CN201785308U - 一种表面坚硬的低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种表面坚硬的低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、氧化钛膜层(3)、银膜层(4)、镍铬膜层(5)、氧化锡膜层(6)、氧化钛膜层(7)、氧化锡膜层(8)、氮化硅膜层(9)，从而构成八层膜结构的表面坚硬的低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，利用氧化钛膜层将较厚的氧化锡膜层分割成两层，使得较软的氧化锡膜层在受到外力时，不会因为内部应力发生改变，而产生划痕，生产出表面坚硬的低辐射镀膜玻璃。
Description
技术领域
本实用新型属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种表面坚硬的低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银)，使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。
现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡的，也有用氧化锌的，膜层可见光折射率较低，第二层用镍铬层，第三层膜都是银膜，第四层都用镍铬层，第五层主要为保护膜，一般采用氧化锡或氮化硅作保护膜。
发明内容
本实用新型目的是提供一种八层膜结构的表面坚硬的低辐射镀膜玻璃，使其具有耐划伤的优点。
本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现：其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层、氧化钛膜层、银膜层、少量氧化的镍铬膜层、氧化锡膜层、氧化钛膜层、氧化锡膜层和氮化硅膜层，从而构成八层膜结构的低辐射镀膜玻璃。
采用上述结构，利用氧化钛膜层将较厚的氧化锡膜层分割成两层，使得较软的氧化锡膜层在受到外力时，不会因为内部应力发生改变，而产生划痕。
附图说明
附图1为本实用新型的具体结构示意图。
图中：1、玻璃基片，2、氮化硅膜层，3、氧化钛膜层，4、银膜层，5、少量氧化的镍铬膜层，6、氧化锡膜层，7、氧化钛膜层，8、氧化锡膜层，9、氮化硅膜层。
具体实施方式
结合附图，说明本实用新型的具体实施例。
如附图1所示：其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层2，氧化钛膜层3，银膜层4，镍铬膜层5，氧化锡膜层6，氧化钛膜层7，氧化锡膜层8，氮化硅膜层9。从而构成八层膜结构的表面坚硬的低辐射镀膜玻璃。
本实用新型是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积八层膜的方法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氮气，靶材为硅铝靶，将氮化硅膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度10至30纳米；第二个镀膜室充入氩气，靶材为陶瓷钛靶，在氮化硅膜上面沉积第二层氧化钛膜，厚度8至20纳米；第三个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在氧化钛膜上面沉积第三层银膜，厚度8至12纳米；第四个镀膜室充入不少于95％的氩气和不多于5％的氧气，靶材为镍铬靶，在银膜上沉积第四层少量氧化的镍铬膜，厚度3至10纳米；第五个镀膜室充入氧气，靶材为锡靶，在少量氧化的镍铬膜上沉积第五层氧化锡膜，厚度10至30纳米；第六个镀膜室充入氩气，靶材为陶瓷钛靶，在氧化锡膜上面沉积第六层氧化钛膜，厚度5至20纳米；第七个镀膜室充入氧气，靶材为锡靶，在少量氧化的镍铬膜上沉积第七层氧化锡膜，厚度10至30纳米；第八个镀膜室充入氮气，靶材为硅铝靶，在氧化钛膜上沉积第八层氮化硅膜，厚度10至30纳米。
第一层氮化硅膜层和第二层氧化钛膜层，可以使整个膜层与玻璃粘接牢固，第三层金属银膜层可以镀膜玻璃具有低辐射的性能，第四层少量氧化的镍铬膜层的作用，可以保护银膜不被氧化，同时比纯镍铬膜层更好的与银膜粘接，第六层氧化钛膜将原本很厚的一层氧化锡膜，分割成第五层和第七层，使得较软的氧化锡膜层在受到外力时，不会因为内部应力发生改变，而产生划痕，氮化硅膜可以提高镀膜玻璃膜层整体的耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能。
Claims (1)
1.一种表面坚硬的低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，其特征是：在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、氧化钛膜层(3)、银膜层(4)、镍铬膜层(5)、氧化锡膜层(6)、氧化钛膜层(7)、氧化锡膜层(8)、氮化硅膜层(9)，从而构成八层膜结构的表面坚硬的低辐射镀膜玻璃。
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