CN201579243U - 一种反应釜清洗装置 - Google Patents
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Abstract
一种反应釜清洗装置,其包括,底座,其为一箱体结构,包括侧板、顶板,侧板设置有通孔,顶板上设置有进风口和排污口;烘干***,包括风机和烘干管道,该烘干管道与风机连接,并从底座侧板的通孔穿入底座内而与进风口连通;喷射清洗水压***,包括高压水泵、与高压水泵连接的水管和控制阀、支撑管、旋转喷头;该水管从底座侧板的通孔穿入底座内;支撑管固定在底座顶板上,与水管连通;旋转喷头设置于支撑管出口端;PLC控制器,与所述风机和高压水泵电性连接。本实用新型不仅能自动清洗反应釜,而且,清洗干净。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种清洗装置,尤其涉及一种反应釜清洗装置,适用于清洗喇叭形的反应釜。
背景技术
反应釜是化工、多晶硅生产中的一种化学反应容器,多晶硅的生长和化学物质的合成中会产生各种依附在反应釜内部的物质。在这些物质中,可能含有有毒物质,也可能会含有影响下次化学反应的物质,因此,在反应釜使用后,必须清洗依附在反应釜内壁的物质。
目前,采用人工清洗反应釜内壁的物质,具体方式是:操作人员拽着水管进入反应釜内部空间,然后用水管对准反应釜内壁,利用水管产生的水柱冲洗反应釜内壁的物质。
上述清洗方式虽然能清洗掉一部分物质,但是,存在如下缺点:
1、反应釜内部常常依附有有毒物质,因此,当操作人员清洗反应釜内壁时候,有毒物质会影响操作人员的健康。
2、人工清洗反应釜的内壁时候,清洗的干净程度完全靠操作者的感官判断,因此,不能完全的清洗干净反应釜内壁。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种反应釜清洗装置,该装置不仅能自动清洗反应釜,而且清洗干净。
为达到上述的目的,本实用新型所采取的技术方案是:
一种反应釜清洗装置,其包括,底座,其为一箱体结构,包括侧板、顶板,侧板设置有通孔,顶板上设置有进风口和排污口;烘干***,包括风机和烘干管道,该烘干管道一端与风机连接,另一端穿入底座内而与进风口连通;喷射清洗水压***,包括高压水泵、与高压水泵连接的水管和控制阀、支撑管、旋转喷头;该水管一端穿入底座内;支撑管固定在底座顶板上,与水管连通;旋转喷头设置于支撑管出口端;PLC控制器,与所述风机和高压水泵电性连接。
进一步,所述底座两侧板设置有供烘干管道和水管穿入的通孔。
所述喷射清洗水压***的旋转喷头包括旋转件及其上的喷头。
所述旋转件为若干齿轮、翼片;齿轮相互啮合,翼片设置于齿轮上。
另外,所述喷射清洗水压***还包括与所述支撑管连通的侧支管,该侧支管上安装有高压喷头,该高压喷头的喷嘴对应反应釜内侧壁或/和视窗。
又,所述高压喷头设有若干个,分别设置于若干连接管,各连接管连通于侧支管,喷嘴设置于连接管出口端;而且,各连接管成不同角度设置,连接管上设有球阀。
所述连接管成U形。
再有,本实用新型所述烘干***包括位于烘干管道内的电加热器和过滤器,电加热器与PLC控制器电气连接。
所述底座的顶板四角还设置有定位销。
所述喷射清洗水压***还包括在与高压水泵连接的水管管路上设置的蓄能器、压力调整器,压力调整器与蓄能器之间设置的安全阀以及通过管路分别与压力调整器连接的气动开关球阀和压力变送器,气动开关球阀和压力变送器分别与PLC控制器电气连接。
本实用新型的的有益效果是:
1、本实用新型通过PLC控制器控制喷射清洗水压***的高压泵产生高压水,该高压水经过喷射***的旋转喷头形成水刀,清洗反应釜内壁,实现自动清洗,而且,由于通过高压泵产生水刀,因此,清洗较现有方法更加干净。
2、清洗后通过烘干***的电加热器利用热空气烘干反应釜内壁,可以提高烘干速度。
3、烘干***中过滤器可以对空气进行过滤,确保清洗后的反应釜不被污染。
附图说明
图1是本实用新型反应釜清洗装置一实施例的结构示意图;
图2是本实用新型底座的结构示意图;
图3是本实用新型旋转喷头的结构示意图;
图4是本实用新型PLC控制示意图。
具体实施方式
下面结合附图进一步说明本实用新型的结构特征。
如图1~图4所示,本实用新型反应釜清洗装置包括底座1、烘干***2、喷射清洗水压***3、PLC控制器4。
如图2所示,底座1,其为一箱体结构,包括侧板11、顶板12,底座1的顶板12上设置有进风口121、进水口122和排污口123。底座1的侧板11包括内侧板111和外侧板112,内侧板111和外侧板112呈圆环形,形成底座1的内圈和外圈;内侧板111和外侧板112上开设有相应的通孔。排污口123上连接有排污管道124。
如图1所示,烘干***2,包括风机21和烘干管道22,该烘干管道22与风机21连接,并从底座1侧板11的通孔穿入底座1,与进风口121连通。
参见图1、图3,喷射清洗水压***3,包括高压水泵31、与高压水泵31连接的水管32、支撑管33、旋转喷头34;设置于水管32管路上的蓄能器35、压力调整器36,压力调整器36与蓄能器35之间设置的安全阀37,以及通过管路分别与压力调整器36连接的气动开关球阀38和压力变送器39;气动开关球阀38和压力变送器39分别与PLC控制器4电气连接。该水管32从底座1侧板11的通孔穿入底座1内;支撑管33固定在底座1顶板12上,与水管32连通;旋转喷头34设置于支撑管33出口端。
支撑管33与水管32和旋转喷头34可以采用如下两种方式连通:
第一种方式是,在顶板12上开设进水口122,支撑管33一端与旋转喷头34连通,另一端穿过进水口122后与水管32连通,为了保证密封性,可以在支撑管33上套设密封垫,支撑管33与进水口122间由密封垫密封。
第二种方式是,将水管32与进水口122连通,然后,支撑管33一端与旋转喷头34连通,另一端固定在顶板12上,并通过进水口122与水管32连通。
本实施例中,所述喷射清洗水压***3的旋转喷头34包括旋转件341及其上的喷头342,该旋转件341为若干齿轮、翼片;齿轮相互啮合,翼片设置于齿轮上。
如图1所示,本实用新型在工作时候,反应釜7通过行车或者龙门吊吊装至底座1上,旋转喷头34位于反应釜7内部。然后,启动PLC控制器4,PLC控制器4控制启动清洗水压***3的高压水泵31,使得高压水泵31对去离子水进行加压,加压的去离子水经过水管32、支撑管33至设于支撑管33出口端的旋转喷头34,加压的去离子水推动旋转喷头34的旋转件341齿轮上的翼片,翼片旋转带动齿轮转动,齿轮转动带动齿轮上的喷头342转动,喷头342成360度旋转,喷出的高压去离子水清洗反应釜7内壁。
在上述过程中,由于去离子水经过高压水泵31加压,去离子水是以水刀的形式从旋转喷头34喷出,因此,清洗较现有清洗方法更加干净。
清洗完成后,PLC控制器4启动烘干***2的风机21,风机21产生的风经过底座1的顶板12上的进风口122后进入反应釜7内部空间,吹扫反应釜7内部,使得反应釜7内部干燥。
参见图1、图3,在清洗反应釜7内壁时,反应釜7的视窗是很难清洗的部分,为了解决这个问题,本实用新型所述喷射清洗水压***还包括与所述支撑管33连通的侧支管5,侧支管5通过支撑座10固定;该侧支管5上安装有高压喷头6,所述高压喷头6设有若干个,分别设置于若干连接管8、8’,各连接管8、8’连通于侧支管5,喷嘴61设置于连接管8、8’出口端;而且,各连接管8、8’成不同角度设置,连接管8、8’上设有球阀9;其中,所述连接管8’成U形。由于连接管8、8’成不同角度设置,可以使喷嘴61的喷射角可以到覆盖整个反应釜7视窗。
这样,经过高压水泵31加压的去离子水经过支撑管33即连通的侧支管5至连接管8、8’,由喷嘴61以水刀的形式喷射在视窗上,对视窗进行清洗。
如图1所示,在底座1的顶板12四角上还设置有定位销13。当反应釜7通过行车或者龙门吊放置在底座1上时,定位销13与反应釜7的底部锁定,方便反应釜7的安装定位。
如图1所示,所述烘干管道22内安装有加热器23和过滤器24,电加热器23与PLC控制器4电气连接;加热器23的对风机21出口的风进行加热,这样,反应釜7内部经过水清洗后,经加热器23加热的风再从顶板12上的进风口121进入反应釜7内部,热风吹扫反应釜7内部,可以提高烘干效率和风干速度。而采用过滤器24后,过滤器24过滤掉风机21出口的风中的杂质,避免风机21吹入的风污染反应釜7内壁。
Claims (10)
1.一种反应釜清洗装置,其特征是:包括,
底座,其为一箱体结构,包括侧板、顶板,侧板设置有通孔,顶板上设置有进风口和排污口;
烘干***,包括风机和烘干管道,该烘干管道一端与风机连接,另一端穿入底座内而与进风口连通;
喷射清洗水压***,包括高压水泵、与高压水泵连接的水管和控制阀、支撑管、旋转喷头;该水管一端穿入底座内;支撑管固定在底座顶板上,与水管连通;旋转喷头设置于支撑管出口端;
PLC控制器,与所述风机和高压水泵电性连接。
2.如权利要求1所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述喷射清洗水压***的旋转喷头包括旋转件及其上的喷头。
3.如权利要求2所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述旋转件为若干齿轮、翼片;齿轮相互啮合,翼片设置于齿轮上。
4.如权利要求1所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述喷射清洗水压***还包括与所述支撑管连通的侧支管,该侧支管上安装有高压喷头,该高压喷头的喷嘴对应反应釜内侧壁或/和视窗。
5.如权利要求4所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述高压喷头设有若干个,分别设置于若干连接管,各连接管连通于侧支管,喷嘴设置于连接管出口端;而且,各连接管成不同角度设置,连接管上设有球阀。
6.如权利要求5所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述连接管成U形。
7.如权利要求1所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述烘干***包括位于烘干管道内的电加热器和过滤器,电加热器与PLC控制器电气连接。
8.如权利要求1或4所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述喷射清洗水压***还包括在与高压水泵连接的水管管路上设置的蓄能器、压力调整器,压力调整器与蓄能器之间设置的安全阀;以及通过管路分别与压力调整器连接的气动开关球阀和压力变送器,气动开关球阀和压力变送器分别与PLC控制器电气连接。
9.如权利要求1所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述底座两侧板设置有供烘干管道和水管穿入的通孔。
10.如权利要求1所述的反应釜清洗装置,其特征是:所述底座的顶板四角还设置有供反应釜安装定位的定位销。
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