工艺，可以采用分体式或者连续式真空镀膜设备完成。
上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在10nm左右。
在此膜层基础上增加防水防油膜层应视为本专利保护的范围。
如图2所示，本实施例得到的反射率光谱图。
实施例2
在蓝宝石基板上镀膜，从内向外依次排列的厚度为15.1纳米的TiO2层，厚度为25.9纳米的SiO2层，厚度为124.9纳米的TiO2层，厚度为33.1纳米的SiO2层，厚度为27纳米的TiO2层，厚度为35.5纳米的SiO2层,厚度为114.3纳米的TiO2层，厚度为86.6纳米的SiO2层。完成上述工艺，可以采用分体式或者连续式真空镀膜设备完成。
上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在10nm左右。
在此膜层基础上增加防水防油膜层应视为本专利保护的范围。
如图3所示，本实施例得到的反射率光谱图。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
Claims (1)
1.一种在阳光下可视的盖板镀膜，其特征在于：由基板(11)和基板上的薄膜(12)组成，在白板玻璃基板上从内向外依次排列的厚度为13.2纳米的TiO2层，厚度为32.2纳米的SiO2层，厚度为121.3纳米的TiO2层，厚度为37.2纳米的SiO2层，厚度为24.5纳米的TiO2层，厚度为39.4纳米的SiO2层,厚度为113纳米的TiO2层，厚度为86.4纳米的SiO2层；在蓝宝石基板上从内向外依次排列厚度为15.1纳米的TiO2层，厚度为25.9纳米的SiO2层，厚度为124.9纳米的TiO2层，厚度为33.1纳米的SiO2层，厚度为27纳米的TiO2层，厚度为35.5纳米的SiO2层，厚度为114.3纳米的TiO2层，厚度为86.6纳米的SiO2层。
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2015
- 2015-07-26 CN CN201520543685.4U patent/CN204790045U/zh active Active
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