CN1919470A - 处理液供给喷管和基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种即使是大型化基板的场合下，也可以对基板表面无遗漏地进行清洗而无需使用特别的驱动源的处理液供给喷管。在下端部形成有狭缝状喷出口(14)的处理液供给喷管(2)中，该处理液供给喷管(2)构成为：通过接合两个半体(2a、2b)而形成与狭缝状喷出口(14)连通的处理液的供给通道(3)，在至少一个半体(2a)的对接面上，设置有对从供给通道(3)流下的处理液进行左右分配的凸部(8、9、10)。

Description

处理液供给喷管和基板处理装置

技术领域

本发明涉及对玻璃基板及半导体晶片等基板供给清洗液或显影液等处理液的处理液供给喷管以及具有该处理液供给喷管的基板处理装置。

背景技术

对大画面高清晰度的TFT-LCD(液晶显示装置)的需求，在个人电脑、电视机、移动电话等领域中不断高涨。作为上述LCD(液晶显示装置)的制造工序之一，例如有TFT阵列工序，但在该工序中，如果在玻璃基板表面存在细微粒子(例如，垃圾、尘埃、异物等)，则会成为降低成品率的原因。

作为通过清洗除去玻璃基板表面的细微粒子的方法，已知有专利文献1的方法。在该专利文献1中，如图6所示，其是通过从玻璃基板的下面施加超声波，使附着于玻璃基板表面的细微粒子从表面浮起，并通过整流后的离子水将该浮起粒子洗去的方法。

【专利文献1】JP特开2005-013960号

然而，该方法必须设置超声波发生装置，因此可预想到成本会很高。另外，例如在大型化基板的场合下，会产生超声波局部变弱的地方，从而可预想到对基板无遗漏地进行清洗非常困难。

发明内容

鉴于上述的问题点，本发明提供一种即使是在大型化基板的场合下，也可以对基板表面无遗漏地进行清洗而无需使用特别的驱动源的处理液供给喷管以及具有该处理液供给喷管的基板处理装置。

本发明涉及的处理液供给喷管采用的构造是：通过接合两个半体来形成与开设于下端部的狭缝(slit)状喷出口连通的处理液的供给通道，在至少一个半体的对接面上设置有对从供给通道流下的处理液进行左右分配的凸部。

根据本发明涉及的处理液供给喷管，由设置于供给通道的凸部使流下的处理液左右分支。该分支并非是左右均等地进行，而是左右两侧的一侧的流量增大，另一侧的流量减少。这样，减少一侧的压力降低，为了弥补该压力，一侧的流量流向另一侧。其结果是另一侧的流量增大，而一侧流量减小。

在从喷管喷出处理液的期间，由于上述现象反复发生，因此可以将从喷管的狭缝状喷出口帘状流下的处理液，左右偏摆地喷到基板上。因此，在实际中形成具有这样的处理液供给喷管的基板处理装置，并使作为处理液的例如清洗液流下的场合下，可以无遗漏地清洗基板表面。

本发明涉及的基板处理装置采用的构造是：上述处理液供给喷管配置在输送路径的上方，且处理液供给喷管采用处理液供给喷管的狭缝状喷出口和基板的宽度方向平行配置的结构。

根据本发明涉及的基板处理装置，由于上述处理液供给喷管配置在输送路径的上方，且处理液供给喷管采用了处理液供给喷管的狭缝状喷出口和基板的宽度方向平行配置的结构，因此在使作为处理液的例如清洗液流下的场合下，可以无遗漏地清洗基板表面，提高对基板上粒子的清洗效果。

根据本发明的处理液供给喷管，可以使处理液以规定的周期喷出，使得处理液在狭缝状喷出口的长度方向左右偏摆。根据本发明的基板处理装置，由于具有这样的处理液供给喷管，因此可以无遗漏地清洗基板，从而可以提高基板表面的清洗效果。因此，即使在大型化基板的场合下，也可以提供适用于例如清洗处理或显影处理的处理液供给喷管及基板处理装置。

附图说明

图1是表示具有本发明的处理液供给喷管的基板处理装置的一个实施方式的侧视图。

图2是表示一个喷管半体的对接面的图。

图3是图2的主要部分的放大图。

图4是说明从喷管喷出的处理液的偏摆方向的图。

图5是说明从喷管喷出的处理液相对于被输送的基板的偏摆方向的图。

图6是表示清洗方法的一个例子的图。

附图符号说明：

1辊子                2清洗液供给喷管

2a、2b喷管半体       3清洗液的供给通道

4水平方向供给通道    5上下方向供给通道

6节流部              7清洗液供给孔

8上部凸部            9中间凸部

10下部凸部           11空气供给孔

12、13流道           14狭缝状喷出口

15基板清洗装置       16突缘

G玻璃基板

具体实施方式

以下参照附图说明本发明的实施方式。图1是表示具有本发明涉及的处理液供给喷管的基板处理装置的一个实施方式的侧视图。图2是表示一个喷管半体的对接面的图，图3(a)以及(b)是图2的主要部分的放大图。图4(a)以及(b)是说明从喷管中喷出的处理液的偏摆方向的图，图5是说明从喷管喷出的处理液相对于被输送的基板的偏摆方向的图。另外，在以下的实施方式中，说明将本发明应用于向基板喷出清洗液的清洗液供给喷管以及具有该清洗液供给喷管的基板清洗装置的情况。

如图1所示，本实施方式涉及的基板清洗装置15具有：输送玻璃基板G的多个辊子1；在这些辊子1的上方，相对于基板G垂直配置的供给清洗液的清洗液供给喷管2。

在这样的结构的基板清洗装置15中，当输送玻璃基板G时，从清洗液供给喷管2供给到玻璃基板G上的清洗液，向着与玻璃基板G的输送方向相反的方向相对地流动。

并且，在不输送玻璃基板G的情况下，也可以使清洗液供给喷管2移动。

如图1～图3所示，清洗液供给喷管2是喷管半体2a和喷管半体2b对接接合的结构。并且，在一个喷管半体2a和另一个喷管半体2b的对接面上形成有清洗液的供给通道3，且该清洗液的供给通道3是由在喷管上部横向延伸的水平方向供给通道4；以及从该水平方向供给通道4向下方分支的多个上下方向供给通道5构成。

在水平方向供给通道4上，以规定间隔形成有从外部向水平方向供给通道4内供给清洗液的供给孔7，在水平方向供给通道4和上下方向供给通道5之间形成有节流部6。

并且，在本实施方式中，特别是在至少一个喷管半体的对接面上，设置有将从供给通道中流下的处理液进行左右分配的凸部。

具体而言，在喷管半体2a的对接面的、从水平方向供给通道4向下方分支的多个上下方向供给通道5中，例如在上部形成有凸部(上部凸部)8，在中间部形成有凸部(中间凸部)9，在下部形成有凸部(下部凸部)10。

中间凸部9分别形成为左右一对，在中间凸部9和上部凸部8之间，开设有吹入清洁的干燥空气的空气供给孔11。并且，各凸部(8、9、10)是隔开规定间隔来形成的，形成在下部凸部10左右的流道12及流道13因突缘16而缩小。

将像这样形成了凸部(8、9、10)的一个喷管半体2a的对接面与未形成凸部的另一个喷管半体2b的对接面进行对接，由此构成清洗液供给喷管2。

下面详细说明实际中从清洗液被供给到水平方向供给通道4内，直至喷向玻璃基板G表面的过程。

首先，由供给孔7供给的清洗液充满水平方向供给通道4，并经由节流部6进入上下方向供给通道5内。

进入了上下方向供给通道5内的清洗液，由上部凸部8左右分开。此后，由于从空气供给孔11向该被左右分开了的清洗液吹入空气(优选为干燥冷却空气)，因此清洗液的流速由于该空气而被加速。

然后，含有上述空气的清洗液，被中间凸部9、9部分再次左右大幅度分开，进而通过形成在下部凸部10的左右的流道12、13，从形成于喷管下端的狭缝状喷出口14向玻璃基板G表面喷出。

这里，关注从流道12、13中通过的清洗液。

从流道12、13中通过的清洗液的方向和流量，由上部凸部8、中间凸部9及下部凸部10的形状所控制，即使流道12、13的截面积相等也会产生不均衡。

例如，在图3(a)中，流道12的流量大于流道13的流量，并偏向左侧(参照图中箭头X)。由于在该状态下流道13的压力低于流道12的压力，因此为了纠正压力，接下来流道13的流量增大。其结果是如图3(b)所示偏向右侧(参照图中箭头Y)。

通过使该现象连续发生，由清洗液供给喷管2向玻璃基板G表面喷出的清洗液将反复图4(a)及图4(b)所示的状态。即，由清洗液供给喷管2向玻璃基板G表面喷出的清洗液，沿狭缝状喷出口14左右往返运动。

并且，此时玻璃基板G在与狭缝状喷出口14的长度方向正交的方向输送，因此如图5所示，来自清洗液供给喷管2的清洗液，在与玻璃基板G的输送方向相反的方向，且边左右偏摆边喷出(参照图中箭头C)，由此可以有效地除去附着在玻璃基板G表面的细微粒子。

即，例如在只是由狭缝状喷出口14向玻璃基板G表面喷出清洗液的场合下，如图5所示，仅通过与基板G的输送方向(参照图中箭头A)相同的线轴(X轴)上的清洗液液流的作用力(参照图中箭头B)来进行清洗。

然而，在使用了本实施方式的清洗装置15的场合下，如图5所示，可以通过与玻璃基板G的输送方向(参照图中箭头A)交叉的线轴(Y轴)上的清洗液液流的作用力(参照图中箭头C)来进行清洗。

由此，利用这样的均匀交叉的清洗液的作用力，与仅通过相同线轴(X轴)上的清洗液液流的作用力(参照图中箭头B)进行清洗的场合相比较，可以大幅提高清洗效果。

根据本实施方式，如上所述，可以使由清洗液供给喷管2向玻璃基板G表面喷出的清洗液，沿狭缝状喷出口14左右往返运动。

由此，在构成具有这样的清洗液供给喷管2的基板清洗装置15，且实际中使作为处理液的清洗液流下的场合下，通过如上所述的清洗液的左右的往返运动，与例如以往的从基板下面施加超声波振动的场合相比较，可以进一步提高对附着在基板上的粒子的清洗效果(除去效果)。

并且，即使是例如大型化基板，也不会发生例如超声波局部变弱的情况，通过如上所述的清洗液的左右往返运动，可以将附着于基板的粒子无遗漏地清洗干净。

并且，无需设置例如超声波发生器，从而可以降低成本。

另外，根据本实施方式，在上下方向供给通道5的中途开设有空气供给口11，在实际中使清洗液喷到玻璃基板G上时，由于通过空气供给口11提供空气，因此可以使处理液的流速加快，能大幅提高清洗效果。

在上述的实施方式中，如图3所示，对将设置于上下方向供给通道5内的凸部分为上部、中间部及下部这三段的情况进行了说明，但凸部的排列并不局限于此，可以考虑各种各样的方式。

另外，在上述实施方式中，说明了在一个喷管半体2a的对接面上设置了凸部的情况，但也可以在两个喷管半体2a及2b的对接面上形成凸部，而不仅是在一个对接面上。

并且，在上述的实施方式中，作为基板的粒子的除去方法说明了使用清洗液的场合，但也可以考虑不使用例如清洗液而只使用气体(空气)的方法。

此时，在上述的清洗液供给喷管2中，例如可以采用由水平方向供给通道4的供给孔7导入气体的结构。

由此，可以与如上所述的清洗液液流一样，将气体喷到玻璃基板G表面，从而除去基板G上的细微的粒子。

并且，通过使用干燥空气、或臭氧空气或相关气体作为气体(空气)，能提高对细微粒子的清洗力。另外，通过使用离子化气体作为气体，也可以增加去静电功能。

在上述的实施方式中，说明了使用垂直配置的处理液供给喷管2的情况，但作为处理液供给喷管2并不限于该结构，也可以使用其上部倒向前方、倾斜配置的处理液供给喷管2。

此时，可以使清洗液在与基板G的输送方向相反的方向平滑地流动。

另外，在上述实施方式中，虽然是将空气混合在清洗液中来加快流速，但也可以不混入空气。即使是在该场合下，也可以使从清洗液供给喷管2喷到玻璃基板G表面的清洗液，沿狭缝状喷出口14做左右往返运动，与例如以往的从基板下面施加超声波振动的场合相比较，可以提高对附着在基板上的粒子的清洗效果。

并且，通过加大清洗液的流量，可以提高清洗液的往返运动的流速(速度)，这样可以提高清洗力。

另外，在上述实施方式中，说明了使用清洗液作为处理液的场合，但根据使用用途的不同也可以使用显影液。在该场合下，可以实现形成在基板上的膜等的均匀显影处理。

本发明并不局限于上述实施方式，只要是在不脱离本发明主旨的范围内，可以采取其它各种结构。

Claims (4)

1.一种处理液供给喷管，在下端部形成有狭缝状喷出口，其特征在于，

该处理液供给喷管，通过接合两个半体而形成与上述狭缝状喷出口连通的处理液的供给通道，在至少一个半体的对接面上，设置有对从上述供给通道流下的处理液进行左右分配的凸部。

2.根据权利要求1所述的处理液供给喷管，其特征在于，

上述供给通道包括：开设有处理液供给口的水平方向供给通道、以及从该水平方向供给通道向下方分支的多个上下方向供给通道，上述凸部设置在该上下方向供给通道上。

3.根据权利要求1或2所述的处理液供给喷管，其特征在于，

在上述供给通道的中途开设有空气供给口。

4.一种基板处理装置，其中，权利要求1至权利要求3所述的处理液供给喷管配置于输送路径的上方，上述处理液供给喷管的狭缝状喷出口与上述基板的宽度方向是平行配置的。

Images