CN202804910U - 晶体频率片研磨机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型是一种晶体频率片研磨机,包括机架和研磨机构,所述的研磨机构包括安装在机架上的下研磨组件和设在机架上方的上研磨盘,上研磨盘上连接有驱动气缸,上研磨盘的中心部位设有轴孔,所述的机架上设有与轴孔配合的上研磨盘驱动轴,上研磨盘下表面上设有流砂槽;所述的下研磨组件包括同圆心设置的外齿圈和内齿圈,在外齿圈和内齿圈之间设有与上研磨盘旋转方向相反的下研磨盘,下研磨盘的上表面上设有流砂槽,所述的外齿圈设在上研磨盘驱动轴的外圆周面上。本实用新型通过研磨机构实现自动研磨晶体频率片,其使用方便,大大是提高了生产效率,降低了废品率,提高了产品质量,降低了工人劳动强度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种晶体频率片制造设备,特别是一种晶体频率片研磨机。
背景技术
晶体频率片在制作过程中需要进行研磨,现有的常使用人工进行研磨,其研磨效率低,产品质量不稳定,废品率高。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种设计合理、使用方便的晶体频率片研磨机。
本实用新型所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的。本实用新型是一种晶体频率片研磨机,其特点是:包括机架和研磨机构,所述的研磨机构包括安装在机架上的下研磨组件和设在机架上方的上研磨盘,上研磨盘上连接有驱动气缸,上研磨盘的中心部位设有轴孔,所述的机架上设有与轴孔配合的上研磨盘驱动轴,上研磨盘下表面上设有流砂槽;所述的下研磨组件包括同圆心设置的外齿圈和内齿圈,在外齿圈和内齿圈之间设有与上研磨盘旋转方向相反的下研磨盘,下研磨盘的上表面上设有流砂槽,所述的外齿圈设在上研磨盘驱动轴的外圆周面上。
本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,上研磨盘驱动轴上设有键槽,上研磨盘的轴孔上设有与键槽配合的花键。
与现有技术相比,本实用新型通过研磨机构实现自动研磨晶体频率片,其使用方便,大大是提高了生产效率,降低了废品率,提高了产品质量,降低了工人劳动强度。
附图说明
图1为本实用新型的一种结构示意图。
图2为下研磨组件的俯视结构示意图。
图3为上研磨盘的结构示意图。
具体实施方式
以下参照附图,进一步描述本实用新型的具体技术方案,以便于本领域的技术人员进一步地理解本发明,而不构成对其权利的限制。
参照图1、图2和图3,一种晶体频率片研磨机,包括机架4和研磨机构,所述的研磨机构包括安装在机架4上的下研磨组件和设在机架4上方的上研磨盘1,上研磨盘1上连接有驱动气缸,上研磨盘1的中心部位设有轴孔7,所述的机架4上设有与轴孔7配合的上研磨盘驱动轴2,上研磨盘驱动轴2上设有键槽,上研磨盘1的轴孔7上设有与键槽配合的花键;上研磨盘1下表面上设有流砂槽6;所述的下研磨组件包括同圆心设置的外齿圈5和内齿圈8,在外齿圈5和内齿圈8之间设有与上研磨盘1旋转方向相反的下研磨盘3,下研磨盘3的上表面上设有流砂槽6,所述的外齿圈5设在上研磨盘驱动轴2的外圆周面上。
使用时需要用到游轮,所述的游轮为圆形的模板,游轮的外周边上设有齿牙,游轮上设有若干个晶体频率片模孔。
使用时,通过驱动气缸将上研磨盘1抬起,将装有晶体频率片的游轮放置在下研磨盘3上,合上上研磨盘1,上研磨盘1中心部位的轴孔7固定连接在上研磨盘驱动轴2上,启动电机,上研磨盘1和下研磨盘3方向相反的旋转运动,游轮在上研磨盘1和下研磨盘3之间游动,游动时游轮的齿牙会与外齿圈5或内齿圈8的齿相啮合,从而又被反复的驱动游动,这样就实现了研磨,研磨出来的粉通过流砂槽6而排出上研磨盘1和下研磨盘3。
Claims (2)
1.一种晶体频率片研磨机,其特征在于:包括机架和研磨机构,所述的研磨机构包括安装在机架上的下研磨组件和设在机架上方的上研磨盘,上研磨盘上连接有驱动气缸,上研磨盘的中心部位设有轴孔,所述的机架上设有与轴孔配合的上研磨盘驱动轴,上研磨盘下表面上设有流砂槽;所述的下研磨组件包括同圆心设置的外齿圈和内齿圈,在外齿圈和内齿圈之间设有与上研磨盘旋转方向相反的下研磨盘,下研磨盘的上表面上设有流砂槽,所述的外齿圈设在上研磨盘驱动轴的外圆周面上。
2.根据权利要求1所述的晶体频率片研磨机,其特征在于:上研磨盘驱动轴上设有键槽,上研磨盘的轴孔上设有与键槽配合的花键。
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CN105415166A (zh) * | 2015-12-07 | 2016-03-23 | 珠海东精大电子科技有限公司 | 蓝宝石研磨机 |
CN106914826A (zh) * | 2017-03-21 | 2017-07-04 | 江苏吉星新材料有限公司 | 一种用于大尺寸陶瓷盘的修复装置 |
CN108772353A (zh) * | 2018-07-08 | 2018-11-09 | 江苏威佳机械制造有限公司 | 一种机床工作台清洗装置 |
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130320 Termination date: 20150920 |
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EXPY | Termination of patent right or utility model |