CN203456295U - 单面四串式留边铝金属化聚酯膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型揭示了一种单面四串式留边铝金属化聚酯膜作为电容器的内芯膜材，它由上层膜和下层膜相叠构成的四串式结构，下层膜的宽度A2小于上层膜的宽度A1，且上层膜和下层膜设为聚酯基膜及其上一体镀覆的铝膜，其中上层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有对称的一对内留边并分隔三段铝膜，下层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有一个中留边和一对外留边及其间的两段铝膜。应用本实用新型的技术优点表现为：采用铝作为金属一体化的膜层材料，并采用留边分段间隔铝膜并交错相叠构成四串式结构，能有效防止交流条件下的电化学腐蚀和相对耐压，适于调整电容器的耐压、脉冲、dv/dt等电气特性。并且该薄膜的规格多选和工艺偏差可控，提高了电容器成品的性能稳定性。

Description

单面四串式留边铝金属化聚酯膜

技术领域

本实用新型涉及一种电容器生产基材，尤其涉及一种电容器制造所用的新型内芯膜材。

背景技术

随着电子工业的飞速发展，电容器作为一种应用极为广泛的电子元器件，其产品用量也极大。因此对电容器生产制造的产能提出了更高的要求。从电容器的内芯结构来看，它是由薄膜按照电容器电气特性选择不同绕卷结构制成的。因此，为提高电容器产品的性能，势必从该内芯的薄膜本身结构寻求改进，以满足电容器各种应用的电气性能要求。

从电容器用金属化薄膜的工艺参数来看：金属化薄膜中的金属镀膜是在真空镀膜机内金属蒸汽形成的，涂层厚度很薄，通常只有几十个纳米，直接测量难度较大。目前大多厂家一般通过测量方阻值或电流值来间接反映金属层的厚度，方阻的单位为Ω/□，英译为Resistance square。方阻就是方块电阻，指一个同长同宽（也就是一个正方形）的条件下的金属化薄膜镀层表面边到边之间的电阻。方块电阻有一个特性，即任意大小的正方形边到边的电阻都是一样的，不管边长是1m还是1mm，它们的方阻都是一样，只要测试电极导电区域无法形成正方形的测试值都会产生严重误差。本创作金属化薄膜的性能指标衡量均以理想测量的方阻衡量。

发明内容

本实用新型的目的旨在提出一种单面四串式留边铝金属化聚酯膜。

本实用新型的上述目的，将通过以下技术方案得以实现：单面四串式留边铝金属化聚酯膜，作为电容器的内芯膜材，其特征在于：所述薄膜为由上层膜和下层膜相叠构成的四串式结构，下层膜的宽度A2小于上层膜的宽度A1，且上层膜和下层膜设为聚酯基膜及其上一体镀覆的铝膜，其中上层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有对称的一对内留边并分隔三段铝膜，下层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有一个中留边和一对外留边及其间的两段铝膜。

进一步地，所述上层膜中外侧两段铝膜的宽度C1小于中间一段铝膜的宽度C2。

进一步地，所述下层膜的两段铝膜等长，且下层膜中铝膜的宽度C3大于或等于上层膜中间一段铝膜的宽度C2。

进一步地，所述内留边的宽度B1与中留边的宽度B3相等且均大于外留边的宽度B2。

应用本实用新型的单面四串式留边铝金属化聚酯膜，其技术优点表现为：该薄膜采用铝作为金属一体化的膜层材料，并采用留边分段间隔铝膜并交错相叠构成四串式结构，能有效防止交流条件下的电化学腐蚀和相对耐压，适于调整电容器的耐压、脉冲、dv/dt等电气特性。并且该薄膜的规格多选和工艺偏差可控，提高了电容器成品的性能稳定性。

附图说明

图1是本实用新型单面四串式留边铝金属化聚酯膜一优选实施例的截面结构示意图。

具体实施方式

以下便结合实施例附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。本实用新型针对电容器不断增加的生产需求和性能提升要求，对该电容器的内芯膜材进行改良性研究。

如图1所示，是本实用新型单面四串式留边铝金属化聚酯膜一优选实施例的截面结构示意图。从图示可见该薄膜为由上层膜和下层膜相叠构成的四串式结构，下层膜的宽度A2小于上层膜的宽度A1，且上层膜和下层膜均设为聚酯基膜11及其上一体镀覆的铝膜22，其中上层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有对称的一对内留33并分隔三段铝膜，下层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有一个中留边31和一对外留边32及其间的两段铝膜。

从图示还可见，该上层膜中外侧两段铝膜的宽度C1小于中间一段铝膜的宽度C2；而下层膜的两段铝膜等长，且下层膜中铝膜的宽度C3大于或等于上层膜中间一段铝膜的宽度C2。此外，上述内留边的宽度B1与中留边的宽度B3相等且均大于外留边的宽度B2。

需要说明的是，上述单面四串式留边铝金属化聚酯膜中，聚酯基膜可例如韩国SKC SC42型PET基膜。

上述各种留边旨在保障电容器卷绕中上下两层薄膜间有一定的绝缘强度。但留边的宽度选择具有一定的范围，太大会减小电容的有效面积导致成本浪费，太小会使电容器耐高压的安全距离不足、容易爬电产生飞弧。

上述铝膜则形成电容器的极板并具有良好的自愈性。这是一个形成电容量和保持电容器电气特性的一个最关键的区域，它应保证合适的金属成分比例，防止交流条件下的电化学腐蚀，同时可以提高电容器的相对耐压，选择合适的金属镀层同样可以改变电容器耐压、脉冲、dv/dt等电气特性。通过将上、下层膜相叠，则形成了由留边相隔形成的四段分离的金属化区段，即四串式结构。

该薄膜的具体规格参数以两个产品来看如下表所示（单位mm）：

序号	A1	A2	B1	B2	B3	C1	C2	C3
									1	10	9.0	0.8	0.6	0.8	2.5	3.4	3.5
2	15	14	0.8	0.5	0.8	3.7	6.0	6.1

，它还有其它一些参数，如其常规厚度介于1.5μm-12μm；其方阻介于1-2.5Ω/□，偏差范围为±30%。

该薄膜应用于电容器生产时，采用四串式电容结构，将上、下层膜对中相叠，使下层膜的外留边相对上层膜的边缘均呈内缩状，这样通过各留边相隔形成四段成对的铝膜组。再将相叠的两层薄膜绕卷成柱状，在柱状绕卷的两端面分别喷金引出电极，再通过其它常规工艺完成电容器的生产制造。

通过上述的文字表述可以看出，本实用新型的优点显著：该薄膜采用铝作为金属一体化的膜层材料，并采用留边分段间隔铝膜并交错相叠构成四串式结构，能有效防止交流条件下的电化学腐蚀和相对耐压，适于调整电容器的耐压、脉冲、dv/dt等电气特性。并且该薄膜的规格多选和工艺偏差可控，提高了电容器成品的性能稳定性。

除上述实施例外，本实用新型还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本实用新型所要求保护的范围之内。

Claims (1)

1.单面四串式留边铝金属化聚酯膜，作为电容器的内芯膜材，其特征在于：所述聚酯膜为由上层膜和下层膜相叠构成的四串式结构，下层膜的宽度A2小于上层膜的宽度A1，且上层膜和下层膜设为聚酯基膜及其上一体镀覆的铝膜，其中上层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有对称的一对内留边并分隔三段铝膜，下层膜的聚酯基膜表面沿宽度方向设有一个中留边和一对外留边及其间的两段铝膜；所述上层膜中外侧两段铝膜的宽度C1小于中间一段铝膜的宽度C2，所述下层膜的两段铝膜等长且下层膜中铝膜的宽度C3大于或等于上层膜中间一段铝膜的宽度C2，所述内留边的宽度B1与中留边的宽度B3相等且均大于外留边的宽度B2。

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