CN202164326U - 双室高压气淬真空炉 - Google Patents
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Abstract
一种双室高压气淬真空炉，包括炉架、设置于炉架上的第一工作室与第二工作室，第一工作室与第二工作室之间通道，炉架上活动地设置有将通道封闭的封盖，双室高压气淬真空炉还包括驱动封盖运动的驱动机构、控制驱动机构的控制箱，第一工作室内设置有用于检测其真空度的第一检测器，第二工作室内设置有用于检测其真空度的第二检测器，控制箱上具有控制器，第一检测器与控制器相电连接，第二检测器与控制器相电连接，控制器与驱动机构相电连接。通过第一检测器与第二检测器分别检测第一工作室与第二工作室的真空度，再通过控制器将检测结果对比从而判断是否打开封盖，使用较安全。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种双室高压气淬真空炉。
背景技术
现有技术中的双室高压气淬真空炉，包括炉架、设置于所述的炉架上的第一工作室与第二工作室，所述的第一工作室与所述的第二工作室之间通道，所述的炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖，所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱，通常开启封盖时直接通过控制箱控制驱动机构将封盖打开，由于第一工作室与第二工作室的真空度不同，即存在压强差，易发生危险。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种双室高压气淬真空炉。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的一种技术方案是：一种双室高压气淬真空炉，包括炉架、设置于所述的炉架上的第一工作室与第二工作室，所述的第一工作室与所述的第二工作室之间通道，所述的炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖，所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱，所述的第一工作室内设置有用于检测其真空度的第一检测器，所述的第二工作室内设置有用于检测其真空度的第二检测器，所述的控制箱上具有控制器，所述的第一检测器与所述的控制器相电连接，所述的第二检测器与所述的控制器相电连接，所述的控制器与所述的驱动机构相电连接，所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖从所述的通道处移除，当所述的第一检测器的检测数据与所述的第二检测器的检测数据的差值在0PA-10PA之间，所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖从所述的通道处移除。
在某些实施方式中，所述的封盖与所述的炉架相转动地设置。
在某些实施方式中，所述的封盖上设置有用于密封的胶圈。
本实用新型的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。
由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：通过第一检测器与第二检测器分别检测第一工作室与第二工作室的真空度，再通过控制器将检测结果对比从而判断是否打开封盖，使用较安全。
附图说明
附图1为本实用新型的主视图。
其中：1、炉架；2、第一工作室；3、第二工作室；4、封盖；5、控制箱；6、第一检测器；7、第二检测器；8、胶圈。
具体实施方式
如附图1所示，一种双室高压气淬真空炉，包括炉架1、设置于所述的炉架1上的第一工作室2与第二工作室3，所述的第一工作室2与所述的第二工作室3之间通道，所述的炉架1上转动地设置有将所述的通道封闭的封盖4，所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖4运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱5，所述的第一工作室2内设置有用于检测其真空度的第一检测器6，所述的第二工作室3内设置有用于检测其真空度的第二检测器7，所述的控制箱5上具有控制器，所述的第一检测器6与所述的控制器相电连接，所述的第二检测器7与所述的控制器相电连接，所述的控制器与所述的驱动机构相电连接，所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖4从所述的通道处移除，当所述的第一检测器6的检测数据与所述的第二检测器7的检测数据的差值在0PA-10PA之间，所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖4从所述的通道处移除。
如附图1所示，所述的封盖4上设置有用于密封的胶圈8。
开启封盖4前，通过第一检测器6检测第一工作室2的真空度，通过第二检测器6检测第二工作室3的真空度，通过检测器将两个工作室的真空度进行对比，当差值在0PA-10PA之间时，可以启动驱动机构将封盖4打开，当差值大于10PA时，将不会启动驱动机构将封盖4打开。
如上所述，我们完全按照本实用新型的宗旨进行了说明，但本实用新型并非局限于上述实施例和实施方法。相关技术领域的从业者可在本实用新型的技术思想许可的范围内进行不同的变化及实施。
Claims (3)
1.一种双室高压气淬真空炉，包括炉架（1）、设置于所述的炉架（1）上的第一工作室（2）与第二工作室（3），所述的第一工作室（2）与所述的第二工作室（3）之间通道，所述的炉架（1）上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖（4），所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖（4）运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱（5），其特征在于：所述的第一工作室（2）内设置有用于检测其真空度的第一检测器（6），所述的第二工作室（3）内设置有用于检测其真空度的第二检测器（7），所述的控制箱（5）上具有控制器，所述的第一检测器（6）与所述的控制器相电连接，所述的第二检测器（7）与所述的控制器相电连接，所述的控制器与所述的驱动机构相电连接，所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖（4）从所述的通道处移除，当所述的第一检测器（6）的检测数据与所述的第二检测器（7）的检测数据的差值在0PA-10PA之间，所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖（4）从所述的通道处移除。
2.根据权利要求1所述的双室高压气淬真空炉，其特征在于：所述的封盖（4）与所述的炉架（1）相转动地设置。
3.根据权利要求1所述的双室高压气淬真空炉，其特征在于：所述的封盖（4）上设置有用于密封的胶圈（8）。
Priority Applications (1)
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| CN2011202688412U CN202164326U (zh) | 2011-07-27 | 2011-07-27 | 双室高压气淬真空炉 |
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Publications (1)
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| CN202164326U true CN202164326U (zh) | 2012-03-14 |
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| CN2011202688412U Expired - Fee Related CN202164326U (zh) | 2011-07-27 | 2011-07-27 | 双室高压气淬真空炉 |
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| CN (1) | CN202164326U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103740910A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-04-23 | 吴江亿泰真空设备科技有限公司 | 一种防腐抽真空机排污液式净化的监控操作真空炉 |
| CN103740909A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-04-23 | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 | 一种监控操作三室真空炉 |
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2011
- 2011-07-27 CN CN2011202688412U patent/CN202164326U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
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| CN103740910A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-04-23 | 吴江亿泰真空设备科技有限公司 | 一种防腐抽真空机排污液式净化的监控操作真空炉 |
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| CN103740910B (zh) * | 2013-12-25 | 2015-12-02 | 郑万春 | 一种防腐抽真空机排污液式净化的监控操作真空炉 |
| CN103740909B (zh) * | 2013-12-25 | 2016-01-20 | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 | 一种监控操作三室真空炉 |
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