CN202242180U - 异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型所述的一种异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，包括依次设置的优质的浮法玻璃基片、氮化硅SiNx层、氧化锌铝ZNALO层、金属镍铬NiCr层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氧化锌铝ZNALO层、氮化硅SiNx层。本实用新型所采用的玻璃结构，能有效的阻挡红外线的进入，真正实现可见光的高透过率，并具有保温隔热功能，夏季阻止阳光进入，冬季暖气辐射的热能跑不出去，有效保持室内温度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃，特别是一种异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃。
背景技术
现有的普通透明白玻璃的透射范围正好与太阳辐射光谱区域重合，所以在可见光透过时，太阳光发出的近红外线热能也大量的透过玻璃基片，夏季热能被基片吸收以及到达室内造成室内温度过高，增加空调费用；而冬季暖气发出的远红外的热辐射，普通白玻几乎是完全吸收，并通过传导、辐射及对流的方式将能热能释放到室外，起不到取暖的作用，大大增加了暖气的费用和浪费了热能资源。此外普通白玻璃对太阳光的紫外线没有过滤作用也就是阻挡不了紫外线的进入，从而使室内家具慢慢褪色。
现有国内好多厂家使用的低辐射镀膜玻璃为先钢化后镀膜的产品，给众多加工厂造成不便，加工周期较长且长途运输，容易造成玻璃缺陷，增加成本。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃。
为解决上述技术问题，本实用新型是按如下方式实现的：一种异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，包括依次设置的优质的浮法玻璃基片、第一氮化硅SiNx层、第一氧化锌铝ZNALO层、第一金属镍铬NiCr层、金属银Ag层、第二金属镍铬NiCr层、第二氧化锌铝ZnAlO层、第二氮化硅SiNx层。
本实用新型的积极效果是：本实用新型所采用的玻璃膜层结构，能有效的阻挡红外线的进入，真正实现可见光的高透过率，并具有保温隔热功能，夏季阻止阳光进入，冬季暖气辐射的热能跑不出去，有效保持室内温度。
附图说明
图1是本实用新型一个实施例所提供的异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图中，1、浮法基片 2、第一氮化硅层 3、第一氧化锌铝层4、第一镍铬层 5、银层 6、第二镍铬层 7、第二氧化锌铝层8、第二氮化硅层
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1所示，本实用新型第一实施例所提供的异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，包括依次设置的优质浮法玻璃基片(1)、第一氮化硅层(2)、第一氧化锌铝ZnAlO层(3)、第一金属镍铬NiCr层(4)、金属银Ag层(5)、第二金属镍铬NiCr层(6)、第二氧化锌铝ZnAlO层(7)、第二氮化硅SiNx层(8)。其中，
第一氮化硅层(2)：包含SiNx，膜层厚度为28-50nm。
第一氧化锌铝层(3)：包含ZnAlO，膜层厚度为10-20nm。
第一金属镍铬层(4)：包含NiCr，膜层厚度为3-10nm。
金属银层(5)：包含Ag，膜层厚度为3-10nm。
第二金属镍铬层(6)：包含NiCr，膜层厚度为3-10nm。
第二氧化锌铝层(7)：包含ZnAlO，膜层厚度为10-20nm。
第二氮化硅层(8)：包含SiNx，膜层厚度为30-50nm。
此种可钢化离线高透低辐射镀膜玻璃是在高真空的双管磁控溅射条件下生产出来的，生产时的本体真空达到10-6Pa。工艺真空达到10-3Pa。
本实用新型具有在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上，能够同时实现膜层对自然光的高透过率81-84％的优点。并且具有远程异地可加工，打破了以前只能本地加工的缺点。本实用新型的生产工艺简单，降低了企业的生产成本，并极大的降低了玻璃的表面辐射率，有效的提高了可见光透过率，真正起到了隔热保温的节能功效。
Claims (3)
1.一种异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，包括浮法玻璃基片，其特征在于，在所述浮法玻璃基片上依次设置有第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层。
2.如权利要求1所述的异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅层包含SiNx；所述第一氧化锌铝层包含ZnAlO；所述第一金属镍铬层包含NiCr；所述金属银层包含Ag；所述第二金属镍铬层包含NiCr；所述第二氧化锌铝层包含ZnAlO；所述第二氮化硅层包含SiNx。
3.如权利要求1所述的异地可钢化高透净色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅层的膜层厚度为28-50nm；所述第一氧化锌铝层的膜层厚度为10-20nm；所述第一金属镍铬层的膜层厚度为3-10nm；所述金属银层的膜层厚度为3-10nm；所述第二金属镍铬层的膜层厚度为3-10nm；所述第二氧化锌铝层的膜层厚度为10-20nm；所述第二氮化硅层的膜层厚度为30-50nm。
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