CN204736114U - 一种采用高压水处理抛光布表面的装置 - Google Patents

一种采用高压水处理抛光布表面的装置 Download PDF

Info

Publication number
CN204736114U
CN204736114U CN201520515600.1U CN201520515600U CN204736114U CN 204736114 U CN204736114 U CN 204736114U CN 201520515600 U CN201520515600 U CN 201520515600U CN 204736114 U CN204736114 U CN 204736114U
Authority
CN
China
Prior art keywords
high pressure
pure water
shower nozzle
brush
crocus cloth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201520515600.1U
Other languages
English (en)
Inventor
牛海涛
范强
王勇
魏海霞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MCL Electronic Materials Ltd
Original Assignee
MCL Electronic Materials Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MCL Electronic Materials Ltd filed Critical MCL Electronic Materials Ltd
Priority to CN201520515600.1U priority Critical patent/CN204736114U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN204736114U publication Critical patent/CN204736114U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

一种采用高压水处理抛光布表面的装置,适用于单晶硅抛光片生产中,对抛光布进行表面预处理。本实用新型中的柱塞泵(3)将纯水管路(1)中的纯水施加压力后进入高压供纯水供给装置(4)并经高压纯水管(5)将高压纯水通过喷头(8)喷射到需处理的抛光布上。喷头(8)安装在抛光机主转盘(10)边部的摆臂(7)上,可随抛光机主转盘(10)自抛光机大盘边缘到中心轮附近再回到抛光机主转盘(10)边缘,完成一个摆动周期。刷子(9)与抛光布表面在工作中并不接触,没有相互摩擦,不对抛光布造成损伤。本实用新型提高了抛光布的使用寿命,降低了生产成本,减轻了劳动强度,提高了工作效率。

Description

一种采用高压水处理抛光布表面的装置
技术领域
本实用新型属于单晶硅片抛光生产技术领域,主要涉及一种采用高压水处理抛光布表面的装置。
背景技术
单晶硅抛光片生产中,无论其工艺采用有蜡还是无蜡,均需要在硅片抛光前,以及前后两次的生产间隙对抛光布进行表面预处理。刷去上次抛光过程中残留在抛光布纤维中的抛光液残留,使抛光布表面蓬松,以便在接下来的抛光过程中能蓄含更多的抛光液,对硅片能有效地产生物理化学作用,从而达到更好的抛光效果,此工艺过程在生产中称为“刷布”。
目前,传统的刷布方式有两种:
1、操作工人用一定硬度的毛刷在抛光机大盘运转时用适当的力量按压在抛光布上,并随着抛光布主转盘的运转由靠近圆心的部分逐渐均匀地向外移动到抛光布的边缘,一般要重复2-3次,来完成刷布的过程。
2、将一个与载体板大小相同的圆盘形刷子放置在主转盘上,在主转盘运行时,降下压头压住刷子,按工艺设定的刷布时间完成刷布,此过程虽可在机械臂参与下完成,但仍需操作者在设备上对相应的按钮进行操作来执行。
这种传统的刷布方式存在问题有:1、第一种因操作工用力大小、每次操作时向外移动的速率均无法控制,造成刷布效果亦无法控制;第二种虽然在压力、速度、时间等参数上可以保障刷布过程的一致性,但刷子与抛光布只有原地旋转,而没有从圆心向外的扫除动作,刷下的抛光液残留、刮下的抛光布碎屑以及刷子磨损碎屑、颗粒不能及时冲走,又可能被旋转的刷子带入到主转盘的中心位置。其后果则是在抛光片生产的产品中表现出来硅片表面会有各种划道、沾污等缺陷。2、传统刷布无论哪一种方法均会使抛光布的非工作磨损增加,寿命降低,成本提高;3、传统刷布方式无论上述哪一种均需人工操作,存在人为因素造成的风险且不利于自动化连续生产,影响生产效率。
实用新型内容
鉴于现有技术中所存在的问题,本实用新型提出并公开了一种采用高压水处理抛光布表面的装置,本装置以压缩空气为动力源的柱塞泵给纯水施加以高压,高压水通过一个小孔径的喷头将高压纯水喷射到需要处理的抛光布 上,利用小水珠所携带的动能将嵌入抛光布纤维中的抛光液残留冲刷出来。所设计的刷子与抛光布表面在工作中并不接触,避免了刷子与抛光布表面机械摩擦造成的非工作磨损以及由于相互摩擦而产生的碎屑颗粒沾污硅片。为实现上述发明目的,本实用新型所采取的具体技术方案是:一种采用高压水处理抛光布表面的装置,主要是由柱塞泵、高压纯水供给装置、高压纯水管、驱动电机、喷头、刷子构成;其中,柱塞泵安装在抛光机工厂***纯水管路上,并与工厂***的压缩空气管路连接;高压纯水供给装置通过管路与柱塞泵连接;刷子安装在抛光机主转盘边部的摆臂上的一端,喷头装在刷子的中间并与摆臂连接;摆臂的另一端安装有驱动电机,高压纯水管一端与高压纯水供给装置连接,另一端穿过摆臂内部与喷头连接。所述的一种采用高压水处理抛光布表面的装置,其中安装在抛光机主转盘边部摆臂上的刷子和喷头可随抛光机主转盘均匀转动。
本实用新型所述的一种采用高压水处理抛光布表面的装置,克服了现有技术的不足,实现了抛光布清洗处理过程的自动化,即能满足对抛光布清洗的工艺要求,也避免了抛光布的非工作磨损,提高了抛光布的使用寿命,降低了生产成本,减轻了工人的劳动强度,提高了工作效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中:1、纯水管路;2、压缩空气管路;3、柱塞泵;4、高压纯水供给装置;5、高压纯水管;6、驱动电机;7、摆臂;8、喷头;9、刷子;10、抛光机主转盘。
具体实施方式
下面结合附图给出本实用新型的具体实施方式如下:
如附图1所示,本实用新型所述的一种采用高压水处理抛光布表面的装置,主要是由柱塞泵3、高压纯水供给装置4、高压纯水管5、驱动电机6、摆臂7、喷头8、刷子9构成;其中柱塞泵3安装在抛光机工厂***纯水管路1上;并与工厂***压缩空气管路2连接,由压缩空气管路2提供动力;所产生的脉动高压纯水经过高压纯水供给装置4稳定压力后,通过高压纯水管路5穿过摆臂7的内部到达喷头8,经喷头8作用到抛光机主转盘10的抛光布上。喷头8安装在刷子9的中央,利用刷毛的阻挡来防止作用在抛光布上的水反弹、喷溅;喷头8与刷子9均安装在摆臂7的同一端,摆臂7的另一端与驱动电机6相连接;刷布工作时,驱动电机6带动摆臂7以及安装在摆臂7另一端的喷头8、刷子9一起匀速摆动。高压纯水通过喷头8喷射到需处理的抛光布上,因压力突然被释放,碎裂成碎小的水珠,利用这种小水珠所携带的动能击打在抛光布的表面上,将嵌入抛光布纤维中的抛光液残留冲刷出来。因而可避免传统刷布使用毛刷而对抛光布表面机械摩擦造成的非工作磨损。高速而又细小的水珠对抛光布的处理效果也远远优于普通的毛刷,既能保证有效地将残留的抛光液从抛光布的纤维缝隙中冲洗出来,而又不会对抛光布造成损伤。喷头8安装在抛光机主转盘边部的摆臂7上,并随着主转盘的均匀转动以一定的速度自抛光机大盘边缘到中心轮附近再回到主转盘边缘,完成一个摆动周期。这样配合着主转盘的转动,就可以将抛光布全部清理干净,可按照需要设定其速度和摆动的次数,由于喷头8则是安装在刷子9的中心,刷子9与抛光布表面在工作中并不接触,工作时并不发生相互的摩擦,只是为了将凸起在抛光布表面的水层刮走,以使喷头8喷出的水珠能更有效地作用在抛光布上并防止其四处喷溅,从而就避免了传统刷布时带来的抛光布非工作磨损以及由于相互摩擦而产生的碎屑颗粒沾污。原则上在确保刷子9不能接触到抛光布的前提下,刷子9与抛光布的距离越小效果越好。整个处理过程是在程序控制下自动完成。

Claims (2)

1.一种采用高压水处理抛光布表面的装置,其特征是:所述的一种采用高压水处理抛光布表面的装置,主要由柱塞泵(3)、高压纯水供给装置(4)、高压纯水管(5)、驱动电机(6)、摆臂(7)、喷头(8)、刷子(9)、构成;其中柱塞泵(3)安装在工厂***纯水管路(1)上,并与工厂***的压缩空气管路(2)连接;高压纯水供给装置(4)通过管路与柱塞泵(3)连接在一起;喷头(8)和刷子(9)都装在抛光机主转盘(10)边部摆臂(7)的同一端,喷头(8)安装在刷子(9)的中间位置;驱动电机(6)安装在摆臂(7)的另一端;高压纯水管(5)一端接在高压纯水供给装置(4)上,另一端穿过摆臂(7)与喷头(8)连接。
2.根据权利要求1所述的一种采用高压水处理抛光布表面的装置,其特征是:装在抛光机主转盘(10)边部摆臂(7)上的刷子(9)和喷头(8)可随抛光机主转盘(10)均匀转动。
CN201520515600.1U 2015-07-16 2015-07-16 一种采用高压水处理抛光布表面的装置 Expired - Fee Related CN204736114U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201520515600.1U CN204736114U (zh) 2015-07-16 2015-07-16 一种采用高压水处理抛光布表面的装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201520515600.1U CN204736114U (zh) 2015-07-16 2015-07-16 一种采用高压水处理抛光布表面的装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN204736114U true CN204736114U (zh) 2015-11-04

Family

ID=54417871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201520515600.1U Expired - Fee Related CN204736114U (zh) 2015-07-16 2015-07-16 一种采用高压水处理抛光布表面的装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN204736114U (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107030607A (zh) * 2016-03-21 2017-08-11 浙江森永光电设备有限公司 抛光机中抛光皮的修复方法
CN111098218A (zh) * 2019-12-31 2020-05-05 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 用于硅片的中、精抛布的活化方法
CN111251163A (zh) * 2018-11-30 2020-06-09 有研半导体材料有限公司 一种获得亲水性表面的抛光硅片加工方法
CN115634882A (zh) * 2022-10-24 2023-01-24 湖北鼎锐半导体有限公司 一种cmp抛光垫清洁装置及清洁方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107030607A (zh) * 2016-03-21 2017-08-11 浙江森永光电设备有限公司 抛光机中抛光皮的修复方法
CN111251163A (zh) * 2018-11-30 2020-06-09 有研半导体材料有限公司 一种获得亲水性表面的抛光硅片加工方法
CN111251163B (zh) * 2018-11-30 2021-04-30 有研半导体材料有限公司 一种获得亲水性表面的抛光硅片加工方法
CN111098218A (zh) * 2019-12-31 2020-05-05 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 用于硅片的中、精抛布的活化方法
CN115634882A (zh) * 2022-10-24 2023-01-24 湖北鼎锐半导体有限公司 一种cmp抛光垫清洁装置及清洁方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204736114U (zh) 一种采用高压水处理抛光布表面的装置
CN205703652U (zh) 一种防尘机械加工除锈装置
CN205703679U (zh) 一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机
CN204658194U (zh) 一种清洗装置
CN102962731A (zh) 不锈钢板材8k镜面加工方法
CN105415162A (zh) 一种高精度薄壁轮盘表面精细加工和光整加工方法
CN104128867A (zh) 一种瓷砖抛光机
CN205148074U (zh) 打磨机
CN203031439U (zh) 一种半导体晶片抛光***
CN205765382U (zh) 一种玻璃磨边机
CN205703565U (zh) 一种碳化硅化学抛光机
CN112936534A (zh) 一种陶瓷胚体内外壁酸洗抛光装置及其使用方法
CN204134946U (zh) 手持式水轮机转轮缝隙打磨清洁器
CN106425882B (zh) 单向自动喷砂机
CN204235313U (zh) 一种内孔研磨抛光装置
CN108015674B (zh) 一种研磨装置
CN207071871U (zh) 一种液体喷砂手模清洗加工***
KR20190018374A (ko) 배관 내경 브라스트 장치
CN107876486A (zh) 自动化生产用的板料清洗打磨装置
CN209239775U (zh) 一种打磨抛光装置
CN210360935U (zh) 一种农机配件用喷砂装置
CN202088090U (zh) 一种抛光机
CN103846808A (zh) 一种悬挂式异形件水喷砂抛光机
CN107932284B (zh) 一种铁板去铁锈装置
CN211249569U (zh) 一种cmp不锈钢快速抛光设备

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20151104

Termination date: 20170716