CN201908152U - 一种改进的直拉单晶炉 - Google Patents

一种改进的直拉单晶炉 Download PDF

Info

Publication number
CN201908152U
CN201908152U CN201020646469XU CN201020646469U CN201908152U CN 201908152 U CN201908152 U CN 201908152U CN 201020646469X U CN201020646469X U CN 201020646469XU CN 201020646469 U CN201020646469 U CN 201020646469U CN 201908152 U CN201908152 U CN 201908152U
Authority
CN
China
Prior art keywords
crucible
carbon felt
single crystal
furnace
improved
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201020646469XU
Other languages
English (en)
Inventor
刘英江
李广哲
李德建
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JINGLONG INDUSTRY GROUP Co Ltd
NINGJIN JINGXING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd
Original Assignee
JINGLONG INDUSTRY GROUP Co Ltd
NINGJIN JINGXING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JINGLONG INDUSTRY GROUP Co Ltd, NINGJIN JINGXING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd filed Critical JINGLONG INDUSTRY GROUP Co Ltd
Priority to CN201020646469XU priority Critical patent/CN201908152U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN201908152U publication Critical patent/CN201908152U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种改进的直拉单晶炉,结构中包括炉壁、紧贴炉壁内侧设置的侧壁碳毡和紧贴侧壁碳毡内侧设置的保温筒,在炉体内部设置有坩埚和对坩埚进行加热的石墨加热器,坩埚上部设置有热屏,热屏上部设置有导流筒,热屏和导流筒均呈倒圆台形。本实用新型能够在降低加热器功耗、提高拉晶速度的同时保证晶体产品的质量,降低单晶硅的制造成本。

Description

一种改进的直拉单晶炉
技术领域
本实用新型涉及一种直拉单晶炉,尤其是一种能够降低加热器功耗同时提高拉晶速度的直拉单晶炉。
背景技术
目前,利用直拉单晶炉生产单晶硅的技术已经较为成熟,并早已实现了大规模的工业化生产。当下单晶硅制造行业的核心问题是如何降低其制造成本,现在通常采用两种方法:一是降低加热器的功耗;二是提高拉晶速度。但是,简单的降低功耗或者提高拉速,会带来晶体质量的下降。因此,如何在降低功耗、提高拉速的同时保证产品质量,成为一个至关重要的技术难题。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种改进的直拉单晶炉,能够在降低加热器功耗、提高拉晶速度的同时保证晶体产品的质量,降低单晶硅的制造成本。
为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种改进的直拉单晶炉,结构中包括炉壁、紧贴炉壁内侧设置的侧壁碳毡和紧贴侧壁碳毡内侧设置的保温筒,在炉体内部设置有坩埚和对坩埚进行加热的石墨加热器,坩埚上部设置有热屏,所述热屏呈倒圆台形。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述热屏上部设置导流筒,此导流筒呈倒圆台形。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述坩埚上部的侧壁碳毡的厚度大于坩埚下部侧壁碳毡的厚度,与此相应,所述保温筒上部直径小于其下部直径。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述保温筒上、下部之间通过石墨托盘衔接。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本实用新型倒圆台形的热屏有效减少了热源对晶体的烘烤,从而加快了晶体的生成速度,使结晶速率至少提高了20%而不增加宏观位错的发生概率;本实用新型的导流筒加快了氩气通过晶体的速率,从而降低了SiO沉积落入熔体的概率;直拉单晶炉的热散失主要发生在坩埚以上部分,本实用新型将坩埚以上部分的侧壁碳毡加厚,保温筒相应改进为上细下粗形,有效阻止了炉体的热损失,降低了加热器功耗。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1是本实用新型一个具体实施方式的结构示意图。
图中:1、炉壁  2、侧壁碳毡  3、保温筒  4、石墨托盘  5、坩埚  6、石墨加热器  7、热屏  8、导流筒  9、晶体  10熔体。
具体实施方式
参看附图,本实用新型一个具体实施例的结构中包括炉壁1、紧贴炉壁1内侧设置的侧壁碳毡2和紧贴侧壁碳毡2内侧设置的保温筒3,在炉体内部设置有坩埚5和对坩埚5进行加热的石墨加热器6,坩埚5上部设置有热屏7,热屏7呈倒圆台形,热屏7上部设置导流筒8,此导流筒8也呈倒圆台形,坩埚5上部的侧壁碳毡2的厚度大于坩埚5下部侧壁碳毡2的厚度,与此相应,保温筒3上部直径小于其下部直径,保温筒3上、下部之间通过石墨托盘4衔接。
本实用新型的工作原理是:利用本实用新型的直拉单晶炉生产单晶硅,由于热屏7呈倒圆台形,有效减少了热源对晶体9的烘烤,使得晶体9的轴向温度梯度增大,而熔体10的轴向温度梯度基本不变,因此拉晶、结晶速率可至少提高20%,而不增加发生宏观位错的概率;由于导流筒8和热屏7均呈倒圆台形,热屏7外表面与坩埚5内壁面由上而下形成一定锥度,氩气流道呈渐缩趋势,氩气平均流速明显增大,有利于将硅熔体10表面蒸发出的SiO更快带走,减少了SiO在坩埚2内壁面和热屏7外壁面的沉积,降低了SiO在壁面沉积并落入熔体10的概率,提高了晶体9品质;直拉单晶炉的热散失主要发生在坩埚5以上部分,本实用新型将坩埚5以上部分的侧壁碳毡2加厚,保温筒3相应改进为上细下粗形,有效阻止了炉体的热损失,降低了加热器功耗;综上,本实用新型能够在降低加热器功耗、提高拉晶速度的同时保证晶体9产品的质量,降低单晶硅的制造成本。
上述描述仅作为本实用新型可实施的技术方案提出,不作为对其技术方案本身的单一限制条件。

Claims (4)

1.一种改进的直拉单晶炉,结构中包括炉壁(1)、紧贴炉壁(1)内侧设置的侧壁碳毡(2)和紧贴侧壁碳毡(2)内侧设置的保温筒(3),在炉体内部设置有坩埚(5)和对坩埚(5)进行加热的石墨加热器(6),坩埚(5)上部设置有热屏(7),其特征在于:所述热屏(7)呈倒圆台形。
2.根据权利要求1所述的改进的直拉单晶炉,其特征在于:所述热屏(7)上部设置导流筒(8),此导流筒(8)呈倒圆台形。
3.根据权利要求1或2所述的改进的直拉单晶炉,其特征在于:所述坩埚(5)上部的侧壁碳毡(2)的厚度大于坩埚(5)下部侧壁碳毡(2)的厚度,与此相应,所述保温筒(3)上部直径小于其下部直径。
4.根据权利要求3所述的改进的直拉单晶炉,其特征在于:所述保温筒(3)上、下部之间通过石墨托盘(4)衔接。
CN201020646469XU 2010-12-08 2010-12-08 一种改进的直拉单晶炉 Expired - Fee Related CN201908152U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201020646469XU CN201908152U (zh) 2010-12-08 2010-12-08 一种改进的直拉单晶炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201020646469XU CN201908152U (zh) 2010-12-08 2010-12-08 一种改进的直拉单晶炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN201908152U true CN201908152U (zh) 2011-07-27

Family

ID=44300357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201020646469XU Expired - Fee Related CN201908152U (zh) 2010-12-08 2010-12-08 一种改进的直拉单晶炉

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN201908152U (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102345158A (zh) * 2011-08-14 2012-02-08 上海合晶硅材料有限公司 改善cop的单晶晶棒拉制方法
CN103451721A (zh) * 2013-08-19 2013-12-18 浙江晶盛机电股份有限公司 带水冷热屏的单晶生长炉

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102345158A (zh) * 2011-08-14 2012-02-08 上海合晶硅材料有限公司 改善cop的单晶晶棒拉制方法
CN103451721A (zh) * 2013-08-19 2013-12-18 浙江晶盛机电股份有限公司 带水冷热屏的单晶生长炉

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN202558970U (zh) 一种类单晶硅铸锭炉
CN102352530B (zh) 用于直拉硅单晶炉的热屏装置
CN102925971B (zh) 高效多晶铸锭热场
CN201908152U (zh) 一种改进的直拉单晶炉
CN202265623U (zh) 一种用多晶铸锭炉铸造类单晶硅用的坩埚
CN206486622U (zh) 一种用于gt多晶炉铸造g7多晶硅锭的装置
CN204198897U (zh) 一种新式150公斤级蓝宝石泡生法生长炉
CN202898593U (zh) 一种改进的单晶炉热屏导流筒
CN201162060Y (zh) 一种直拉硅单晶生长的热场结构
CN201276609Y (zh) 单晶生长加热装置
CN201634795U (zh) 直拉单晶炉石墨坩埚
CN201634792U (zh) 一种直拉单晶炉
CN203021676U (zh) 一种提升单晶硅生长速度的导流筒
CN201990762U (zh) 直拉单晶炉加热装置
CN202785671U (zh) 一种反向诱导凝固提纯多晶硅的设备
CN202492614U (zh) 复合型坩埚侧面护板
CN202000023U (zh) 一种直拉单晶炉用热场
CN202415360U (zh) 一种制作石英坩埚用模具
CN201942784U (zh) 一种适于直拉法中20英寸硅单晶生长的热场装置
CN201864791U (zh) 一种800型硅单晶炉的石墨导流筒
CN204251760U (zh) 直拉硅单晶热场
CN204690167U (zh) 一种新型的多晶硅锭铸锭炉
CN203049080U (zh) 一种用于区熔法制备硅单晶的加热线圈
CN207294941U (zh) 方硅芯铸锭炉炉体
CN204058647U (zh) 一种晶硅铸锭炉炉体

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110727

Termination date: 20161208