CN202290660U

CN202290660U - 直线式轨道清洗机

Info

Publication number: CN202290660U
Application number: CN2011203748904U
Authority: CN
Inventors: 吴永清
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2011-09-28
Filing date: 2011-09-28
Publication date: 2012-07-04
Anticipated expiration: 2021-09-28

Abstract

一种直线式轨道清洗机，包括：至少一喷洗构件，其具备一个以上的喷嘴组，且喷嘴组至少有一喷嘴为喷气喷嘴，喷嘴组设在一横杆内侧，横杆的外侧枢设在一立杆上，立杆连接在一线性移载单元上，线性移载单元呈线性位移时，同步带动喷嘴组往复位移；一制动元件，设在立杆上，用以带动横杆以枢接端为轴心作一角度的转动，使喷嘴组的喷流或喷气方向，与线性位移呈同一方向，且呈一倾斜角度喷向一电路板上的芯片。本实用新型具有省时省人力的功效，其清洗喷嘴可调整转向，能对芯片的前、后侧皆进行清洗，具有提升清洗品质的功效，其清洗过程中，更注入有负离子风使得微细粉尘更干净，清洗干燥效果更为增进的功效。

Description

直线式轨道清洗机

技术领域

本实用新型涉及一种直线式轨道清洗机，尤指一种在直线上一贯自动化进行清水喷洗及二流体喷洗，并予以烘干的清洗机，用以自动化生产，可精简人力、避免人为因素而造成产品的不良，据以达成于一贯化生产的目的。

背景技术

传统半导体元件清洗机，是于清洗机的一清洗槽内，盛装清水、化学药剂等清洗液体，又将待清洁的芯片等半导体放设于该清洗槽内的一转盘上，利用一马达带动该转盘转动，使清洗液翻搅，而达到去除该半导体上脏污的目的。

然而，此种清洁方式，主要是对借由转动所生的离心力，使芯片上残留的环氧树脂等残余物脱离；对于半导体于制程过程中所产生的胶黏物、沾黏物等残余的黏性微物质，并无法以此种方式达成清洁的目的。

又，芯片等半导体元件设计精密，物件稍有微误，即对该半导体元件的导电性有影响，进而影响该等电子产品的良率及稳定性。

图1～图2所示，即为现有一种离心式清洗机，其包括：一机台10，一清洗槽11设在机台10上，一马达12位清洗槽11底部，用以带动一转盘13，而清洗液14及蒸气产生器15及蒸气调节阀16则设于机台10内部或周边，借由经喷嘴17，对转盘13上的电路板表面作清洗工作；此类型专利见诸于申请人所拥有的第98210043号「蒸气清洗方式之半导体元件清洗机」专利中。

但查，现有的芯片清洗机，多数必须借助人工直接于清洗槽中取放芯片，而于清洗过程令人力闲置，又于取放芯片的时候无法进行清洗的工作，不仅耗费人力成本且清洗效率差；另有将清洗槽设为掀盖式，则易造成芯片于取放过程中受到落尘的污染。

再者，如图3所示，现有的喷嘴方向呈固定的角度对电路板20的芯片21进行喷洗；但，如此一来，位于芯片211的后侧面，形成清洗的死角，使得清洗的品质受到影响，因此尚有改善空间。

实用新型内容

本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提供一种直线式轨道清洗机，其采用非离心方式的直线式移载来清洗电子元件，使其清水喷洗、二流体喷洗及干燥一贯自动化完成，具有省时省人力的功效增进，其清洗喷嘴可调整转向，能对芯片的前、后侧皆进行清洗，具有提升清洗品质的功效增进，其清洗过程中，更注入有负离子风使得微细粉尘更干净，清洗干燥效果更为增进的功效。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种直线式轨道清洗机，包含：

至少一喷洗构件，其具备一个以上的喷嘴组，且该喷嘴组至少有一喷嘴为喷气喷嘴，该喷嘴组设在一横杆内侧，该横杆的外侧枢设在一立杆上，该立杆连接在一线性移载单元上，该线性移载单元呈线性位移时，同步带动该喷嘴组往复位移；以及一制动元件，设在该立杆上，用以带动该横杆以枢接端为轴心作一角度的转动，使该喷嘴组的喷流或喷气方向，与线性位移呈同一方向，且呈一倾斜角度喷向一电路板上的芯片，进而使得芯片的前后侧皆可被清洗到。

本实用新型依据前述特征，其一较佳实施例包含：

一组轨道，呈相向设置，并保持一预定距离的宽度，且其直立相向的内侧面，至少设有一组相向的第一滑槽，供预定宽度的电路板的两侧端嵌入该滑槽；一移载装置，设置于该轨道下方，其包括一架体，一用以控制该架体升降的顶升构件，以及一设于该架体上的往复式线性移位构件，该移位构件具有一推动该电路板在轨道上位移的杆件；数个升降式阻隔构件，设于该轨道之间，用以将该轨道区隔成一待料区、一个以上的喷洗区及一烘干区；至少一喷洗构件，其具备一个以上的喷嘴组，且该喷嘴组至少有一喷嘴为喷气喷嘴，该喷嘴组设在一横杆内侧，该横杆的外侧枢设在一立杆上，该立杆连接在一线性移载单元上，该线性移载单元呈线性位移时，同步带动该喷嘴组往复位移；以及一制动元件，设在该立杆上，用以带动该横杆以枢接端为轴心作一角度的转动，使该喷嘴组的喷流或喷气方向，与线性位移呈同一方向，且呈一倾斜角度喷向一电路板上的芯片，进而使得芯片的前后侧皆可被清洗到。

又，该轨道固定一基体上，且该轨道更设有一组相向的第二滑槽，且该第二滑槽之间隙大于该第一滑槽，供不同厚度的电路板选择嵌入。此外，该移载装置的顶升构件为一气压缸。

再，该烘干区设有远红外线照射灯管。该喷洗区包括一清水喷洗区及二流体喷洗区，且其分别设有该喷洗构件，该喷洗构件包括喷射流体及气体，该流体包括为清水、二流体静电消除剂，该气体包括为负离子风、氮气(N2)或蒸气，且该喷嘴组中的喷气喷嘴呈独立设在该喷嘴组的侧边。

再者，该制动元件为一气压缸及一气压缸的驱动的连杆，由该连杆来带动该横杆一转动角度。

借助上述技术手段，本实用新型得以种直线式轨道清洗机，借由移载装置的顶升构件使电路板进而快速定位至生产区，缩短升生产的时间也可避免化学物沉积于芯片的时间过长，且直线式轨道清洗机的喷洗构件，其中该喷嘴组可往复又可摇摆之方式，清洗该电路板上的芯片，进而提升清洗的品质。

本实用新型的有益效果是，其采用非离心方式的直线式移载来清洗电子元件，使其清水喷洗、二流体喷洗及干燥一贯自动化完成，具有省时省人力的功效增进，其清洗喷嘴可调整转向，能对芯片的前、后侧皆进行清洗，具有提升清洗品质的功效增进，其清洗过程中，更注入有负离子风使得微细粉尘更干净，清洗干燥效果更为增进的功效。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是现有离心式清洗机的剖面图。

图2是现有离心式清洗机的使用状态图。

图3是现有离心式清洗机清洗芯片的示意图。

图4是本实用新型直线式轨道清洗机的示意图。

图5是本实用新型直线式轨道清洗机的顶升使用状态图。

图6是本实用新型直线式轨道清洗机的下降使用状态图。

图7是本实用新型直线式轨道清洗机的移载示意图。

图8A是本实用新型直线式轨道清洗机的喷洗构件的示意图。

图8B是本实用新型直线式轨道清洗机的喷洗构件的使用状态图。

图9是本实用新型直线式轨道清洗机的喷洗构件清洗芯片的使用状态图。

图10是本实用新型直线式轨道清洗机的喷洗构件清洗芯片的使用状态图。

图中标号说明：

20电路板

21芯片

30轨道

31第一滑槽

32第二滑槽

33基体

40移载装置

41架体

42顶升构件

43移位构件

44杆件

50喷洗构件

51移载单元

52立杆

53横杆

54喷嘴组，

541喷气喷嘴

55制动元件

60远红外线照射灯管

70生产区

71待料区

72清水喷洗区

73二流体喷洗区

74烘干区

80升降式阻隔构件

具体实施方式

首先，请参阅图4～图6所示，本实用新型直线式轨道清洗机的较佳实施例包含有：

一组轨道30，呈相向设置，并保持一预定距离的宽度，且其直立相向的内侧面，至少设有一组相向的第一滑槽31，供预定宽度的电路板20的两侧端嵌入该滑槽31；一移载装置40，设置于该轨道30下方，其包括一架体41，一用以控制该架体41升降的该顶升构件42，以及一设于该架体41上的往复式线性移位构件43，该移位构件43具有一推动该电路板20在该轨道30上位移的杆件44；数个升降式阻隔构件80，设于该轨道30之间，用以将该轨道30区隔成一待料区71、一个以上的喷洗区及一烘干区74，本实施例中，该喷洗区包括一清水喷洗区72及二流体喷洗区73，且其分别设有喷洗构件50，其中该烘干区74设有远红外线照射灯管60，承上，本实例中，该轨道30设置四个区，该升降式阻隔构件80设于各区之间，其中该轨道30固定一基体33(图8A)上，更包括设有一组相向的第二滑槽32，且该第二滑槽32之间隙大于该第一滑槽31，供不同厚度的电路板20选择嵌入，当该电路板20移动至该轨道30，由于各区的生产条件不同，因此，各区的该升降式阻隔构件80会因加工动作结束而升，加工动作开始而降，以防止各区交叉污染而导致该电路板20上的芯片21的品质异常。此外，该移载装置40的该顶升构件42为一气压缸。

前述的实用新型使该直线式轨道清洗机，借由该移载装置40的该顶升构件42以垂直的运动做定位动作，又该移位构件43以水平的运动做定位动作，使该电路板20进而快速定位至生产区70，缩短升生产的时间也可避免化学物沉积于芯片21的时间过长。

图7～图10所示，本实用新型直线式轨道清洗机的喷洗构件50包含：至少一喷洗构件50，其具备一个以上的喷嘴组54，且该喷嘴组54至少有一喷嘴为喷气喷嘴541，该喷嘴组54设在一横杆53内侧，该横杆53的外侧枢设在一立杆52上，该立杆52连接在一线性移载单元51上，该线性移载单元51呈线性位移时，同步带动该喷嘴组54往复位移；以及一制动元件55，设在该立杆52上，用以带动该横杆53以枢接端为轴心作一角度的转动，使该喷嘴组54的喷流或喷气方向，与线性位移呈同一方向，且呈一倾斜角度喷向该电路板20上的芯片21，进而使得芯片21的前后侧皆可被清洗到，本实施例中，该制动元件55为该气压缸及该气压缸的驱动的连杆56，由该连杆56来带动该横杆53一转动角度。

前述的实用新型使该喷嘴组54可往复又可摇摆的方式，清洗该电路板20上的芯片21，进而提升清洗的品质，其中该喷嘴组54的该喷洗构件50包括喷射流体及气体，该流体包括为清水、二流体静电消除剂，该气体包括为负离子风、氮气(N₂)或蒸气且该喷嘴组54中的喷气喷嘴541呈独立设在该喷嘴组54的侧边，该流体与该气体同时从喷嘴上喷出，使该流体清洗芯片21时清洗化学物而冲击力则产生细微粉尘，可借由该气体而使细微粉尘隔离于芯片21。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

综上所述，本实用新型在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符含产业发展所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实用性，符合有关新型专利要件的规定，故依法提起申请。

Claims

1.一种直线式轨道清洗机，其特征在于，包括：

至少一喷洗构件，其具备一个以上的喷嘴组，且该喷嘴组至少有一喷嘴为喷气喷嘴，该喷嘴组设在一横杆内侧，该横杆的外侧枢设在一立杆上，该立杆连接在一线性移载单元上，该线性移载单元呈线性位移时，同步带动该喷嘴组往复位移；

一制动元件，设在该立杆上，用以带动该横杆以枢接端为轴心作一角度的转动，使该喷嘴组的喷流或喷气方向，与线性位移呈同一方向，且呈一倾斜角度喷向一电路板上的芯片。

2.一种直线式轨道清洗机，其特征在于，包括：

一组轨道，呈相向设置，并保持一预定距离的宽度，且其直立相向的内侧面，至少设有一组相向的第一滑槽，供预定宽度的电路板的两侧端嵌入该滑槽；

一移载装置，设置于该轨道下方，其包括一架体，一用以控制该架体升降的顶升构件，以及一设于该架体上的往复式线性移位构件，该移位构件具有一推动该电路板在轨道上位移的杆件；

数个升降式阻隔构件，设于该轨道之间，用以将该轨道区隔成一待料区、一个以上的喷洗区及一烘干区；

3.根据权利要求2所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述轨道固定一基体上，更设有一组相向的第二滑槽，且该第二滑槽的间隙大于该第一滑槽，供不同厚度的电路板选择嵌入。

4.根据权利要求2所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述移载装置的顶升构件为一气压缸。

5.根据权利要求2所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述烘干区设有远红外线照射灯管。

6.根据权利要求2所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述喷洗区包括一清水喷洗区及二流体喷嘴区，且其分别设有所述喷洗构件。

7.根据权利要求6所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述喷洗构件包括喷射流体及气体，该流体包括清水、二流体静电消除剂，该气体包括负离子风、氮气(N2)或蒸气。

8.根据权利要求6或7所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述喷嘴组中的喷气喷嘴呈独立设在该喷嘴组的侧边。

9.根据权利要求2所述的直线式轨道清洗机，其特征在于，所述制动元件为一气压缸及一气压缸的驱动的连杆，由该连杆来带动该横杆一转动角度。