CN202805375U - 石膏板的移动整平组件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种用于生产石膏板的移动整平组件,包括第一搁置架(41)和第二搁置架(42),第一搁置架(41)通过固定件(411)可移动地固定在辊道框架(6)上,第二搁置架(42)通过紧固件(421)可移动地固定在辊道框架(6)上,第一搁置架(41)和第二搁置架(42)的上部分别设有第二凹槽(418)和第四凹槽(428),第二凹槽(418)和第四凹槽(428)均用于放置整平板。根据本实用新型的移动整平组件,能够实现将整平板搁置架可移动地固定在辊道框架上,从而能够适应不同料浆的初凝时间,实现石膏板均匀有效的整平。本实用新型的移动整平组件可用于石膏板生产的技术领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于生产石膏板的移动整平组件,适用于建材制造的技术领域。
背景技术
石膏板是建筑领域经常使用的材料。石膏板的生产过程一般采用流水线作业的方式,在下板上摊铺石膏,然后再在石膏层的上面加盖上板。在加盖上板之前,需要将石膏层的上表面摊平,因此需要设置整平装置。
如图1所示,显示了石膏板生产流水线的示意图,其中设置有整平装置。石膏从供料机1中供出,并在传送带2上向前传送,其中传送带2通过辊3的转动而带动。在流水线上的预定位置设置搁置架4,整平板固定在搁置架4的凹槽7内。搁置架4焊接在辊道框架6的预定位置处,辊道框架6通过支柱5支撑。
在石膏板的生产过程中,一般需要在初凝结束以前实现板材的有效整平。对于石膏板生产线来说,较多地是采用电厂脱硫石膏作为生产原料,经过炒制得到的熟石膏粉在生产过程中会出现初凝时间不同的问题。然而,现有技术中的整平板都是通过搁置架固定焊接在预定的位置而不能根据需要进行调整,所以不能根据需要对石膏板进行均匀有效的整平。这将导致石膏板在生产过程中可能出现局部板芯与护面层之间存在气泡而剥离的情形。因此,现有技术中需要一种能够调整整平板位置的技术方案。
实用新型内容
本实用新型提供了一种可移动的石膏板整平组件,从而解决了能够根据需要沿着生产线移动整平板的技术问题。
根据本实用新型的用于生产石膏板的移动整平组件,包括搁置架,搁置架可移动地固定在辊道框架上,搁置架的上部设有凹槽用于放置整平板。
其中,搁置架可包括第一搁置架和第二搁置架,第一搁置架通过固定件可移动地固定在辊道框架上,第二搁置架通过紧固件可移动地固定在辊道框架上,第一搁置架和第二搁置架的上部可分别设有第二凹槽和第四凹槽,第二凹槽和第四凹槽均用于放置整平板。
第一搁置架和第二搁置架的上部还可分别设有第一凹槽和第三凹槽,当不使用整平板时,整平板能够放置在第一凹槽和第三凹槽中。其中,第一凹槽的位置高于第二凹槽,第三凹槽的位置高于第四凹槽。
优选地,固定件从侧面将第一搁置架固定在辊道框架上,紧固件从下面将第二搁置架固定在辊道框架上。并且,第一搁置架的右侧可设有气缸,用于顶起整平板。第二搁置架还可设有辊托板和下部固定板。优选地,下部固定板上设有开口,紧固件穿过开口将第二搁置架固定在辊道框架上。
虽然实施例中采用了两个搁置架,但是实际应用中可以根据需要采用不同的个数,并且固定的方式也是可以选择的。
附图说明
图1显示了现有技术的石膏板生产流水线的示意图。
图2显示了设有本实用新型的整平板搁置架的石膏板生产流水线的示意图。
图3显示了图2中A-A剖面的横截面图。
图4显示了图2中B-B剖面的横截面图。
图5显示了第二搁置架的正视图。
图6显示了第二搁置架的侧视图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下文中将结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
图2显示了设有本实用新型的整平板搁置架的石膏板生产流水线的示意图。图2中包括两种不同的搁置架,分别为第一搁置架41和第二搁置架42。第一搁置架41和第二搁置架42都可以根据需要可移动地固定在流水线上的不同位置。其中,第一搁置架41通过固定件411从侧面固定在辊道框架6上,第二搁置架42通过紧固件421从下面固定在辊道框架6上。由此,第一搁置架41和第二搁置架42能够可移动地固定在辊道框架6上,满足了不同料浆的不同初凝时间的要求,实现了石膏板的有效均匀整平。
参见图2和图3,第一搁置架41上方分别设有两个开口凹槽,即第一凹槽417和第二凹槽418,整平板8搁置在第二凹槽418中,整平板8的下端贴近传送带2上传送的石膏料,整平板8的下端和石膏料的上表面之间的距离固定,从而能够将石膏料的上表面整平,并能够去除颗粒较大的杂物。第一凹槽417的位置高于第二凹槽418,其作用为当不使用整平板8时,可以将整平板8放置在第一凹槽417中。参见图3,第一搁置架41的右端放置气缸412,其作用为当在石膏板的整平期间出现卡死等阻止传送带运行的情形时,可以将整平板顶起,从而清除障碍,使得传送带能够继续顺利前行。
参见图2和4-6,尤其参照图5-6,其中显示了第二搁置架42。与第一搁置架41类似,第二搁置架42包括第三凹槽427和第四凹槽428,其作用和位置分别与第一搁置架41中的第一凹槽417和第二凹槽418相同。与第一搁置架41不同的是,第二搁置架42还设有辊托板422和下部固定板424,其中下部固定板424上设有开口423。第二搁置架42通过穿过开口423中的紧固件421固定在辊道框架6上。
本实用新型中使用了两种可移动的搁置架,克服了现有技术中焊接固定搁置架的技术缺陷,实现了能够根据石膏料浆初凝时间的不同而自由移动搁置架,从而实现了能够均匀有效地整平石膏板的技术效果。
虽然本实用新型所揭露的实施方式如上,但所述的内容只是为了便于理解本实用新型而采用的实施方式,并非用以限定本实用新型。任何本实用新型所属技术领域内的技术人员,在不脱离本实用新型所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化,但本实用新型的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (8)
1.一种用于生产石膏板的移动整平组件,包括搁置架,其特征在于:所述搁置架可移动地固定在辊道框架(6)上,所述搁置架的上部设有凹槽用于放置整平板。
2.根据权利要求1所述的移动整平组件,其特征在于:所述搁置架包括第一搁置架(41)和第二搁置架(42),所述第一搁置架(41)通过固定件(411)可移动地固定在所述辊道框架(6)上,所述第二搁置架(42)通过紧固件(421)可移动地固定在所述辊道框架(6)上,所述第一搁置架(41)和所述第二搁置架(42)的上部分别设有第二凹槽(418)和第四凹槽(428),所述第二凹槽(418)和所述第四凹槽(428)均用于放置所述整平板。
3.根据权利要求2所述的移动整平组件,其特征在于:所述第一搁置架(41)和第二搁置架(42)的上部还分别设有第一凹槽(417)和第三凹槽(427),当不使用所述整平板时,所述整平板能够放置在所述第一凹槽(417)和所述第三凹槽(427)中。
4.根据权利要求2所述的移动整平组件,其特征在于:所述固定件(411)从侧面将所述第一搁置架(41)固定在所述辊道框架(6)上,所述紧固件(421)从下面将所述第二搁置架(42)固定在所述辊道框架(6)上。
5.根据权利要求3所述的移动整平组件,其特征在于:所述第一凹槽(417)的位置高于所述第二凹槽(418),所述第三凹槽(427)的位置高于所述第四凹槽(428)。
6.根据权利要求2所述的移动整平组件,其特征在于:所述第一搁置架(41)的右侧设有气缸(412),用于顶起所述整平板。
7.根据权利要求2所述的移动整平组件,其特征在于:所述第二搁置架(42)还设有辊托板(422)和下部固定板(424)。
8.根据权利要求7所述的移动整平组件,其特征在于:所述下部固定板(424)上设有开口(423),所述紧固件(421)穿过所述开口(423)将所述第二搁置架(42)固定在所述辊道框架(6)上。
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CN201220475242.2U CN202805375U (zh) | 2012-09-17 | 2012-09-17 | 石膏板的移动整平组件 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114393671A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-26 | 肇庆北新建材有限公司 | 一种板材平整度控制装置及方法 |
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2012
- 2012-09-17 CN CN201220475242.2U patent/CN202805375U/zh not_active Expired - Lifetime
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GR01 | Patent grant | ||
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Assignee: XINXIANG BEIXIN BUILDING MATERIAL CO.,LTD. Assignor: BEIJING NEW BUILDING MATERIALS PLC Contract record no.: 2017990000001 Denomination of utility model: Movable evening assembly for gypsum boards Granted publication date: 20130320 License type: Common License Record date: 20170106 |
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LICC | Enforcement, change and cancellation of record of contracts on the licence for exploitation of a patent or utility model | ||
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