CN203366304U - 玻璃电容式触摸屏 - Google Patents
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Abstract
一种玻璃电容式触摸屏包括导电玻璃组件、透明胶层及面板玻璃。导电玻璃组件包括基板、设于基板上的透明导电层、部分覆盖透明导电层的光阻绝缘层、覆盖光阻绝缘层的金属层及完全覆盖金属层及透明导电层的折射率匹配层，折射率匹配层的边缘与基板的边缘接触，折射率匹配层与透明导电层的折射率相差小于透明导电层折射率的15%。透明胶层设于导电玻璃组件上，面板玻璃覆盖在透明胶层上，透明胶层粘合导电玻璃组件与面板玻璃。在上述玻璃电容式触摸屏中，由于折射率匹配层与透明导电层的折射率非常接近，光线在这两者的界面上不易发生折射现象，使得透明导电层的图案花样可见性降低。
Description
技术领域
本实用新型涉及电容式触摸屏，特别是涉及一种玻璃电容式触摸屏。
背景技术
触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备，具有直观、简单、快捷的优点。触摸屏在许多电子产品中已经获得了广泛的应用，比如手机、PDA（个人数字助理）、多媒体、公共信息查询***等。其中，电容式触摸屏有两大类型，一是玻璃电容式触摸屏，另一类是薄膜电容式触摸屏。
玻璃电容式触摸屏是由面板玻璃和导电玻璃组成通过透明光学胶贴合而成。导电玻璃组件在玻璃基片上一面镀有透明导电层，并且透明导电层具有各种形状的图案。由于透明导电层的折射率与玻璃的折射率相差较大，光线在这两者的界面间发生明显的反射及折射，导致透明导电层的图案会较为明显，影响视觉体验。
实用新型内容
基于此，有必要针对透明导电层影响触摸屏的视觉效果问题，提供一种可降低导电图案可见性的玻璃电容式触摸屏。
一种玻璃电容式触摸屏，包括：
导电玻璃组件，包括：
基板；
透明导电层，设于所述基板上；
光阻绝缘层，部分覆盖所述透明导电层；
金属层，覆盖所述光阻绝缘层，且所述金属层的边缘与所述透明导电层接触；及
折射率匹配层，完全覆盖所述金属层及所述透明导电层，且所述折射率匹配层的边缘与所述基板的边缘接触，所述折射率匹配层的折射率与所述透明导电层的折射率相差小于所述透明导电层折射率的15%；
透明胶层，设于所述导电玻璃组件上；及
面板玻璃，覆盖在所述透明胶层上，所述透明胶层粘合所述导电玻璃组件与所述面板玻璃。
在其中一个实施例中，所述折射率匹配层为单层光学薄膜。
在其中一个实施例中，所述折射率匹配层为氧化铌薄膜或氧化锆薄膜或氧化钛薄膜或氧化钽薄膜。
在其中一个实施例中，所述折射率匹配层的厚度为100～111nm。
在其中一个实施例中，所述折射率匹配层为涂层，所述涂层为氧化铌颗粒或氧化锆颗粒或氧化钛颗粒或氧化钽颗粒均匀分布于有机溶剂中形成的。
在其中一个实施例中，所述折射率匹配层的厚度小于3微米。
在其中一个实施例中，所述透明导电层为铟锡氧化物层，所述折射率匹配层为氧化铌层，所述氧化铌层的厚度为101nm。
在其中一个实施例中，所述透明导电层为铟锡氧化物层，所述折射率匹配层为氧化锆层，所述氧化锆层的厚度为111nm。
在其中一个实施例中，所述基板的厚度为0.2～0.55mm，所述面板玻璃的厚度为0.55～1.5mm，所述透明胶层的厚度约为0.175mm，所述折射率匹配层的厚度为105～115nm。
在其中一个实施例中，所述导电玻璃组件还包括透明导电屏蔽层及二氧化硅保护层，所述透明导电屏蔽层设于所述基板远离所述透明导电层的侧面上，所述二氧化硅保护层覆盖于所述透明导电屏蔽层上。
在上述玻璃电容式触摸屏中，折射率匹配层与透明导电层的折射率相差小于透明导电层折射率的15%。由于折射率匹配层与透明导电层的折射率非常接近，光线在这两者的界面上不易发生折射现象，使得透明导电层的图案花样可见性降低。同时，根据增透膜原理，可以设计折射率匹配层的厚度，使得上下两个界面的反射光发生干涉相消，将反射光强度降到最低，进一步降低透明导电层的图案可见性。
并且，折射率匹配层还具有膜层致密性，抗化学腐蚀性，可见光透过性好等特点，能很好的保护导电玻璃上的感应线路。同时，此方法不需要特殊设备，技术转化成本低。
附图说明
图1为一实施方式的玻璃电容式触摸屏图的结构示意图。
具体实施方式
一种玻璃电容式触摸屏100包括导电玻璃组件110、面板玻璃120及光学透明胶层130。导电玻璃组件110与面板玻璃120通过光学透明胶层130贴合制成玻璃电容式触摸屏100。
导电玻璃组件110包括基板111、透明导电层112、光阻绝缘层113、金属层114、折射率匹配层115、透明导电屏蔽层116及二氧化硅保护层117。
基板111为玻璃基片。基板的厚度为0.2～0.55mm。
透明导电层112设于基板111上。透明导电层由透明材料制成。透明导电层可以为铟锡氧化物（ITO）半导体透明导电层或锑锡氧化物透明导电层。利用磁控溅射的方法，在基板111的一面镀制透明导电薄膜。在透明导电薄膜上涂布光阻剂，在预制图案下曝光，通过显影、蚀刻、剥膜过程制得到透明导电薄膜图案花样。光阻绝缘层113部分覆盖透明导电层112。然后在镀完透明导电层的基板111上涂布OC光阻，在架桥图案下曝光、显影制得光阻绝缘层113。
金属层114覆盖光阻绝缘层113，且金属层114的边缘与透明导电层112接触。用磁控溅射法在光阻绝缘层113上镀上金属膜，涂布光阻剂，在金属架桥图案下经过曝光、显影、蚀刻、剥膜过程完成金属架桥及边缘走线，形成金属层114。
折射率匹配层115完全覆盖金属层114及透明导电层112，且折射率匹配层115的边缘与基板111的边缘接触，折射率匹配层115与透明导电层112的折射率相差小于透明导电层112折射率的15%。由于折射率匹配层115与透明导电层112的折射率非常接近，光线在这两者的界面上不易发生折射现象，使得透明导电层112的图案花样可见性降低。同时，根据增透膜原理，可以设计折射率匹配层115的厚度，使得上下两个界面的反射光发生干涉相消，将反射光强度降到最低，进一步降低透明导电层112的图案可见性。折射率匹配层115的厚度需要控制在100～115nm左右。
具体在本实施方式中，当透明导电层112为ITO薄膜时，则ITO薄膜折射率为2.03。典型可见光波长为550nm，折射率匹配层115选用折射率为2.3的氧化铌，则折射率匹配层115的最佳厚度约为101nm。在其他实施方式中，折射率匹配层115还可以选用折射率为n=2.0的氧化锆，则折射率匹配层115的最佳厚度约为111nm。
除能降低图案可见性外，此折射率匹配层115还具有膜层致密，抗化学腐蚀，可见光透过性好等特点，能很好的保护导电玻璃上的感应线路。同时，此方法不需要特殊设备，技术转化成本低。
折射率匹配层115为单层光学薄膜。折射率匹配层115为氧化铌薄膜或氧化锆薄膜或氧化钛薄膜或氧化钽薄膜。折射率匹配层115的厚度为100～111nm。透明导电层112为铟锡氧化物层，折射率匹配层115为氧化铌层，氧化铌层的厚度为101nm。在其他实施方式中，透明导电层112为铟锡氧化物层，折射率匹配层115为氧化锆层，氧化锆层的厚度为111nm。
折射率匹配层115为涂层。折射率匹配层115为氧化铌颗粒或氧化锆颗粒或氧化钛颗粒或氧化钽颗粒均匀分布于有机溶剂中形成的涂层。具体的，氧化铌颗粒或氧化锆颗粒或氧化钛颗粒或氧化钽颗粒可以均匀分布于2-丁酮等有机溶剂中。折射率匹配层115的厚度小于3微米。
透明导电屏蔽层116设于基板111远离透明导电层112的侧面上。透明导电屏蔽层116为铟锡氧化物透明导电屏蔽层，透明导电屏蔽层116整面镀在基板111的侧面上。透明导电屏蔽层116屏蔽显示模组的电磁干扰，提高玻璃电容式触摸屏100的可靠性。
二氧化硅保护层117覆盖于透明导电屏蔽层116上。二氧化硅保护层117整面镀在透明导电屏蔽层116上。
透明胶层130设于导电玻璃组件上。透明胶层为OCA光学胶。透明胶层的厚度约为0.175mm。
面板玻璃120覆盖在导电玻璃组件110上。面板玻璃120通过透明胶层130粘合在导电玻璃组件110上。面板玻璃120的厚度为0.55～1.5mm。面板玻璃120为表面印有装饰油墨的钢化玻璃。
在上述玻璃电容式触摸屏100中，折射率匹配层115与透明导电层112的折射率相差小于透明导电层112折射率的15%。由于折射率匹配层115与透明导电层112的折射率非常接近，光线在这两者的界面上不易发生折射现象，使得透明导电层112的图案花样可见性降低。同时，根据增透膜原理，可以设计折射率匹配层115的厚度，使得上下两个界面的反射光发生干涉相消，将反射光强度降到最低，进一步降低透明导电层112的图案可见性。
并且，折射率匹配层115还具有膜层致密性，抗化学腐蚀性，可见光透过性好等特点，能很好的保护导电玻璃110上的感应线路。同时，此方法不需要特殊设备，技术转化成本低。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种玻璃电容式触摸屏，其特征在于，包括：
导电玻璃组件，包括：
基板；
透明导电层，设于所述基板上；
光阻绝缘层，部分覆盖所述透明导电层；
金属层，覆盖所述光阻绝缘层，且所述金属层的边缘与所述透明导电层接触；及
折射率匹配层，完全覆盖所述金属层及所述透明导电层，且所述折射率匹配层的边缘与所述基板的边缘接触，所述折射率匹配层的折射率与所述透明导电层的折射率相差小于所述透明导电层折射率的15%；
透明胶层，设于所述导电玻璃组件上；及
面板玻璃，覆盖在所述透明胶层上，所述透明胶层粘合所述导电玻璃组件与所述面板玻璃。
2.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述折射率匹配层为单层光学薄膜。
3.根据权利要求2所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述折射率匹配层为氧化铌薄膜或氧化锆薄膜或氧化钛薄膜或氧化钽薄膜。
4.根据权利要求2所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述折射率匹配层的厚度为100～111nm。
5.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述折射率匹配层为涂层。
6.根据权利要求5所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述折射率匹配层的厚度小于3微米。
7.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述透明导电层为铟锡氧化物层，所述折射率匹配层为氧化铌层，所述氧化铌层的厚度为101nm。
8.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述透明导电 层为铟锡氧化物层，所述折射率匹配层为氧化锆层，所述氧化锆层的厚度为111nm。
9.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述基板的厚度为0.2～0.55mm，所述面板玻璃的厚度为0.55～1.5mm，所述透明胶层的厚度约为0.175mm，所述折射率匹配层的厚度为105～115nm。
10.根据权利要求1所述的玻璃电容式触摸屏，其特征在于，所述导电玻璃组件还包括透明导电屏蔽层及二氧化硅保护层，所述透明导电屏蔽层设于所述基板远离所述透明导电层的侧面上，所述二氧化硅保护层覆盖于所述透明导电屏蔽层上。
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