CN203325345U - 复合一体式微透镜防伪标识 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种复合一体式微透镜防伪标识,其基本构造是在一种透明塑料基膜上的信息层上制作微透镜阵列,在另一种透明塑料基膜上的信息层上制作微图文阵列,再将两种透明基膜的底面对底面叠加在一起,用透明胶复合为一个整体。微透镜阵列和微图文阵列都为浮雕型图案,可以是模压成型的图形结构,也可以是UV转印成型的图形结构。复合一体式微透镜防伪标识,具有微图文放大效果和立体动态识别特征。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种一体式微透镜防伪标识,具体说是采用复合结构的一体式微透镜防伪标识。
背景技术
微透镜防伪标识是一种新型的双层图形结构防伪标识,即由微透镜阵列与微图文阵列重叠组成的双层图形复合结构防伪标识。这种防伪标识的产品形式有分体式和一体式(或称整体式)两种。这在专利201020143542.1中已经公开。但该专利给出的一体式产品的结构不够具体。
发明内容
本实用新型基于专利201020143542.1中提出的“微透镜防伪标识”的整体式产品,提供一种实用化的产品结构形式,即复合一体式微透镜防伪标识。本实用新型给出复合一体式微透镜防伪标识的具体结构,并在微透镜阵列和微图文阵列的制作工艺和图案排列结构方面增加新的内容。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:在一种透明塑料基膜上的信息层上制作微透镜阵列,在另一种透明塑料基膜上的信息层上制作微图文阵列,再将两种透明基膜的底面对底面叠加在一起,用透明胶复合为一个整体,成为复合一体式微透镜防伪标识。
在透明塑料基膜的信息层上制作的微透镜阵列和微图文阵列为浮雕图形结构,其制作步骤为:用计算机设计和绘制阵列图案,用制版设备制作光刻胶母版,用电铸设备制作金属镍版,再利用全息模压、UV转印等工艺将微透镜阵列和微图文阵列的浮雕结构制作在透明塑料基膜表面上涂敷的信息层上。
在透明塑料基膜表面的信息层上制作的微透镜阵列和微图文阵列的图形,根据采用的制作工艺有以下两种类型:
1、利用全息模压工艺,通过金属镍版,在透明塑料基膜表面上涂敷的模压信息层上模压成型的图形结构;
2、利用UV转印工艺,通过转移介质,在透明塑料基膜表面上涂敷的UV信息层上转印成型的图形结构。
在透明塑料基膜表面的信息层上制作的微透镜阵列采用二元相位微透镜阵列(亦称菲涅耳波带微透镜阵列),微透镜图案的排列方式有两种:
1、按照正方形方式排列的二元相位微透镜阵列。其排列特点是每相邻的四个微透镜的中心连线为正方形。
2、按照正三角形方式排列的二元相位微透镜阵列。其排列特点是每相邻的三个微透镜的中心连线为正三角形。
在透明塑料基膜表面的信息层上制作的微图文阵列的排列方式与微透镜阵列的排列方式相对应。
将制作好微透镜阵列的透明塑料基膜的底面(未涂敷信息层的一面)与制作好微图文阵列的透明塑料基膜的底面(未涂敷信息层的一面)相对叠加,中间用透明胶,把它们复合为一个整体,成为复合一体式微透镜防伪标识。
复合一体式微透镜防伪标识在微透镜阵列与微图文阵列叠加复合时要注意满足下面两个条件:
1、微透镜阵列与微图文阵列的排列方向一致;
2、微透镜阵列与微图文阵列之间的距离与设计的透镜物距一致。
复合一体式微透镜防伪标识一般制作为粘贴标识,粘贴胶涂敷在微图文阵列一面。为保护微图文阵列图形的浮雕结构,一般先在微图文浮雕结构表面镀铝,再在铝层外涂敷粘贴胶。
复合一体式微透镜防伪标识的识别特征是,从微透镜阵列面观察,能够看到被放大的微图文阵列,被放大的微图文阵列与标识表面不在一个平面上具有立体效果,如果倾斜标识或者标识不动人眼偏移,能够观察到被放大的微图文阵列的动态效果。
本实用新型的有益效果是,对专利201020143542.1中提出的“微透镜防伪标识”的整体式产品,提供一种实用化的产品结构形式,即复合一体式微透镜防伪标识。给出复合一体式微透镜防伪标识的具体结构,并在微透镜阵列和微图文阵列的制作工艺方面,以及微透镜阵列图案的排列结构方面增加新的内容。这种防伪标识具有微图文放大和立体动态识别特征,具有实际开发前景。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型基本结构的局部截面放大示意图。
图2是本实用新型实施例采用的微透镜阵列图案。
图3是本实用新型实施例采用的微图文阵列图案。
具体实施方式
如图1所示,1为微透镜阵列的透明塑料基膜,2为在透明塑料基膜1上涂敷的信息层,3为在信息层2上制作的浮雕型微透镜阵列;4为微图文阵列的透明塑料基膜,5为在透明塑料基膜4上涂敷的信息层,6为在信息层5上制作的浮雕型微图文阵列;7为透明复合胶层。
实施例:制作微透镜阵列的透明塑料基膜采用市售PET膜,其上已涂敷全息模压信息层。基膜厚度20微米,信息层厚度2至3微米。采用全息模压工艺将镍版上的微透镜浮雕图案转移到信息层上。图2是本实施例采用的按照正三角形方式排列的二元相位微透镜阵列图案。制作微图文阵列的透明塑料基膜采用市售PET铝膜,其上已涂敷全息模压信息层,并且已镀有铝层。基膜厚度20微米,信息层厚度2至3微米。采用全息模压工艺将镍版上的微图文浮雕图案转移到镀铝的信息层上。图3是本实施例采用的微图文阵列图案,其图案的排列方式与微透镜阵列的排列方式一致,也按照正三角形方式排列。再将两种透明基膜的底面对底面叠加在一起,用透明胶复合为一个整体,成为复合一体式微透镜防伪标识,透明复合胶层的厚度为5微米。复合时使微透镜阵列与微图文阵列的排列方向一致。复合后的标识总厚度为50微米,这与设计的透镜物距一致。在微图文阵列的镀铝层一侧涂敷不干胶,即可制作成不干胶贴标。
Claims (9)
1.复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在一种透明塑料基膜上的信息层上制作微透镜阵列,在另一种透明塑料基膜上的信息层上制作微图文阵列,再将两种透明基膜的底面对底面叠加在一起,用透明胶复合为一个整体。
2.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微透镜阵列,是按照正方形方式排列的二元相位微透镜阵列,每相邻的四个微透镜的中心连线为正方形。
3.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微透镜阵列,是按照正三角形方式排列的二元相位微透镜阵列,每相邻的三个微透镜的中心连线为正三角形。
4.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:微图文阵列的排列方式与微透镜阵列的排列方式一致。
5.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微透镜阵列,为模压成型的图形结构。
6.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微透镜阵列,为UV转印成型的图形结构。
7.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微图文阵列,为模压成型的图形结构。
8.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:在透明塑料基膜上的信息层上制作的微图文阵列,为UV转印成型的图形结构。
9.根据权利要求1所述的复合一体式微透镜防伪标识,其特征在于:复合后的微透镜阵列与微图文阵列排列方向一致,并且微透镜阵列到微图文阵列的距离与设计的透镜物距一致。
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