CN201320718Y - 电极抛光清洗器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种电极抛光清洗器，包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。本实用新型能够自动完成对电极抛光清洗工作，并保证电极表面平整、光洁，确保实验数据的准确，其结构简单、性能可靠。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种电子器件抛光清洗器，特别涉及一种电极抛光清洗器。
背景技术
在电化学应用领域，无论是电化学工作站、还是各种金属元素分析仪，在测试过程中，都涉及到对测试电极的抛光、清洗工作。为了保证测试精度，每次测试前都要重复这些工作，因此工作量很大，技术要求高。目前通常的做法是人们用手拿住电极在砂纸、或抛光布上摩擦，这样做既费力又不能保证抛光、清洗的效果，有时甚至需要多次重复操作后才能达到测试要求，还可能出现电极报废的情况，造成较大的经济损失。
因此，不断开发适应市场需要的结构简单、性能可靠的电极抛光清洗器，已成为该领域科研人员急需研究开发的新课题之一。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服上述技术的不足，提供一种结构简单、性能可靠，抛光、清洗性能优良的电极抛光清洗器。
为实现上述目的本实用新型所采用的技术方案是：一种电极抛光清洗器，其特征在于包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。
本实用新型的有益效果是：能够自动完成对电极抛光、清洗工作，并保证电极表面平整、光洁，确保实验数据的准确。其结构简单，设计合理，性能可靠，抛光、清洗效果非常显著，且抛光剂的循环利用，高效低耗，降低成本。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图。
图中：1固定架台，2储液器，3旋转盘支架，4抛光材料衬，5旋转盘，6电极架，7电极，8电机，9蠕动泵。
具体实施方式
以下结合附图和较佳实施例，对依据本实用新型提供的具体实施方式、结构、特征详述如下：
如图1所示，一种电极抛光清洗器，其特征在于包括固定架台1、储液器2、旋转盘支架3、抛光材料衬4、旋转盘5、电极架6、电机8及蠕动泵9；所述固定架台1可采用铁或其它金属材料，也可采用尼龙、聚四氟乙烯等非金属材料制成，其上设有旋转盘支架3，旋转盘支架3上部同轴设有旋转盘5，设有电机8连接驱动旋转盘5旋转；所述电极架6对应旋转盘5设置于固定架台1上，定位电极7的电极架6中心部位同轴对应置于旋转盘5上方；所述旋转盘5呈内凹形，旋转盘5内底部平行设有抛光材料衬4；对应旋转盘5下方的固定架台1上设置连接蠕动泵9的储液器2，采用导管一端连接蠕动泵9，另一端置于旋转盘5的上方，旋转盘5中心处设有渗漏孔；所述储液器2内设有由水和纳米级氧化铝或氧化铈组成的抛光剂。
所述抛光材料衬4为海绵、绒布、鹿皮之中的一种或一种以上材料的复合体。
应用时，将需要抛光、清洗的电极7定位于电极架6中心位置，蠕动泵9通过导管把储液器2中的抛光剂提升到旋转盘5的上方注入旋转盘5中，旋转盘的中心处设有渗漏孔，多余的抛光剂通过该渗漏孔流入储液器2中，因此完成抛光剂的自动循环。通过旋转盘5旋转，其上沾有抛光剂的抛光材料衬4一同作用于电极7，有效保证抛光、清洗后的电极7表面平整、光洁。
上述参照实施例对该电极抛光清洗器进行的详细描述，是说明性的而不是限定性的，可根据需要制成各种规格，因此在不脱离本实用新型总体构思下的变化和修改，应属本实用新型的保护范围之内。
Claims (1)
1、一种电极抛光清洗器，其特征在于包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。
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| GR01 | Patent grant | ||
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| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20120614 Address after: 300192 Nankai District white embankment road, Tianjin, No. 246 Patentee after: Tianjin Binhai Beifang Radiation Technology Co., Ltd. Address before: 300192 Nankai District white embankment road, Tianjin, No. 246 Patentee before: Tianjin Institute of Technical Physics |
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| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20091007 Termination date: 20130718 |