CN201309962Y - 通过防护处理的磁控溅射圆柱靶 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，包括热缩管、靶芯轭铁和安装在靶芯轭铁上的磁铁，在装配好的磁铁表面和靶芯轭铁表面涂有防锈漆，所述的热缩管通过热风枪的烘烤箍在靶芯外面，所述的热缩管的两个端口与靶芯轭铁间涂有硅胶，所述的热缩管的两个端口最外层设有防水胶带；所述的硅胶为704硅胶。采用本实用新型的结构使水与磁铁隔离，防止了水对磁铁的腐蚀，使整支靶的磁场强度能够长期保持均匀，进而保证了靶能够长期稳定溅射，大大地延长了靶的使用寿命；同时也减少了工艺操作人员微调工艺的频率，降低了劳动强度，提高了生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种磁控溅射圆柱靶，特别涉及一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶。
背景技术
磁控溅射圆柱靶的结构是磁铁装配在靶芯轭铁上，而后放置在靶管中，两端分别用靶头和靶堵进行密封。靶在工作的过程中，需要在靶管中通冷却水，对靶材进行冷却，从而使磁铁不可避免的浸泡在水中，由于冷却水大都取自自来水，因为水质的问题，促使浸泡在水中的磁铁很快被腐蚀，同时又由于磁体个体的差异，使各个磁铁受到不同程度的侵蚀，导致整支靶磁场强度不均匀，从而引起整支靶的溅射不均，严重影响真空管的质量，严重侵蚀时，整支靶无法正常工作，过早报废；磁铁成本较高，频繁更换磁铁，不仅增加了生产制造成本，也提高了工人的劳动强度，降低了生产效率。
发明内容
本实用新型为了解决现有技术中存在的不足，提供了一种通过防护处理后，能够防止水对磁铁的腐蚀，使整支靶的磁场强度能够长期保持均匀，大大地延长了靶的使用寿命的磁控溅射圆柱靶。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，包括热缩管、靶芯轭铁和安装在靶芯轭铁上的磁铁，在装配好的磁铁表面和靶芯轭铁表面涂有防锈漆，所述的热缩管通过热风枪的烘烤箍在靶芯外面，所述的热缩管的两个端口与靶芯轭铁之间设有硅胶，所述的热缩管的两个端口最外层设有防水胶带。
所述的硅胶为704硅胶。
与现有技术相比，采用本实用新型的结构使水与磁铁隔离，防止了水对磁铁的腐蚀，使整支靶的磁场强度能够长期保持均匀，进而保证了靶能够长期稳定溅射，大大地延长了靶的使用寿命；同时也减少了工艺操作人员微调工艺的频率，降低了劳动强度，提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的截面剖视图。
图中：1热缩管，2靶芯轭铁，3磁铁，4防锈漆，5硅胶，6冷却水进水管，7冷却水进水管，8靶管。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明，但不作为对本实用新型的限定。
参见图1，一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，包括热缩管1、靶芯轭铁2和安装在靶芯轭铁上的磁铁3，在装配好的磁铁3表面和靶芯轭铁2表面涂有一层防锈漆4，热缩管1通过热风枪的烘烤箍在装配好的磁铁3和靶芯轭铁2外面，磁铁3和靶芯轭铁2组成靶芯，热缩管1的两个端口与靶芯轭铁2之间设有硅胶5，热缩管1的两个端口最外层设有防水胶带，靶芯轭铁2中间为冷却水进水管6，靶管8与靶芯轭铁2之间为冷却水进水管7。
本实用新型的防护处理步骤：
第一步：将靶芯轭铁表面的锈蚀清理干净，使靶芯轭铁的表面洁净没有杂物；
第二步：将磁铁装配到靶芯轭铁上，并测量每一块磁铁的表面磁场强度，及时将不合格的磁铁去掉，保证整支靶芯磁场强度的均匀性；
第三步：在装配好的磁铁表面和靶芯轭铁表面均匀的涂一层防锈漆，并静置固化；
第四步：待防锈漆完全固化后，将整支靶芯装配到热缩管中，并用热封枪对热缩管进行烘烤，使其紧紧地箍在整个靶芯外面，这样可以减少热缩管对冷却水流的阻碍，保证靶材有好的冷却效果；
第五步：在热缩管的两个端口，在靶芯轭铁和热缩管之间，用704硅胶进行填充，而后用防水胶带扎紧，防止水进入到热缩管，使磁铁的产生锈蚀。
以上所述的实施例，只是本实用新型较优选的具体实施方式的一种，本领域的技术人员在本实用新型技术方案范围内进行的通常变化和替换都应包含在本实用新型的保护范围内。
Claims (2)
1、一种通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，包括热缩管、靶芯轭铁和安装在靶芯轭铁上的磁铁，其特征在于，在装配好的磁铁表面和靶芯轭铁表面涂有防锈漆，所述的热缩管通过热风枪的烘烤箍在靶芯外面，所述的热缩管的两个端口与靶芯轭铁间设有硅胶，所述的热缩管的两个端口最外层设有防水胶带。
2、根据权利要求1所述的通过防护处理的磁控溅射圆柱靶，其特征在于，所述的硅胶为704硅胶。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2008201237029U CN201309962Y (zh) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 通过防护处理的磁控溅射圆柱靶 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CNU2008201237029U CN201309962Y (zh) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 通过防护处理的磁控溅射圆柱靶 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN201309962Y true CN201309962Y (zh) | 2009-09-16 |
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ID=41107214
Family Applications (1)
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| CNU2008201237029U Expired - Fee Related CN201309962Y (zh) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 通过防护处理的磁控溅射圆柱靶 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN201309962Y (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105452522B (zh) * | 2013-08-14 | 2018-07-24 | 应用材料公司 | 封装的磁控管 |
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2008
- 2008-11-10 CN CNU2008201237029U patent/CN201309962Y/zh not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN105452522B (zh) * | 2013-08-14 | 2018-07-24 | 应用材料公司 | 封装的磁控管 |
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: HIMIN SOLAR ENERGY CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: HIMIN SOLAR ENERGY GROUP CO., LTD. |
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| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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