CN203429353U - 一种针织面料 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种针织面料，它包括与人体相接触的内层结构和与外界环境接触的外层结构，所述内层结构和外层结构采用两组阳离子纱线沿面料纬向方向套圈并循环交替的相互串套为纬编针织结构，所述的内层结构采用珠地结构有序的成圈和集圈，所述的成圈和集圈交错排列。本实用新型结构简单，使用阳离子纱线缝制的针洞良好，也减少了皮肤与面料之间的黏着感。
Description
技术领域
本实用新型涉及纺织品加工技术领域，具体涉及一种针织面料。
背景技术
阳离子涤纶丝叫阳离子可染涤纶,属于变性涤纶，可以在比普通涤纶较低的染色温度下染色，因而，与普通涤纶相比，在废水排放等节能环保方面有优势。目前，阳离子与普通涤纶相比，同一种组织结构的布种，使用阳离子比普通布种在缝制针洞方面稍差，在使用不同的规格纱线和纱长方面，缝制中产生的针洞也不一致。
并且人们在运动量较大时，大量的汗液使得皮肤与面料之间的黏着感增加，容易造成不适，不能满足消费者的需求。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种针织面料，本实用新型结构简单，使用阳离子纱线缝制的针洞良好，也减少了皮肤与面料之间的黏着感。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：
一种针织面料，它包括与人体相接触的内层结构和与外界环境接触的外层结构，所述内层结构和外层结构采用两组阳离子纱线沿面料纬向方向套圈并循环交替的相互串套为纬编针织结构，所述的内层结构采用珠地结构有序的成圈和集圈，所述的成圈和集圈交错排列。
进一步的，所述阳离子纱线由75D/72F、75D/36F和75D/48F三种规格中的任意两种交织而成。
进一步的，所述阳离子纱线的纱长范围为12cm/50针-7cm/50针。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型结构简单，使用阳离子纱线缝制的针洞良好，通过珠地结构的设置，有效减少了皮肤与面料之间的黏着感。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1是本实用新型的整体结构示意图；
图2是本实用新型的一种线圈成圈示意图。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本实用新型。
参照图1所示，一种针织面料，它包括与人体相接触的内层结构和与外界环境接触的外层结构，内层结构和外层结构采用两组阳离子纱线沿面料纬向方向套圈并循环交替的相互串套为纬编针织结构，内层结构采用珠地结构有序的成圈和集圈，其中成圈和集圈交 错排列；阳离子纱线由75D/72F、75D/36F和75D/48F三种规格中的任意两种交织而成，并且纱线的纱长范围为12cm/50针-7cm/50针。
本实施例的工作原理如下：
为克服面料在缝制方面的针洞，满足服装在加工中的需要，对面料使用的纱线规格和组织结构中纱长做出限制。原料为阳离子纱线，其规格75D/72F或75D/36F或75D/48F三者中任意两者，其纱长为12cm/50针--cm/50针。
在普通的大圆机上，通过线圈的成圈、浮线和集圈三者的变换，实现面料的一面平纹一面珠地的风格，工序简单，易于制造。
图2为本实用新型的一种实施方式：包括纱线路数为1、2、3、4、5、6、7、8，图2中4为上排针盘织针，5为下排针筒织针，6为织针，7为成圈,8为集圈。本实用新型采用一种纱线针织。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种针织面料，其特征在于，它包括与人体相接触的内层结构和与外界环境接触的外层结构，所述内层结构和外层结构采用两组阳离子纱线沿面料纬向方向套圈并循环交替的相互串套为纬编针织结构，所述的内层结构采用珠地结构有序的成圈和集圈，所述的成圈和集圈交错排列。
2.根据权利要求1所述的一种针织面料，其特征在于：所述阳离子纱线由75D/72F、75D/36F和75D/48F三种规格中的任意两种交织而成。
3.根据权利要求1所述的一种针织面料，其特征在于：所述阳离子纱线的纱长范围为12cm/50针-7cm/50针。
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2013
- 2013-08-01 CN CN201320466743.9U patent/CN203429353U/zh not_active Expired - Fee Related
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